【技术实现步骤摘要】
排气网的制造方法、等离子体处理装置和排气网
[0001]本专利技术涉及排气网的制造方法、等离子体处理装置和排气网。
技术介绍
[0002]在专利文献1中公开了一种等离子体处理装置，其向处理容器内导入气体来进行等离子体化，对基片进行蚀刻等的处理。在该处理时产生的气体从处理容器内向排气部(排气机构)排出。为了抑制等离子体向排气部的侵入，等离子体处理装置具有由金属形成且与接地电位连接的排气网(网部件)。排气网具有多个在该排气网的厚度方向上贯通的圆形的贯通孔。
[0003]这种排气网的各贯通孔的开口率越大，气体越容易排气，但是，容易发生由等离子体的侵入引起的异常放电。即，排气网的排气性能和放电稳定性为权衡取舍的关系。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2020
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188194号公报。
技术实现思路
[0007]专利技术要解决的问题
[0008]本专利技术提供一种能够同时实现排气性能和放电稳定性的技术。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种排气网的制造方法，所述排气网是在从等离子体处理装置的处理容器排出气体时使该气体通过的排气网，所述排气网的制造方法的特征在于，包括：步骤a，准备多个金属板；步骤b，在所述多个金属板分别形成由多个六边形形状的贯通孔相邻配置而成的蜂窝结构，获得多个薄板蜂窝网；和步骤c，通过以所述多个薄板蜂窝网的所述多个贯通孔相互连通的方式层叠所述多个薄板蜂窝网，并将该多个薄板蜂窝网彼此接合，来制作形成为厚板的所述排气网。2.如权利要求1所述的排气网的制造方法，其特征在于：所述排气网中的所述蜂窝结构的开口率为85％以上。3.如权利要求1或2所述的排气网的制造方法，其特征在于：所述多个贯通孔中的彼此相邻的贯通孔彼此的间隔为0.3mm～0.4mm的范围。4.如权利要求1至3中任一项所述的排气网的制造方法，其特征在于：夹着所述多个贯通孔平行地延伸的一对孔边之间的间隔为所述排气网的厚度的1.4倍～2.0倍的范围。5.如权利要求1至4中任一项所述的排气网的制造方法，其特征在于：在所述步骤c中，通过扩散接合将所述多个薄板蜂窝网彼此接合。6.如权利要求1至5中任一项所述的排气网的制造方法，其特征在于：在所述步骤b中，通过隔着多个蜂窝形状的掩模对所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：田中诚治，增泽健二，远藤一宪，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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