一种废气处理用热流炮制造技术

本发明专利技术属于废气处理技术领域，具体为一种废气处理用热流炮，包括：上真空管、下真空管和横向真空管，所述横向真空管呈横向水平设置，所述上真空管设置在横向真空管的上表面右侧，所述下真空管设置在横向真空管的下表面左侧，所述上真空管、下真空管和横向真空管之间连通，形成一个废气流通通道，废气从上真空管进入横向真空管内，并从下真空管流出；加热器，所述横向真空管的左端设置为开口状。在真空管道内部通过加热阻挡片加热，同时对流动的废气进行阻挡，废气中的灰尘沉降，通过控制器控制加热阻挡片加热，对进入的制程废气进行加热、过滤，从而缓解真空管路拥堵，延长管路PM周期，降低了真空干燥泵卡死的风险。低了真空干燥泵卡死的风险。低了真空干燥泵卡死的风险。

【技术实现步骤摘要】
一种废气处理用热流炮


[0001]本专利技术涉及废气处理
，具体为一种废气处理用热流炮。

技术介绍

[0002]半导体(semiconductor)指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。
[0003]半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件。
[0004]无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联。
[0005]常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种。
[0006]SEMI、TFT、SOLAR、LED等行业内制程废气量较多的工艺部门，如：CVD、PVD、ETCH、DIFF；真空管中废气中含有较多杂质，杂质沉积在真空管中，会造成真空管路拥堵。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种废气处理用热流炮，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0008]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种废气处理用热流炮，包括：
[0009]上真空管、下真空管和横向真空管，所述横向真空管呈横向水平设置，所述上真空管设置在横向真空管的上表面右侧，所述下真空管设置在横向真空管的下表面左侧，所述上真空管、下真空管和横向真空管之间连通，形成一个废气流通通道，废气从上真空管进入横向真空管内，并从下真空管流出；
[0010]加热器，所述横向真空管的左端设置为开口状，所述加热器插接在横向真空管的左端开口处；
[0011]其中，所述加热器包括设置在左侧的端盖和连接在端盖右侧壁的筒体，所述端盖与横向真空管的左端开口处连接，所述筒体内设置有支撑芯杆和设置在支撑芯杆外壁上的加热阻挡片，所述筒体的右端开设有进气口，所述筒体的下表面开设有与下真空管位置对应的出气口。
[0012]进一步地，所述支撑芯杆贯穿端盖并延伸至端盖的左侧，所述支撑芯杆中空绝缘芯杆，所述支撑芯杆内部穿过供电导线，供电导线与加热阻挡片电性连接。
[0013]进一步地，所述端盖的外壁和横向真空管的左端开口处均设置有连接位，所述端盖和横向真空管的连接位通过通过连接箍可拆卸连接。
[0014]进一步地，所述加热阻挡片的中部开设有套在支撑芯杆上的通孔，所述支撑芯杆上开设有用于将供电导线穿出的小孔，所述供电导线通过小孔穿出并与支撑芯杆电性连接，所述加热阻挡片的外围设置为三个挡片。
[0015]进一步地，相邻的三个加热阻挡片之间形成一个扰流挡片组，所述扰流挡片组的三个加热阻挡片之间角度依次偏转，在扰流挡片组阻挡作用下，废气在扰流挡片组之间呈分散流动。
[0016]进一步地，所述筒体为耐高温的陶瓷材质。
[0017]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0018]在真空管道内部通过加热阻挡片加热，同时对流动的废气进行阻挡，废气中的灰尘沉降，通过控制器控制加热阻挡片加热，对进入的制程废气进行加热、过滤，从而缓解真空管路拥堵，延长管路PM周期，降低了真空干燥泵卡死的风险；
[0019]通过加热器的加热阻挡片在使用时，能够起到加热的同时，配合筒体的使用，将筒体内部形成往复的S形通道，从而使得废气在其内部呈往复回流状，从而使得废气在筒体内流动行程增加，能够增加对废气中灰尘的阻挡作用，且能增加废气的加热效果。
