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本实用新型涉及半导体制造技术领域，公开了一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机。该废弃光刻胶排放装置包括：积液盒，所述积液盒内设置有用于装设废弃光刻胶的腔室，所述积液盒上设置有进液口和排液口，所述进液口与所述腔室连通，用于收集所述废弃光刻胶，所...
该专利属于上海众鸿电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海众鸿电子科技有限公司授权不得商用。

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