本实用新型专利技术提供了一种光刻胶废液的排液处理装置，包括排液盒、搅拌器、废液浓度调节结构、排液控制结构，搅拌器对排液盒内光刻胶废液进行搅拌。排液控制结构通过控制器电连接和液位传感器对排液盒底部的排液管上的排液控制阀进行开启或关闭进行控制。通过浓度检测仪、控制器采用稀释液储罐稀释液对排液盒内光刻胶废液的浓度进行调整。排液处理装置具有结构简单、自动化程度高，通过搅拌器、废液浓度调节结构、清洗结构实现防止排液盒出现堵塞情况而影响光刻胶废液正常排出的问题。而影响光刻胶废液正常排出的问题。而影响光刻胶废液正常排出的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶废液的排液处理装置
[0001]本技术涉及排液设备
，具体为一种光刻胶废液的排液处理装置。
技术介绍
[0002]光刻工艺是指在衬底基板上依次经过光刻胶涂布、曝光、显影等处理，将光刻掩膜板上设计好的图案转移到衬底基板表面进而在衬底基板上形成光刻图案的过程，其是半导体制造过程中的一个重要环节。
[0003]涂胶单元工作时，排出的光刻胶废液包括coater cup排液(包括光刻胶及solvent)、solvent bath排液(包括光刻胶及solvent)、去边剂喷嘴排液、RRC喷嘴排液、各滤芯排液5种，目前光刻胶废液通常是排出至排液盒中收集，待排液盒内光刻胶废液达到一定量后排出至厂务端进行后续处理，但是随着光刻胶废液在排液盒中放置时间的增加出现沉降或者高粘度的光刻胶废液造成排液盒中管路堵塞的问题，进而影响光刻胶废液的正常排出。
技术实现思路
[0004]为了解决排液盒管路堵塞光刻胶废液排液受阻的问题，本技术设计了一种结构简单、自动化程度高的光刻胶废液的排液处理装置，排液处理装置能够使得各种不同类型的废液混合后处于流动状态，且避免光刻胶废液长时间静置导致沉降现象，同时还能够高粘度光刻胶废液的粘度进行适应性调整，避免排液盒出现堵塞现象而导致光刻胶排液困难的问题。
[0005]实现技术目的的技术方案如下：一种光刻胶废液的排液处理装置，包括排液盒、废液浓度调节结构、排液控制结构，排液盒内设有搅拌器，搅拌器对排液盒内的光刻胶废液进行搅拌。
[0006]排液控制结构包括与控制器电连接的液位传感器，且控制器与位于排液盒底部的排液管上的排液控制阀电连接。
[0007]废液浓度调节结构稀释液储罐、浓度检测仪，浓度检测仪与控制器电连接，且浓度检测仪位于排液盒内；稀释液储罐与排液盒经第一管道连通，且第一管道连通上设有与控制器电连接的第一控制阀。
[0008]本技术设计的排液处理装置，首先，通过搅拌器对排液盒内的光刻胶废液不断的进行搅拌，避免因长时间放置出现沉降现象而导致排液堵塞的问题；其次，通过废液浓度调节结构对光刻胶废液的浓度进行检测及调节，以保证光刻胶废液能够顺利的经排液管排出，也能够避免光刻胶废液因浓度过大在排液管上附着沉积，进而避免排液管被堵塞的情况；再次，通过排液控制结构的设置，能够自主的进行排液盒中光刻胶废液的排放，提高排液处理装置的智能化控制。
[0009]进一步的，在上述排液控制结构的一个改进实施例中，排液盒外部设有与排液盒连通且平行的液位观测管，液位传感器包括设置在液位观测管内中上部的第一液位传感器
和设置在液位观测管内底部的第二液位传感器。
[0010]进一步的，在上述排液控制结构的另一个改进实施例中，液位传感器包括设置在排液盒内中上部的第三液位传感器和设置在排液盒底部的第四液位传感器。
[0011]更进一步的，在上述排液控制结构的第三个改进实施例中，排液管上还设有与所述控制器电连接的电磁流量计。
[0012]进一步的，在上述排液处理装置的一个改进实施例中，排液处理装置还包括清洗结构，清洗结构包括清洗液储罐，清洗液储罐经第二管道与排液盒连通，第二管道的末端连接有位于排液盒内的清洗喷头，且第二管道上设有第二控制阀。
[0013]进一步的，在上述排液处理装置的一个改进实施例中，排液盒外壁上设有保温结构或加热结构。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术设计的排液处理装置，通过搅拌器对排液盒内的光刻胶废液不断的进行搅拌，避免因长时间放置出现沉降现象而导致排液堵塞的问题；通过废液浓度调节结构对光刻胶废液的浓度进行检测及调节，以保证光刻胶废液能够顺利的经排液管排出，也能够避免光刻胶废液因浓度过大在排液管上附着沉积，进而避免排液管被堵塞的情况；通过排液控制结构的设置，能够自主的进行排液盒中光刻胶废液的排放，提高排液处理装置的智能化控制；通过排液管上电磁流量计的设计，能够辅助排液控制结构对排液盒内光刻胶废液排放的控制。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本技术实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0016]图1为具体实施方式中光刻胶废液的排液处理装置的一种结构示意图；
