一种掩膜版上光学膜对中性测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种掩膜版上光学膜对中性测量装置，以解决采用接触式测量方式时光学膜对中性测量结果可靠度不高且容易对光学膜造成破坏的技术问题，该测量装置包括定位框体和数显传感器；所述定位框体具有定位部，所述定位部具有相互垂直的第一定位面和第二定位面，所述第一定位面和第二定位面分别用于贴合掩膜版的侧面和底面；所述数显传感器设置于定位框体上，所述数显传感器用于检测其与光学膜侧面的相对距离。本实用新型专利技术能够实现光学膜对中性的非接触测量、测量结果可靠、不存在光学膜被破坏的风险。学膜被破坏的风险。学膜被破坏的风险。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版上光学膜对中性测量装置


[0001]本技术涉及掩膜版制造
，具体而言，涉及一种掩膜版上光学膜对中性测量装置。

技术介绍

[0002]随着掩膜版行业的发展，在掩膜版反复曝光的情况下，为保证曝光良率需保持掩膜版洁净度或者把particle成像进行虚焦，所以需要在掩膜版膜面贴附一层光学膜，光学膜居中性对曝光良率及其重要。在以往的测量方式中，通常采用游标卡尺对光学膜进行直接测量，测量过程中游标卡尺与光学膜会产生接触，游标卡尺在使用过程中还需要施加一定的压力保证游标卡尺与待测目标接触完全，但光学膜的厚度不大，在游标卡尺的使用过程中至少存在以下问题：
[0003](1)、游标卡尺的测量爪与光学膜常未完全接触，测量结果的可靠度不够高。
[0004](2)、在测量爪与光学膜的接触过程中容易对光学膜造成破坏，从而会一定程度的影响产品良率。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的技术问题是如何实现光学膜对中性的非接触测量，目的在于提供一种掩膜版上光学膜对中性测量装置。
[0006]本技术通过下述技术方案实现：本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版上光学膜对中性测量装置，其特征在于，包括定位框体（1）和数显传感器（2）；所述定位框体（1）具有定位部，所述定位部具有相互垂直的第一定位面（11）和第二定位面（81），所述第一定位面（11）和第二定位面（81）分别用于贴合掩膜版（6）的侧面和底面；所述数显传感器（2）设置于定位框体（1）上，所述数显传感器（2）用于检测数显传感器（2）与光学膜（7）侧面的相对距离。2.根据权利要求1所述的掩膜版上光学膜对中性测量装置，其特征在于，所述定位框体（1）中空，所述数显传感器（2）设置于所述定位框体（1）中，所述定位框体（1）上设置有与所述数显传感器（2）对应的检测通道。3.根据权利要求2所述的掩膜版上光学膜对中性测量装置，其特征在于，所述数显传感器（2）配置有移动电源和开关（4），所述移动电源和开关（4）均设置于所述定位框体（1）内，所述定位框体（1）上设置有供所述开关（4）通过的安装孔。4.根据权利要求2所述的掩膜版上光学膜对中性测量装置，其特征在于，所述定位框体（1）上设置有与所述数显传感...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙多卫，刘嘉俊，
申请(专利权)人：成都路维光电有限公司，
类型：新型
国别省市：