附图说明
[0020]图1为本专利技术结构示意图；
[0021]图2为本专利技术图1的剖视结构示意图；
[0022]图3为本专利技术加热器的剖视结构示意图；
[0023]图4为本专利技术支撑芯杆、加热阻挡片连接时的结构示意图；
[0024]图5为本专利技术加热阻挡片的结构示意图；
[0025]图6为本专利技术使用时的结构示意图。
[0026]图中：1上真空管、2横向真空管、3下真空管、4加热器、41筒体、42端盖、43支撑芯杆、44加热阻挡片、45进气口、46出气口、5连接箍。
具体实施方式
[0027]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0028]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0029]实施例：
[0030]请参阅图1
‑
6，本专利技术提供一种技术方案：一种废气处理用热流炮，包括：
[0031]上真空管1、下真空管3和横向真空管2，所述横向真空管2呈横向水平设置，所述上真空管1设置在横向真空管2的上表面右侧，所述下真空管3设置在横向真空管2的下表面左侧，所述上真空管1、下真空管3和横向真空管2之间连通，形成一个废气流通通道，废气从上真空管1进入横向真空管2内，并从下真空管3流出；
[0032]如图1所示，上真空管1、下真空管3分别密封焊接在横向真空管2的右上侧和左下侧，焊接处焊接后检测密封性，横向真空管2的左右端、上真空管1的上端、下真空管3的下端
均设置为连接位，用于与其他物体连接，使用时，横向真空管2的右端封闭，横向真空管2的右端用于检修。废气流通通道呈立起的Z形状，使得废气从上真空管1进入、从下真空管3排出。根据使用的需求，上真空管1、下真空管3和横向真空管2采用不锈钢或铝合金材质。
[0033]加热器4，所述横向真空管2的左端设置为开口状，所述加热器4插接在横向真空管2的左端开口处；如图2所示，加热器4从横向真空管2的左端开口处插入，且加热器4与横向真空管2的内壁贴合，加热器4的右端延伸至上真空管1的下部左侧，废气从上真空管1进入加热器4内。
[0034]其中，所述加热器4包括设置在左侧的端盖42和连接在端盖42右侧壁的筒体41，所述端盖42与横向真空管2的左端开口处连接，所述筒体41内设置有支撑芯杆43和设置在支撑芯杆43外壁上的加热阻挡片44，所述筒体41的右端开设有进气口45，所述筒体41的下表面开设有与下真空管3位置对应的出气口46。相邻的三个加热阻挡片44之间形成一个扰流挡片组，所述扰流挡片组的三个加热阻挡片44之间角度依次偏转，在扰流挡片组阻挡作用下，废气在扰流挡片组之间呈分散流动。
[0035]如图3所示，废气从进气口45进入筒体41内部，废气从第一个加热阻挡片44的上端向左流动，第二个加热阻挡片44将进入的废气分散为两股，两个废气从第三个加热阻挡片44下部向左流动，如此，废气完成一个扰流挡本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种废气处理用热流炮，其特征在于，包括：上真空管(1)、下真空管(3)和横向真空管(2)，所述横向真空管(2)呈横向水平设置，所述上真空管(1)设置在横向真空管(2)的上表面右侧，所述下真空管(3)设置在横向真空管(2)的下表面左侧，所述上真空管(1)、下真空管(3)和横向真空管(2)之间连通，形成一个废气流通通道，废气从上真空管(1)进入横向真空管(2)内，并从下真空管(3)流出；加热器(4)，所述横向真空管(2)的左端设置为开口状，所述加热器(4)插接在横向真空管(2)的左端开口处；其中，所述加热器(4)包括设置在左侧的端盖(42)和连接在端盖(42)右侧壁的筒体(41)，所述端盖(42)与横向真空管(2)的左端开口处连接，所述筒体(41)内设置有支撑芯杆(43)和设置在支撑芯杆(43)外壁上的加热阻挡片(44)，所述筒体(41)的右端开设有进气口(45)，所述筒体(41)的下表面开设有与下真空管(3)位置对应的出气口(46)。2.根据权利要求1所述的一种废气处理用热流炮，其特征在于：所述支撑芯杆(43)贯穿端盖(42)...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔汉博，崔汉宽，
申请(专利权)人：上海高笙集成电路设备有限公司，
类型：发明
国别省市：