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本实用新型涉及真空蒸镀技术领域，公开了一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。所述蒸发器皿包括具有底壁的第一蒸发池，所述第一蒸发池内设置有池壁，所述池壁从所述底壁向上延伸设置，所述池壁首尾相接以形成第二蒸发池，所述第二蒸发池用于容纳金属蒸发液，所述第...
该专利属于安迈特科技（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安迈特科技（北京）有限公司授权不得商用。

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