System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 真空泵、真空泵的轴承保护构造以及真空泵的旋转体制造技术_技高网

真空泵、真空泵的轴承保护构造以及真空泵的旋转体制造技术

技术编号:41330362 阅读:35 留言:0更新日期:2024-05-13 15:09
本发明专利技术提供一种能够在磁轴承无法控制时降低旋转体作用在触底轴承上的动能的真空泵。真空泵(100)具备设置有旋转叶片(102)的旋转体(103)、设置在旋转体的中心的转子轴(113)、悬浮支承转子轴的磁轴承(114)、被设置为与转子轴之间存在间隙、且在磁轴承无法控制时支承转子轴的触底轴承(155,156),具有保护触底轴承的轴承保护构造,轴承保护构造由设置在旋转体和旋转体周边的部件的至少一方的突出部(160)构成,在转子轴向触底轴承发生触底时,旋转体经由突出部与旋转体周边的部件接触,从而降低旋转体作用在触底轴承上的动能。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及真空泵、真空泵的轴承保护构造、以及真空泵的旋转体。


技术介绍

1、一般,在以涡轮分子泵等为代表的真空泵中,设置在旋转体中心的旋转轴被磁轴承支承。为了在由于停电等造成磁轴承无法控制的情况下,防止高速旋转的旋转轴与磁轴承直接接触而造成真空泵破损,设置触底轴承(参照专利文献1)。

2、[专利文献1]日本特开2000-346068号公报


技术实现思路

1、近年,由于伴随着泵工作量的增加而出现的大型化、伴随着耐高温的要求而出现的材料向高耐热性材料的变更,而使得旋转体的重量变重,与之相随的是在磁轴承无法控制时触底轴承(保护轴承)承受的旋转体的动能也变大。作为用于吸收更大的动能的一种方法,虽然只要将触底轴承也大型化即可,但因为将触底轴承大型化后真空泵整体也会大型化,所以从设计上来讲不能称之为优选方案。

2、鉴于此,本专利技术的目的在于,提供一种真空泵、真空泵的轴承保护构造、以及真空泵的旋转体,所述真空泵、真空泵的轴承保护构造、以及真空泵的旋转体能够在磁轴承无法控制时减少旋转体作用在触底轴承上的动能。

3、为了达到上述目的,本专利技术的一方案是一种真空泵,具备:旋转体,所述旋转体设置有旋转叶片;转子轴,所述转子轴设置在所述旋转体的中心;磁轴承,所述磁轴承悬浮支承所述转子轴;触底轴承,所述触底轴承被设置为与所述转子轴之间存在间隙,在所述磁轴承无法控制时支承所述转子轴,其特征在于,具有保护所述触底轴承的轴承保护构造,所述轴承保护构造由设置在所述旋转体和所述旋转体周边的部件的至少一方的突出部构成,所述转子轴向所述触底轴承发生触底时,所述旋转体经由所述突出部与所述旋转体周边的部件接触,从而降低所述旋转体作用在所述触底轴承上的动能。

4、并且,优选在上述方案中,具备配置在所述旋转体的内周侧且所述转子轴的外周侧的、作为所述旋转体周边的部件的定子柱,所述突出部设置在所述旋转体的内周面及所述定子柱的外周面中的至少一方。。

5、并且,优选在上述方案中,在所述旋转体的内周面与所述定子柱的外周面之间形成有供清洗气体流动的清洗气体流路,所述突出部设置在所述清洗气体流路内。

6、并且,优选在上述方案中,作为所述旋转体周边的部件或者该部件的一部分,在所述旋转体的背面侧配置防止排出气体乱流的背叶片,所述突出部设置在所述旋转体的背面及所述背叶片中的至少一方。

7、并且,优选在上述方案中,在比所述突出部靠下游侧的位置处设置收集部,所述收集部收集所述旋转体与所述旋转体周边的部件接触时产生的污染物。

8、并且,优选在上述方案中,所述突出部配置在所述旋转体的下游侧的端部的附近。

9、并且,优选在上述方案中,设置有多个所述突出部,所述多个突出部在圆周方向上等间隔地配置。

10、并且,优选在上述方案中,所述突出部的表面具有比所述旋转体及所述旋转体周边的部件低的摩擦特性。

11、并且,为了达到上述目的,本专利技术的另一方案是一种真空泵的轴承保护构造,所述真空泵具备:旋转体,所述旋转体设置有旋转叶片;转子轴,所述转子轴设置在所述旋转体的中心;磁轴承,所述磁轴承悬浮支承所述转子轴;触底轴承,所述触底轴承被设置为与所述转子轴之间存在间隙,在所述磁轴承无法控制时支承所述转子轴,所述轴承保护构造用于所述真空泵,保护所述触底轴承,其特征在于,所述轴承保护构造由设置在所述旋转体和所述旋转体周边的部件的至少一方的突出部构成,所述转子轴向所述触底轴承发生触底时,所述旋转体经由所述突出部与所述旋转体周边的部件接触,从而降低所述旋转体作用在所述触底轴承上的动能。

12、并且,为了达到上述目的,本专利技术的另一方案是一种真空泵的旋转体,所述真空泵的旋转体由设置在真空泵中的磁轴承悬浮支承,具备旋转叶片和设置在所述旋转叶片的中心的转子轴,其特征在于,所述真空泵具有触底轴承,所述触底轴承被设置为与所述转子轴之间存在间隙,在所述磁轴承无法控制时支承所述转子轴,所述旋转体具有保护所述触底轴承的轴承保护构造,所述轴承保护构造由突出部构成,所述突出部在所述转子轴向所述触底轴承发生触底时,通过与所述旋转体周边的部件接触,降低所述旋转体作用在所述触底轴承上的动能。

13、根据本专利技术,能够在磁轴承无法控制时降低旋转体作用在触底轴承上的动能。另外,上述以外的技术问题、方案及效果通过以下的实施方式的说明而得以明确。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空泵,具备:

2.根据权利要求1所述的真空泵,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的真空泵,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的真空泵,其特征在于,

5.根据权利要求1至4中任一项所述的真空泵,其特征在于,

6.根据权利要求1至5中任一项所述的真空泵,其特征在于。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的真空泵,其特征在于,

8.根据权利要求1至7中任一项所述的真空泵,其特征在于,

9.一种真空泵的轴承保护构造,所述真空泵具备:

10.一种真空泵的旋转体,所述真空泵的旋转体由设置在真空泵中的磁轴承悬浮支承,具备旋转叶片和设置在所述旋转叶片的中心的转子轴,其特征在于,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种真空泵,具备:

2.根据权利要求1所述的真空泵,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的真空泵,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的真空泵,其特征在于,

5.根据权利要求1至4中任一项所述的真空泵,其特征在于,

6.根据权利要求1至5中任一项所述的真空泵,其特征在于。

...

【专利技术属性】
技术研发人员:山口俊树
申请(专利权)人:埃地沃兹日本有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1