具有棱镜的CMOS图像传感器及其制造方法技术

一种用于制造具有棱镜的ＣＭＯＳ图像传感器的方法，包括如下步骤：在基底上对应于相应单元象素形成多个光电二极管；在所述基底和所述光电二极管上顺序地形成层间绝缘层和最上的金属线；刻蚀所述层间绝缘层以形成对应于相应光电二极管的多个沟槽；沉积高密度等离子体（ＨＤＰ）氧化物层使得设置在所述沟槽之间的该ＨＤＰ氧化物层具有锥形化的轮廓；沉积具有比所述层间绝缘层的折射率高的氮化物层来填充所述沟槽；以及沉积具有比所述氮化物层的折射率低的绝缘层来填充所述沟槽，由此形成棱镜，其中该棱镜引起入射到设置在象素阵列边缘区域中的光电二极管的光的全反射。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于制造具有包括多个单元象素的象素阵列的互补金属氧化物半导体（ＣＭＯＳ）图像传感器的方法，所述方法包括如下步骤：在基底上对应于相应单元象素形成多个光电二极管；在所述基底和所述光电二极管上顺序地形成层间绝缘层和最上的金属线 ；以预定深度刻蚀所述层间绝缘层以形成对应于相应光电二极管的多个沟槽；沉积高密度等离子体（ＨＤＰ）氧化物层使得设置在所述沟槽之间的该ＨＤＰ氧化物层具有锥形化的轮廓；以预定的厚度沉积具有比所述层间绝缘层的折射率高的氮化物 层来填充所述沟槽；和沉积具有比所述氮化物层的折射率低的绝缘层来填充所述沟槽，由此...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：洪希桢，
申请(专利权)人：美格纳半导体有限会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]