【技术实现步骤摘要】
本技术涉及掩膜版搬运，具体涉及一种适用于agv与光刻机进行对接交互的装置。
技术介绍
1、掩膜版(photo mask)，又称光罩掩膜版、光罩等，是一种用于微电子芯片制备的掩模工具，它是由光刻技术制备的。在制备过程中，首先需要将待制备的芯片设计图案制作成透明的掩模。将掩模与半导体硅片结合，通过光刻机进行曝光、显影等一系列工艺过程，最终制备出微电子芯片。
2、光刻机是现代光学工业之花,是半导体、平板显示等行业中的核心技术。它主要通过光学成像技术将光掩膜版上的芯片设计图案转移到硅片表面，从而制备出具有所需功能的微电子器件。
3、光刻机在制备大尺寸掩膜版时由于产品无法进行人工搬运，因此通常采用agv①进行搬运。由于光刻机设备上板架(loader)不具备直接对接agv进行掩膜版取放的功能，因此在agv搬运掩膜版到光刻机设备时，需要使用中转设备，如hmu assist loader(简称hmu②)对接agv抓放掩膜版后，再通过hmu对接光刻机进行掩膜版的抓取与放置。
4、由于需要通过中转设备进行掩膜版的转运，增...
【技术保护点】
1.一种适用于AGV与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，包括安装在光刻机上的上板架，所述上板架的顶部连接有横梁，所述横梁和所述上板架的底部均安装有反射板，所述上板架的下部连接有尺寸调节器，所述尺寸调节器上连接有罩盖，所述罩盖和所述尺寸调节器能够沿所述上板架的长度方向进行调节，所述罩盖的顶部开设有凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种适用于AGV与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，所述横梁上的反射板设有两个，且所述横梁上的两个反射板分别位于所述横梁的左部和右部。
3.根据权利要求2所述的一种适用于AGV与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种适用于agv与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，包括安装在光刻机上的上板架，所述上板架的顶部连接有横梁，所述横梁和所述上板架的底部均安装有反射板，所述上板架的下部连接有尺寸调节器，所述尺寸调节器上连接有罩盖，所述罩盖和所述尺寸调节器能够沿所述上板架的长度方向进行调节，所述罩盖的顶部开设有凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种适用于agv与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，所述横梁上的反射板设有两个，且所述横梁上的两个反射板分别位于所述横梁的左部和右部。
3.根据权利要求2所述的一种适用于agv与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，所述横梁上的两个反射板均与所述横梁水平滑动配合。
4.根据权利要求1所述的一种适用于agv与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，所述上板架底部的反射板与所述上板架水平滑动配合。
5.根据权利要求1所述的一种适用于agv与光刻机进行对接交互的装置，其特征在于，所述上板架底部的反射板为十字反射板。
6.根据权利要求1所述的一种适用于agv与光刻...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹治钢，刘单，李禄建，
申请(专利权)人：成都路维光电有限公司，
类型：新型
国别省市：
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