一种晶圆自动去盖机构制造技术

技术编号:36043312 阅读:27 留言:0更新日期:2022-12-21 10:50
本发明专利技术属于半导体技术领域,公开了一种晶圆自动去盖机构,其包括承载件、导向件与驱动件,承载件上设置有下真空载件,导向件竖直设置在承载件上,导向件上滑移设置有上真空载件,上真空载件位于下真空载件上方,驱动件被配置为驱动上真空载件滑移。实际运用中,通过上真空载件吸附固定蓝宝石、下真空载件吸附固定基板以及驱动件驱动上真空载件滑移,因此,驱动件驱动上真空载件远离下真空载件时,能够带动基板与蓝宝石分离,即完成了晶圆去盖工序,由此减少晶圆去盖工序中人工的介入,进而有助于降低工人的劳动强度,同时,有助于提升产品合格率与产品生产效率。产品合格率与产品生产效率。产品合格率与产品生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆自动去盖机构


[0001]本专利技术涉及半导体
,尤其涉及一种晶圆自动去盖机构。

技术介绍

[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅芯片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。晶圆是生产集成电路所用的载体,一般意义晶圆多指单晶硅圆片。晶圆是最常用的半导体材料。
[0003]具体而言,晶圆由基板与蓝宝石组成,而在晶圆生产过程中存在去盖工序,即需要将基板与蓝宝石分离。现有技术中,大部分芯片厂商采用人工手动去盖,因人工手动去盖无法保证每次施加压力的一致性,从而易对产品造成损伤,进而导致产品合格率降低。同时,采用人工手动去盖,会使得工人的劳动强度大,也会使得生产效率低。
[0004]因此,上述问题亟待解决。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种晶圆自动去盖机构,以在降低工人劳动强度的同时,提升产品合格率与产品生产效率。
[0006]为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:
[0007]一种晶圆自动去盖机构,所述晶圆包括基板与蓝宝石,所述晶圆自动去盖机构包括:
[00本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆自动去盖机构,所述晶圆包括基板与蓝宝石,其特征在于,所述晶圆自动去盖机构包括:承载件(1);下真空载件(2),设置在所述承载件(1)上,所述下真空载件(2)用于吸附固定所述基板;导向件(3),沿竖直方向设置在所述承载件(1)上;上真空载件(4),滑移设置在所述导向件(3)上,所述上真空载件(4)位于所述下真空载件(2)上方,且所述上真空载件(4)用于吸附固定所述蓝宝石并将所述蓝宝石与所述基板分离;驱动件(5),被配置为驱动所述上真空载件(4)滑移。2.根据权利要求1所述的一种晶圆自动去盖机构,其特征在于,所述晶圆自动去盖机构还包括弹性缓冲件,所述弹性缓冲件一端与所述上真空载件(4)连接,另一端与所述承载件(1)连接。3.根据权利要求1所述的一种晶圆自动去盖机构,其特征在于,所述导向件(3)设置有多根,多跟所述导向件(3)沿所述上真空载件(4)周向均布。4.根据权利要求1所述的一种晶圆自动去盖机构,其特征在于,所述下真空载件(2)包括加热件(22),所述加热件(22)用于加热待加工晶圆。5.根据权利要求4所述的一种晶圆自动去盖机构,其特征在于,所述承载件(1)上设置有隔热板(8),且所述隔热板(8)位于所述下真空载件(2)与所述承载件(1...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵刚王伟胡雄雄张洪华杨万震
申请(专利权)人:苏州科韵激光科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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