一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，包括工作台主体；所述工作台主体下端的前后两侧皆固定连接有支撑板，所述支撑板的下端固定连接有安装底座，所述工作台主体内设置有液氮冷却组件，所述工作台主体的中部设置有顶出机构。该用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，通过设置有液氮冷却组件，通过单向进气阀向液氮储存盒内注入液氮，液氮温度较低，通过导热铜板将低温散发出去，从而在离子束蚀刻时可以对工作台主体和晶圆硅片进行降温，相对于传统的降温方式，该液氮冷却组件体积更小，实用性更高。实用性更高。实用性更高。

【技术实现步骤摘要】
一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台


[0001]本技术涉及刻蚀
，具体为一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台。

技术介绍

[0002]离子束刻蚀机即等离子刻蚀机，等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，离子束刻蚀工作台即离子束刻蚀机内用于放置晶圆硅片的工作台，在晶圆硅片放置在工作台上后，通过离子束对晶圆表面进行刻蚀；
[0003]目前传统的离子束刻蚀时，由于离子束温度较高，会导致工作台和晶圆硅片温度较高，需要对其降温，目前常见的降温方式为液冷，且体积大，需要较高的密封性，降低其实用性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，以解决上述
技术介绍
中提出的目前传统的离子束刻蚀时，由于离子束温度较高，会导致工作台和晶圆硅片温度较高，需要对其降温，目前常见的降温方式为液冷，且体积大，需要较高的密封性，降低其实用性的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，包括工作台主体；所述工作台主体下端的前后两侧皆固定连接有支撑板，所述支撑板的下端固定连接有安装底座，所述工作台主体内设置有液氮冷却组件，所述工作台主体的中部设置有顶出机构；
[0006]所述液氮冷却组件包括液氮储存盒，所述工作台主体的中部安装有液氮储存盒，所述液氮储存盒的上端固定连接有导热铜板，所述导热铜板嵌合在工作台主体的上端，所述液氮储存盒的左右两端分别固定连接有第一连接管和第二连接管，所述第一连接管和第二连接管的外端分别安装有单向进气阀和压力表。
[0007]优选的，所述液氮储存盒的内部设置有多组防变形连接柱，所述防变形连接柱的上下两端分别与导热铜板和液氮储存盒的下端内壁固定连接。
[0008]优选的，所述液氮储存盒下端的右侧固定连接有降压筒，所述降压筒内卡合有活塞，所述活塞的下端固定连接有弹簧，所述弹簧的下端与降压筒的下端内壁固定连接，所述降压筒的中部开设有泄压孔。
[0009]优选的，所述活塞下端的中部固定连接有拉杆，所述拉杆的下端贯穿降压筒的下端并延伸至降压筒的外部，所述拉杆的下端固定连接有拉环。
[0010]优选的，所述顶出机构包括电动伸缩杆，所述工作台主体的中部固定安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的输出轴固定安装有顶起板，所述导热铜板的上端开设有与顶起板相互配合的安装槽，所述顶起板卡合在安装槽内。
[0011]优选的，所述顶起板的上表面粘合有橡胶垫，所述橡胶垫的上表面设置有防滑槽。
[0012]优选的，所述工作台主体上端的内侧开设有定位槽，所述定位槽呈倒漏斗状设计。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0014]1、通过设置有液氮冷却组件，通过单向进气阀向液氮储存盒内注入液氮，液氮温度较低，通过导热铜板将低温散发出去，从而在离子束蚀刻时可以对工作台主体和晶圆硅片进行降温，相对于传统的降温方式，该液氮冷却组件体积更小，实用性更高；
[0015]2、通过设置有顶出机构，在晶圆硅片蚀刻好后，通过控制电动伸缩杆的输出杆伸出，从而将晶圆硅片顶起，从而便于将晶圆硅片取下，提高其实用性。
附图说明
[0016]图1为本技术的立体结构示意图；
[0017]图2为本技术结构正视视剖面局部示意图；
[0018]图3为本技术图2中A处的结构放大示意图；
[0019]图4为本技术工作台主体、支撑板、安装底座和定位槽的立体结构示意图；
