用于对真空泵排出口监测反应副产物的沉积物的装置和方法制造方法及图纸

一种用于对真空泵(1；100)的排出口(7)监测反应副产物的沉积物的装置(200)，其特征在于，该装置包括：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对真空泵排出口监测反应副产物的沉积物的装置和方法


[0001]本专利技术涉及用于对真空泵排出口监测反应副产物的沉积物的装置和方法。本专利技术还涉及一种设置有所述监测装置的真空泵。

技术介绍

[0002]在真空应用中，特别是在半导体工业或薄膜沉积工艺中，真空泵输送各类气体和蒸发物质，由于压力或温度条件的变化或化学反应性质的变化，这些气体和蒸发物质可能会沉积在真空泵的内表面上。
[0003]反应副产物的沉积物可以是固体、聚合物或甚至粉尘。这些沉积物往往特别是积聚在真空泵的高压区或冷区中。它们减小了气体通过截面，这会降低泵送性能。气体通过截面尺寸的减小还产生压力升高，这会通过级联效应引起更大的副产物沉积。
[0004]因此，必须安排定期维护以经常清洁真空泵。然而，这种维护与生产率要求不相容。因此寻求监测真空泵中沉积物的形成，以便尽可能多地分隔维护操作之间的间隔。然而，困难之一在于如果不停止真空泵以对其完全或部分拆卸，就不可能观察真空泵的内部。此外，在某些应用中，真空泵内部暴露于开放空气可能是危险的。
[0005]许多已知的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于对真空泵(1；100)的排出口(7)监测反应副产物的沉积物的装置(200)，其特征在于，该装置(200)包括：
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热式流量计(20)，该热式流量计包括：
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在所述排出口(7)处放置在沿气体流动方向的上游位置的第一温度探针(23)，
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放置在下游位置的第二温度探针(24)，
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插设在温度探针(23，24)之间的加热元件(25)，
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将温度探针(23，24)和所述加热元件(25)彼此隔绝的基板(26)，和
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处理单元(22)，该处理单元被配置为通过热式流量计(20)执行测量，以便根据由热式流量计(20)测定的流量与由真空泵(1；100)泵送的气体的流量的估计值之间的差异，来确定在所述排出口(7)处的反应副产物的沉积物的存在。2.根据前一项权利要求所述的监测装置(200)，其特征在于，所述热式流量计(20)是MEMS部件。3.根据前述权利要求中任一项所述的监测装置(200)，其特征在于，所述监测装置(200)还包括被配置为确定所述真空泵(1；100)的排出口(7)处的压力的压力传感器(21)，所述处理单元(22)被配置为基于与电机(16)的功率参数和所述压力传感器(21)的测量值有关的信息来估计泵送气体流量。4.根据权利要求3所述的监测装置(200)，其特征在于，所述真空泵(1；100)的电机(16)的功率参数是电流。5.根据前述权利要求中任一项所述的监测装置(200)，其特征在于，所述处理单元(22)被配置为与借助于所述真空泵(1)减压的处理室(102)通信，以估计泵送气体流量。6.一种真空泵(1；100)，包括：
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定子(2)，所述定子(2)包括入口孔(6)和出口孔(8)，
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至少一个转子(3；300)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：神原久徳，
申请(专利权)人：普发真空公司，
类型：发明
国别省市：