本实用新型专利技术涉及一种狭缝风刀显影控制装置，包括显影机腔体以及显影机腔体内部设置的旋转显影组件和狭缝风刀组件，所述旋转显影组件包括设置于上部的喷头模块和旋转模块，所述喷头组件包括显影液喷头和去离子水喷头，所述旋转组件包括旋转马达和设置于旋转马达上的旋转平台，所述狭缝风刀组件设置于显影机腔体上部，斜对着旋转平台。本实用新型专利技术增加了狭缝风刀，通过干燥空气将显影液和水去除，增强去除效果，配合显影降低转速，减少光刻胶底部的药液渗入。药液渗入。药液渗入。
【技术实现步骤摘要】
狭缝风刀显影控制装置
[0001]本技术涉及一种狭缝风刀显影控制装置，属于显影机
技术介绍
[0002]光刻工艺是半导体芯片制造中非常重要的一道工艺，它是借助光致抗蚀剂 (又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基板上，一般要经历基板表面清洗烘干、涂底、光刻胶涂布、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。其中，目前微流控芯片制作过程中需要进行手动显影，手动显影不仅效率低下，而且显影时间和效果不可控，操作人员也容易对芯片/硅片造成人为损坏。现有显影机在显影和水洗时多使用旋转离心来甩干，而一旦速度过大，则甩出液体容易渗入到光刻胶底部造成剥落或者膨胀变形。
技术实现思路
[0003]技术目的：针对上述问题，本技术的目的是提供一种狭缝风刀显影控制装置，增加了狭缝风刀，通过干燥空气将显影液和水去除，增强去除效果，配合显影降低转速，减少光刻胶底部的药液渗入。
[0004]技术方案：一种狭缝风刀显影控制装置，包括显影机腔体以及设置于显影机腔体内部的旋转显影组件和狭缝风刀组件，所述旋转显影组件包括旋转平台、带动所述旋转平台转动的旋转马达、设置于所述旋转平台上方的显影液喷头和去离子水喷头，所述显影液喷头和去离子水喷头均朝向旋转平台，所述狭缝风刀组件设于显影机腔体上方，能使底部吹出线状风，对旋转平台上药液进行吹扫。
[0005]进一步的，所述狭缝风刀组件包括两个相对拼合成为整体的风刀，每个风刀包括风刀主体，所述风刀主体上部和下部分别设有进风凹槽和狭长凹槽，所述进风凹槽侧面还设有进气孔槽；所述两个风刀的进风凹槽拼合形成进风空腔，所述两个风刀的狭长凹槽拼合形成狭长出风道，所述两个风刀的进气孔槽拼合形成进气通孔，所述进风凹槽的深度比狭长凹槽的深度要深。
[0006]进一步的，所述进风空腔和狭长出风道的长度为10~50cm，所述进风空腔宽度为0.5~5cm，所述狭长出风道的宽度为1~4mm。
[0007]进一步的，所述进气通孔在进风空腔两侧对称设置。
[0008]进一步的，所述进风空腔两侧各设两个所述进气通孔。
[0009]进一步的，两所述风刀之间设置有密封条。
[0010]进一步的，所述风刀的出口方向斜向对着旋转平台。
[0011]进一步的，所述风刀与显影机腔体内壁夹角为30
°
。
[0012]有益效果：本技术与现有技术相比，其显著优点是：增加了一道狭缝风刀，通过干燥空气将显影液和水去除，增强去除效果，配合显影降低转速，减少光刻胶底部的药液渗入。防止甩出液体渗入到光刻胶底部造成的剥落或者膨胀变形。
附图说明
[0013]图1是本技术的外观透视图；
[0014]图2是本技术的狭缝风刀组件外观示意图；
[0015]图3是本技术的狭缝风刀组件侧视图；
[0016]图4是本技术的风刀内部正视图；
[0017]图5是本技术的狭缝风刀组件中部截面示意图
[0018]图中：1—显影机腔体，2—显影液喷头，3—狭缝风刀组件，4—旋转马达，5—去离子水喷头，6—风刀，61—进风空腔，611—进风凹槽，62—狭长出风道，621—狭长凹槽，63—进气通孔，631—进气孔槽，7—旋转平台，8—螺栓。
具体实施方式
[0019]下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本技术，应理解这些实施例仅用于说明本技术而不用于限制本技术的范围，在阅读了本技术之后，本领域技术人员对本技术的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
