一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体制造技术领域，公开了一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机。该废弃光刻胶排放装置包括：积液盒，所述积液盒内设置有用于装设废弃光刻胶的腔室，所述积液盒上设置有进液口和排液口，所述进液口与所述腔室连通，用于收集所述废弃光刻胶，所述排液口与所述腔室连通，用于排出所述废弃光刻胶；排液管道，所述排液管道与所述排液口连通，用于排放所述废弃光刻胶；若干个支管，设置在所述排液管道的侧壁上，若干个所述支管分别与所述排液管道连通，用于输送光刻胶溶解剂。本实用新型专利技术中，通过设置支管喷洒溶解剂对排液管道中的废弃光刻胶进行冲洗，避免废弃光刻胶堵塞排放管道。放管道。放管道。

【技术实现步骤摘要】
一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机


[0001]本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机。

技术介绍

[0002]在半导体器件制造和先进封装工艺中，光刻工艺是指在基板上，如半导体晶圆上依次经过光刻胶涂敷、曝光、显影等处理，在涂敷过程中，光刻胶在高速旋转的状态下被均匀的涂在晶圆表面，而在此过程中，会有一部分的光刻胶被甩出，该部分光刻胶需要进行废弃处理。
[0003]现有技术中，一般在旋转装置的一侧设置积液盒来收集废弃光刻胶，通过在积液盒上设置排液管道对废弃光刻胶进行排放。由于光刻胶为粘稠液体，且具有极易结晶的特性，导致光刻胶很容易堵塞排液管道。当排液管道被光刻胶堵塞，将直接导致基台在作业时光刻胶无法正常排出，而从旋转装置流出，导致严重的产品质量问题和安全事故。
[0004]因此，亟需设计一种废弃光刻胶排放装置，来解决废弃光刻胶容易堵塞排放管道的问题。

技术实现思路

[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供了一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机，通过设置支管喷洒溶解剂对排液管道中的废本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种废弃光刻胶排放装置，其特征在于，包括：积液盒，所述积液盒内设置有用于装设废弃光刻胶的腔室，所述积液盒上设置有进液口和排液口，所述进液口与所述腔室连通，用于收集所述废弃光刻胶，所述排液口与所述腔室连通，用于排出所述废弃光刻胶；排液管道，所述排液管道与所述排液口连通，用于排放所述废弃光刻胶；若干个支管，设置在所述排液管道的侧壁上，若干个所述支管分别与所述排液管道连通，用于输送光刻胶溶解剂。2.根据权利要求1所述的废弃光刻胶排放装置，其特征在于：所述排液管道的直径大于所述支管的直径，若干个所述支管在所述排液管道上间隔布置。3.根据权利要求2所述的废弃光刻胶排放装置，其特征在于：若干个所述支管间隔布置在所述排液管道的同一侧；或，若干个所述支管间隔布置在所述排液管道的不同侧；或，若干个所述支管在所述排液管道的侧壁上交错布置。4.根据权利要求2或3所述的废弃光刻胶排放装置，其特征在于：所述支管上设置有单向阀，所述单向阀用于防止所述废弃光刻胶通过所述支管进入光刻胶溶解剂输送装置内；和/或，所述支管上设置有电磁阀，所述电磁阀用于控制所述支管的导通及断开。5.根据权利要求1所述的废弃光刻胶排放装置，其特征在于：所述积液盒包括盒体和盒盖，所述盒盖设置在所述盒体的上侧，所述进液口设置在所述盒盖上，所述排液口设置在所述盒体的底壁上。6.根据权利要求5所述的废弃光刻胶排放装置，其特征在于：所述底壁与水平面呈角度设置，所述排液口设置在所述底壁位置低的一端；或，所述底壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：金浩天，孙游，
申请(专利权)人：上海众鸿电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：