[0017]图2为具体实施方式中光刻胶废液的排液处理装置的另一种结构示意图；
[0018]其中，1.排液盒；2.搅拌器；3.排液管；4.排液控制阀；5.液位观测管；6.第一液位传感器；7.第二液位传感器；8.第三液位传感器；9.第四液位传感器；10.电磁流量计；11.稀释液储罐；12.浓度检测仪；13.第一管道；14.第一控制阀；15.清洗液储罐；16.第二管道；17.清洗喷头；18.第二控制阀。
具体实施方式
[0019]下面结合具体实施例来进一步描述本技术，本技术的优点和特点将会随着描述而更为清楚。但这些实施例仅是范例性的，并不对本技术的范围构成任何限制。本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本技术的精神和范围下可以对本技术技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本技术的保护范围内。
[0020]本具体实施方式公开了一种光刻胶废液的排液处理装置，如图1和图2所示，排液处理装置包括排液盒1、废液浓度调节结构、排液控制结构，排液盒1内设有搅拌器2，搅拌器2对排液盒1内的光刻胶废液进行搅拌，通过搅拌器2对排入排液盒1内的光刻胶废液(包括coater cup排液、solventbath排液、去边剂喷嘴排液、RRC喷嘴排液、各滤芯排液中的一种废液或两种以上废液形成的混合液)不断的进行搅拌，能够避免长时间静置而出现的沉降
现象，通过能够使得搅拌盒1内各个位置的光刻胶废液弄得均一性，以便于下述浓度检测仪检测结果的准确性。
[0021]如图1和图2所示，排液控制结构包括与控制器(附图未画出)电连接的液位传感器，且控制器与位于排液盒1底部的排液管3上的排液控制阀4电连接，液位传感器用来检测排液盒1内光刻胶废液的液位信号值，并将液位信号值发送给控制器，控制器根据液位信号值控制排液控制阀4的打开或关闭，实现排液盒1内光刻胶废液的排出。
[0022]在排液控制结构的一种结构中，如图1所示，排液盒1外部设有与排液盒1连通且平行的液位观测管5，液位传感器包括设置在液位观测管5内中上部的第一液位传感器6和设置在液位观测管5内底部的第二液位传感器7，优选的，将第一液位传感器6在排液盒1内的水平高度高于排液盒1内下述浓度检测仪的水平高度。
[0023]排液控制结构控制排液管3上排液控制阀4控制的原理是：第一液位传感器6和第二液位传感器7实时采集光刻胶废液的液位信号值，当光刻胶废液液位没有达到第一液位传感器6时，第一液位传感器6采集液位信号值为零，第二液位传感器7采集的液位信号值大于零，排液控制阀4不触发；当排液盒1内光刻胶废液的液位不断上升直至达到第一液位传感器6时，此时第一液位传感器6采本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶废液的排液处理装置，其特征在于：包括排液盒、废液浓度调节结构、排液控制结构，所述排液盒内设有搅拌器，所述搅拌器对所述排液盒内的光刻胶废液进行搅拌；所述排液控制结构包括与控制器电连接的液位传感器，且所述控制器与位于所述排液盒底部的排液管上的排液控制阀电连接；所述废液浓度调节结构稀释液储罐、浓度检测仪，所述浓度检测仪与所述控制器电连接，且所述浓度检测仪位于所述排液盒内；所述稀释液储罐与所述排液盒经第一管道连通，且所述第一管道连通上设有与所述控制器电连接的第一控制阀。2.根据权利要求1所述的排液处理装置，其特征在于：所述排液盒外部设有与所述排液盒连通且平行的液位观测管，所述液位传感器包括设置在所述液位观测管内中上部的第一液位传...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘凯锋，
申请(专利权)人：上海众鸿电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。