【技术实现步骤摘要】
一种蒸发器皿以及真空镀膜系统
[0001]本技术涉及真空蒸镀
,具体地涉及一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。
技术介绍
[0002]真空蒸镀是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术,具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
[0003]蒸发器皿是蒸发源的重要工作部件,通常用于真空镀膜系统中。蒸镀过程中,送丝机构将金属丝送至蒸发器皿上表面,通过电流加热,蒸发器皿将其上的金属丝汽化为金属蒸汽,金属蒸汽均匀沉积在衬底层上形成金属镀层。蒸发器皿的好坏对金属镀层的镀膜均匀性、成膜质量等参数有着重要影响。
[0004]然而,在实际生产薄膜的过程中,由于现有的蒸发器皿润湿性较差,金属蒸发液分布不均,无法铺满整个蒸发池。位于边缘的金属蒸发液与蒸发器皿之间的温差较大,容易产生金属液滴的飞溅,金属液滴飞溅到薄膜上时很可能还会将薄膜烧穿,形成孔洞。
技术实现思路
[0005]本技术的目 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蒸发器皿,包括具有底壁(11)的第一蒸发池(1),其特征在于,所述第一蒸发池(1)内设置有池壁(2),所述池壁(2)从所述底壁(11)向上延伸设置,所述池壁(2)首尾相接以形成第二蒸发池(3),所述第二蒸发池(3)用于容纳金属蒸发液,所述第一蒸发池(1)用于容纳由所述第二蒸发池(3)溢出的所述金属蒸发液。2.根据权利要求1所述的蒸发器皿,其特征在于,所述蒸发器皿包括第一表面(101)、第二表面(102)以及第三表面(103),所述第一表面(101)设置于所述第二表面(102)的上方,所述第三表面(103)连接于所述第一表面(101)和所述第二表面(102)之间,所述第三表面(103)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置,所述第三表面(103)从所述第一表面(101)倾斜向内地延伸至所述第二表面(102)。3.根据权利要求2所述的蒸发器皿,其特征在于,所述蒸发器皿具有上宽下窄的梯形截面。4.根据权利要求1所述的蒸发器皿,其特征在于,所述蒸发器皿包括第一表面(101)、第二表面(102)以及第三表面(103),所述第一表面(101)设置于所述第二表面(102)的上方,所述第三表面(103)连接于所述第一表面(101)和所述第二表面(102)之间,所述第三表面(103)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置,所述第三表面(103)从所述第一表面(101)竖直向下地延伸至所述第二表...
【专利技术属性】
技术研发人员:王超,李永强,李东亮,汪振南,侯建洋,孙欣森,李永伟,
申请(专利权)人:安迈特科技北京有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。