[0020]如图1所示，一种狭缝风刀显影控制装置，包括显影机腔体1以及设置于显影机腔体1内部的旋转显影组件和狭缝风刀组件3，所述旋转显影组件包括旋转平台7、带动所述旋转平台7转动的旋转马达4、设置于所述旋转平台7上方的显影液喷头2和去离子水喷头5，所述显影液喷头2和去离子水喷头5均朝向旋转平台7，所述狭缝风刀组件3位于显影机腔体1上方，能使底部吹出线状风，对旋转平台7上药液进行吹扫。设置狭缝风刀组件3可以在旋转模块旁边加快药品甩干，防止药品渗下。所述旋转马达4带动旋转平台7进行旋转，产生离心力。所述显影液喷头2和去离子水喷头5正对旋转平台7进行喷射。所述显影液喷头2和去离子水喷头5进行喷洒药品。
[0021]如图2和图3所示，所述狭缝风刀组件3包括两个风刀6，所述风刀6包括风刀主体，如图4所示，每个风刀主体上部设有进风凹槽61，下部为狭长凹槽62，所述进风凹槽61侧面设有进气孔槽63。如图3所示，两个所述风刀6相对拼合在一起，所述两风刀6通过一般3个螺栓8拼在一起固定，所述进风凹槽61形成进风空腔611，所述狭长凹槽62形成狭长出风道621，所述进气孔槽63形成进气通孔631。狭长出风道621为片状长缝，开缝至外部，所述进风凹槽61宽度为所述进风空腔611宽度的一半。螺栓8穿过进风空腔611，保持进风空腔611内气体不渗出，气体完整只从狭长出风道621喷出。外部提供经过压缩的空气，通常是厂务供应，或者空压机，由此快速进入进风空腔611，由于进风空腔611内空间小，外部空气通过进气通孔631进入产生压缩，再通过狭长出风道621，由于狭长出风道621狭小，所以喷出气流大，可以达到快速甩干的效果。通过两边的进气通孔631进入较多气体，再仅通过狭长出风道621排出，线状风喷出，有助于加快甩干速度。所述进风凹槽61较狭长凹槽62深，一般进风凹槽61出风方向的长度较狭长凹槽62长，使得进风空腔611其中空间较大，一般所述进风凹槽61和狭长凹槽62长度相同。
[0022]如图3~5，其中高和长度方向如图所示，如图5所示为狭缝风刀组件3从中间切面的截面图，由此宽度W方向为狭长出风道621的狭长方向，为长缝，通过较窄较狭长的宽度，将风送出，保证风力足够大。所述进风空腔611和狭长出风道621的长度L为10~50cm，所述进风空腔611高度H为2~14cm，宽度为0.5~5cm，所述狭长出风道621的高度为1~11cm，宽度为1~
4mm。实施例中的进风空腔611尺寸为长30cm
±
2mm，宽1cm
±
2mm，高8cm
±
2mm，狭长出风道621长30cm
±
2mm，宽4mm
±
2mm，高3cm
±
2mm。一般进风空腔611和狭长出风道621的长度相同，其他尺寸在范围中也可适用。高度H不作严格要求。
[0023]如图4所示，所述进气通孔631在进风空腔611两侧对称设置。所述进风空腔611两侧各设一个或两个所述进气通孔631。对称设置可以使得出风更均匀，不易因为一侧有孔，另一侧无孔的风力较小。
[0024]两所述风刀6之间设置有密封条。可以进一步保证两风刀6间不泄露气体，密封空间，气体喷出时风力更大。
[0025]如图1所示，所述风刀6的出口方向斜向对着旋转平台7。所述风刀6与显影机腔本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种狭缝风刀显影控制装置，其特征在于：包括显影机腔体（1）以及设置于显影机腔体（1）内部的旋转显影组件和狭缝风刀组件（3），所述旋转显影组件包括旋转平台（7）、带动所述旋转平台（7）转动的旋转马达（4）、设置于所述旋转平台（7）上方的显影液喷头（2）和去离子水喷头（5），所述显影液喷头（2）和去离子水喷头（5）均朝向旋转平台（7），所述狭缝风刀组件（3）设于显影机腔体（1）上方，能使底部吹出线状风，对旋转平台（7）上药液进行吹扫。2.根据权利要求1所述的狭缝风刀显影控制装置，其特征在于：所述狭缝风刀组件（3）包括两个相对拼合成为整体的风刀（6），每个风刀（6）包括风刀主体，所述风刀主体上部和下部分别设有进风凹槽（61）和狭长凹槽（62），所述进风凹槽（61）侧面还设有进气孔槽（63）；所述两个风刀的进风凹槽（61）拼合形成进风空腔（611），所述两个风刀的狭长凹槽（62）拼合形成狭长出风道（621），所述两个风刀的进气孔槽（63）拼合形成进气通...
【专利技术属性】
技术研发人员：康凯，陈旺，康威，覃伯成，
申请(专利权)人：漳州思美科新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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