一种蒸发器皿以及真空镀膜系统技术方案

技术编号:36036809 阅读:53 留言:0更新日期:2022-12-21 10:40
本实用新型专利技术涉及真空蒸镀技术领域,公开了一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。所述蒸发器皿包括具有底壁的第一蒸发池,所述第一蒸发池内设置有池壁,所述池壁从所述底壁向上延伸设置,所述池壁首尾相接以形成第二蒸发池,所述第二蒸发池用于容纳金属蒸发液,所述第一蒸发池用于容纳由所述第二蒸发池溢出的所述金属蒸发液。本实用新型专利技术的蒸发器皿通过在第一蒸发池内设置池壁,并且该池壁首尾相接形成第二蒸发池,由于第二蒸发池的面积小于第一蒸发池的面积,金属蒸发液更容易在第二蒸发池内铺满,从而能够提高蒸发器皿的润湿性,并且第一蒸发池和第二蒸发池处于同一温度场下,即使金属蒸发液溢出第二蒸发池外,也不会因温场变化造成金属蒸发液的飞溅。金属蒸发液的飞溅。金属蒸发液的飞溅。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发器皿以及真空镀膜系统


[0001]本技术涉及真空蒸镀
,具体地涉及一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。

技术介绍

[0002]真空蒸镀是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术,具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
[0003]蒸发器皿是蒸发源的重要工作部件,通常用于真空镀膜系统中。蒸镀过程中,送丝机构将金属丝送至蒸发器皿上表面,通过电流加热,蒸发器皿将其上的金属丝汽化为金属蒸汽,金属蒸汽均匀沉积在衬底层上形成金属镀层。蒸发器皿的好坏对金属镀层的镀膜均匀性、成膜质量等参数有着重要影响。
[0004]然而,在实际生产薄膜的过程中,由于现有的蒸发器皿润湿性较差,金属蒸发液分布不均,无法铺满整个蒸发池。位于边缘的金属蒸发液与蒸发器皿之间的温差较大,容易产生金属液滴的飞溅,金属液滴飞溅到薄膜上时很可能还会将薄膜烧穿,形成孔洞。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是为了克服现有技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发器皿,包括具有底壁(11)的第一蒸发池(1),其特征在于,所述第一蒸发池(1)内设置有池壁(2),所述池壁(2)从所述底壁(11)向上延伸设置,所述池壁(2)首尾相接以形成第二蒸发池(3),所述第二蒸发池(3)用于容纳金属蒸发液,所述第一蒸发池(1)用于容纳由所述第二蒸发池(3)溢出的所述金属蒸发液。2.根据权利要求1所述的蒸发器皿,其特征在于,所述蒸发器皿包括第一表面(101)、第二表面(102)以及第三表面(103),所述第一表面(101)设置于所述第二表面(102)的上方,所述第三表面(103)连接于所述第一表面(101)和所述第二表面(102)之间,所述第三表面(103)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置,所述第三表面(103)从所述第一表面(101)倾斜向内地延伸至所述第二表面(102)。3.根据权利要求2所述的蒸发器皿,其特征在于,所述蒸发器皿具有上宽下窄的梯形截面。4.根据权利要求1所述的蒸发器皿,其特征在于,所述蒸发器皿包括第一表面(101)、第二表面(102)以及第三表面(103),所述第一表面(101)设置于所述第二表面(102)的上方,所述第三表面(103)连接于所述第一表面(101)和所述第二表面(102)之间,所述第三表面(103)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置,所述第三表面(103)从所述第一表面(101)竖直向下地延伸至所述第二表...

【专利技术属性】
技术研发人员:王超李永强李东亮汪振南侯建洋孙欣森李永伟
申请(专利权)人:安迈特科技北京有限公司
类型:新型
国别省市:

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