一种消光膜及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供一种消光膜及其制备方法和应用，所述消光膜包括基膜层，所述基膜层的两侧分别设置耐刮层和安装胶层，所述耐刮层中包括组分A，所述安装胶层中包括组分B，所述组分A和组分B质量之比为：0.5:1

【技术实现步骤摘要】
一种消光膜及其制备方法和应用


[0001]本申请涉及消光耐刮膜领域，尤其涉及一种消光膜及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]随着城市现代化建设进程不断加速，越来越多建筑物采用金属外露结构与大块玻璃的装饰，在带来金属光泽、明亮装饰与美观的同时也产生了一系列问题。大量太阳光直接照射在光滑且明亮的玻璃幕墙和金属外立面上，经过玻璃幕墙和金属外立面的镜面反射产生的强烈反光与眩光，严重干扰附近居民、行人、司机及相关作业人员的正常工作生活，破坏城市人居环境，严重时将带来一系列交通和质量安全隐患。
[0003]现有减反施工工艺包括：金属构件外喷哑光漆处理、金属反光表面磨砂粗糙处理、玻璃镀膜处理等，但现有工艺对于施工环境要求苛刻、难以在已建成建筑上进行二次施工，并且存在处理过程污染大，处理后产品耐候性差的缺点。因此开发一款具有高耐候的耐刮消光膜，且具备在已建成建筑上安全施工能力的产品具有十分重要的意义。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种消光膜及其制备方法和应用，以解决上述问题。
[0005]为实现以上目的，本申请采用以下技术方案：
[0006]一种消光膜，包括基膜层，所述基膜层的两侧分别设置耐刮层和安装胶层，所述耐刮层中包括组分A，所述安装胶层中包括组分B，所述组分A和组分B质量之比为：0.5:1
‑
20:1。
[0007]进一步地，所述耐刮层的厚度为：所述耐刮层的厚度为：1μm
‑
10μm；所述基膜层厚度为：16μm
‑
200μm；所述安装胶层厚度为：2μm
‑
50μm。
[0008]进一步地，所述组分A包括改性SiO2，所述组分A包括改性SiO2，所述组分A中所述改性SiO2百分含量为：90％
‑
99％，所述组分A平均粒径为5nm
‑
10nm；
[0009]优选地，所述组分A还包括高岭石、滑石粉中的一种或两种。
[0010]进一步地，所述组分B中包括无机颜料，所述无机颜料包括：金属氧化物、铬酸盐、碳酸盐、硫酸盐、硫化物中的一种或多种，所述组分B中所述无机颜料百分含量为：1％
‑
20％；
[0011]优选地，所述无机颜料为TiO2、ZnO。
[0012]本专利技术同时提供一种消光膜的制备方法，包括以下步骤：
[0013]将组分A、耐刮剂、溶剂混合制备得到第一混合物，将所述第一混合物涂布于所述基膜层得到所述耐刮层；
[0014]将组分B、紫外吸收剂、胶粘剂混合制备得到第二混合物，将所述第二混合物涂布于基膜层得到安装胶层。
[0015]优选地，所述紫外吸收剂为邻羟基苯甲酸苯酯、苯并三氮唑、单苯甲酸间苯二酚酯、六甲基磷酰三胺中一种或多种。
[0016]优选地，所述胶粘剂为聚氨酯胶、聚丙烯酸甲酯中的一种或两种。
[0017]进一步地，所述第一混合物中按质量份数计包括：0.1
‑
10份所述组分A、30
‑
50份所述耐刮剂、40
‑
60份所述溶剂，将所述第一混合物通过第一涂布装置涂布于所述基膜层后进行烘干和紫外光固化，所述烘干温度为：90sec
‑
130sec烘干时长为：30sec
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120s；所述紫外光强度为：50
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200mj/cm2，紫外光照时长为：2sec
‑
30sec。
[0018]所述第二混合物还包括染料，所述第二混合物中按质量份数计包括：0.1
‑
10份所述组分B、0.1
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5份所述紫外吸收剂、5
‑
10份所述胶粘剂、5
‑
10份所述染料，所述第二混合物通过第二涂布装置涂布于基膜层。
[0019]所述第二混合物在打入液槽前，对所述第二混合物的中层液进行检测。所述中层液为液筒1/4
‑
3/4处的液体。
[0020]所述安装胶层远离所述基膜层一侧设置有离型膜。