[0020]图5为本技术液氮冷却组件和安装槽的立体结构示意图；
[0021]图6为本技术电动伸缩杆、顶起板和橡胶垫的立体结构示意图。
[0022]图中：1、工作台主体；2、支撑板；3、安装底座；411、液氮储存盒；412、导热铜板；413、第一连接管；414、第二连接管；415、单向进气阀；416、压力表；417、降压筒；418、活塞；419、弹簧；420、泄压孔；421、拉杆；422、拉环；423、防变形连接柱；511、电动伸缩杆；512、顶起板；513、安装槽；514、橡胶垫；515、定位槽。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]请参阅图1、图2、图3、图4和图5，本技术提供一种技术方案：一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，包括工作台主体1；工作台主体1下端的前后两侧皆固定连接有支撑板2，支撑板2的下端固定连接有安装底座3，工作台主体1内设置有液氮冷却组件；
[0025]液氮冷却组件包括液氮储存盒411，工作台主体1的中部安装有液氮储存盒411，液氮储存盒411的上端固定连接有导热铜板412，导热铜板412嵌合在工作台主体1的上端，液氮储存盒411的左右两端分别固定连接有第一连接管413和第二连接管414，第一连接管413和第二连接管414的外端分别安装有单向进气阀415和压力表416，单向进气阀415的型号可为QXF
‑
5，压力表416的型号可为Y
‑
M，通过单向进气阀415向液氮储存盒411内注入液氮，液氮温度较低，通过导热铜板412将低温散发出去，从而在离子束蚀刻时可以对工作台主体1和晶圆硅片进行降温，相对于传统的降温方式，该液氮冷却组件体积更小，实用性更高，通过压力表416可以对液氮储存盒411内液氮压力进行显示，液氮储存盒411的内部设置有多组防变形连接柱423，防变形连接柱423的上下两端分别与导热铜板412和液氮储存盒411的下端内壁固定连接，通过防变形连接柱423可以防止液氮储存盒411可以发生形变。
[0026]请参阅图2、图3和图5，为了防止液氮储存盒411内压力过大导致液氮储存盒411损坏，液氮储存盒411下端的右侧固定连接有降压筒417，降压筒417内卡合有活塞418，活塞418的下端固定连接有弹簧419，弹簧419的下端与降压筒417的下端内壁固定连接，降压筒417的中部开设有泄压孔420，在液氮储存盒411内压力过大时，会推动活塞418下移，弹簧419被压缩，当活塞418移动到泄压孔420下侧时，通过泄压孔420会将液氮储存盒411内液氮压力放出，从而防止液氮储存盒411内压力过大导致液氮储存盒411发生爆炸，当液氮储存盒411内的压力降低小于弹簧419的弹力时，此时弹簧419回弹推动活塞418上移，将泄压孔420堵上，防止液氮储存盒411内液氮压力过低导致温度升高，活塞418本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，包括工作台主体(1)；其特征在于：所述工作台主体(1)下端的前后两侧皆固定连接有支撑板(2)，所述支撑板(2)的下端固定连接有安装底座(3)，所述工作台主体(1)内设置有液氮冷却组件，所述工作台主体(1)的中部设置有顶出机构；所述液氮冷却组件包括液氮储存盒(411)，所述工作台主体(1)的中部安装有液氮储存盒(411)，所述液氮储存盒(411)的上端固定连接有导热铜板(412)，所述导热铜板(412)嵌合在工作台主体(1)的上端，所述液氮储存盒(411)的左右两端分别固定连接有第一连接管(413)和第二连接管(414)，所述第一连接管(413)和第二连接管(414)的外端分别安装有单向进气阀(415)和压力表(416)。2.根据权利要求1所述的一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，其特征在于：所述液氮储存盒(411)的内部设置有多组防变形连接柱(423)，所述防变形连接柱(423)的上下两端分别与导热铜板(412)和液氮储存盒(411)的下端内壁固定连接。3.根据权利要求1所述的一种用于液氮背景的离子束刻蚀工作台，其特征在于：所述液氮储存盒(411)下端的右侧固定连接有降压筒(417)，所述降压筒(417)内卡合有活塞(418)，所述活塞(418...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐东山，
申请(专利权)人：北京北方松阳机械技术有限公司，
类型：新型
国别省市：