[0021]此外，本专利技术还公开了消光膜应用，将所述消光膜粘贴于建筑物、汽车的表面。
[0022]与现有技术相比，本申请的有益效果包括：
[0023]本申请所述的消光膜的耐刮层和安装胶层中分别加入组分A和组分B，在保证消光膜的消光特性的同时，具有高度抗刮特性。同时，具有易于安装，耐候性好，安装过程无污染。应用于建筑表面后，不仅具有优秀的的消光效果，并且能够对建筑物表面能起到良好的保护作用，并且后续更换时不易残留胶粘剂。
[0024]本申请所述的消光膜的制备工艺：相较于传统工艺，本工艺操作简单，工艺参数可控，效果可靠。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对本申请范围的限定。
[0026]图1为消光颗粒SEM图；
[0027]图2为消光耐刮层表面消光颗粒分布图；
[0028]图3为消光耐刮膜成品表面EDS能谱图；
[0029]图4位消光耐刮膜层状结构图。
[0030]附图标记说明：1、耐刮层；2、基膜层；3、安装胶层；4、离型膜。
具体实施方式
[0031]如本文所用之术语：
[0032]狭缝涂布(SlotDie)是一种涂布技术，用于将溶液、浆液或挤出薄膜涂布到通常平坦的基材上。
[0033]微凹涂布(Microgravure，MG)也称微凹版涂布，微凹版涂布方式使用一个凹版辊，凹版辊部分浸在供料盘里，旋转的辊带起涂料，经过一个柔性刚刮刀定量后，由反向运动基材带走涂布液，实现均匀薄层涂布。
[0034]“由
……
制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合物、步骤、方法、
制品或装置不必仅限于那些要素，而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。
[0035]连接词“由
……
组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由
……
组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时，其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。
[0036]当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1～5”时，所描述的范围本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种消光膜，其特征在于，包括基膜层，所述基膜层的两侧分别设置耐刮层和安装胶层，所述耐刮层中包括组分A，所述安装胶层中包括组分B，所述组分A和所述组分B质量之比为：0.5:1
‑
20:1。2.根据权利要求1所述的消光膜，其特征在于，所述耐刮层的厚度为：1μm
‑
10μm；所述基膜层厚度为：16μm
‑
200μm；所述安装胶层厚度为：2μm
‑
50μm。3.根据权利要求1所述的消光膜，其特征在于，所述组分A包括改性SiO2，所述组分A中所述改性SiO2百分含量为：90％
‑
99％，所述组分A平均粒径为5nm
‑
10nm；优选地，所述组分A还包括高岭石、滑石粉中的一种或两种。4.根据权利要求1所述的消光膜，其特征在于，所述组分B中包括无机颜料，所述无机颜料包括：金属氧化物、铬酸盐、碳酸盐、硫酸盐、硫化物中的一种或多种，所述组分B中所述无机颜料百分含量为：1％
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20％优选地，所述无机颜料为TiO2、ZnO。5.一种权利要求1
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4所述消光膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将所述组分A、耐刮剂和溶剂混合制备得到第一混合物，将所述第一混合物涂布于所述基膜层得到所述耐刮层；将所述组分B、紫外吸收剂和胶粘剂混合制备得到第二混合物，将所述第二混合物涂布于基膜层得到安装...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兰芳，王晨鑫，赵强国，丁锋，王聪聪，张婷婷，
申请(专利权)人：常州山由帝杉防护材料制造有限公司，
类型：发明
国别省市：