一种激光干涉投影光刻机制造技术

技术编号:35818256 阅读:18 留言:0更新日期:2022-12-03 13:42
本实用新型专利技术公开了一种激光干涉投影光刻机,其技术方案要点是:包括仪器箱,所述仪器箱的一侧开设有光束孔,所述仪器箱的一侧固定安装有激光器,所述激光器的发射端与所述光束孔固定卡接在一起;在使用时可通过开启激光器向光束孔的内部发射光束,通过分光镜折射激光器发出的光束,通过电子变焦透镜变焦调节分光镜折射出的光束,以适用于光刻强度,通过激光功率调节器,调节规范激光器发出的光束强度,通过激光扩束器,分散激光器发出光束的能量,便于第一滤光镜,第二滤光镜和第三滤光镜对光束继进行过滤,以适应进行光刻,通过光强探测仪,用于检测电子变焦透镜射出的光束能量强度,以配合感光材料进行光刻工作。配合感光材料进行光刻工作。配合感光材料进行光刻工作。

【技术实现步骤摘要】
一种激光干涉投影光刻机


[0001]本技术涉及投影光刻机
,具体涉及一种激光干涉投影光刻机。

技术介绍

[0002]根据申请号为:CN202121380880.1的中国专利可知,一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统,包括照明透镜组合及设置在照明透镜组合之前的匀光棒,照明透镜组合包括在光路依次同轴且顺序设置的多个透镜,第一透镜、第三透镜、第四透镜及第五透镜均为凹凸透镜,第二透镜为双凸透镜,匀光棒为设置有中空腔体的条状结构,匀光棒的纵向轴线与照明透镜组合的轴线同轴,光线经中空腔体的壁面的反射,并经过照明透镜组合物像放大后出射。本技术的照明透镜系统,在照明透镜组合之前设置匀光棒,对入射光进行先匀光处理,再通过照明透镜组合进行放大处理,使得经过该照明透镜系统处理后的光线,具有较高的均匀度,且在具有放大倍数的同时又兼具高分辨率的性能。
[0003]但是上述的一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统仍存在一些不足,例如:上述装置在使用时由于激光在发射光束时较为不稳定,且光束传输的路径中也可能会造成光束在传输方向上发生偏移,为解决上述问题,我们提出一种激光干涉投影光刻机。

技术实现思路

[0004]针对
技术介绍
中提到的问题,本技术的目的是提供一种激光干涉投影光刻机,以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0005]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
[0006]一种激光干涉投影光刻机,包括:仪器箱,所述仪器箱的一侧开设有光束孔,所述仪器箱的一侧固定安装有激光器,所述激光器的发射端与所述光束孔固定卡接在一起,所述仪器箱的一侧内嵌有PLC控制器,所述PLC控制器与所述激光器电性连接在一起;光束校准组件,所述光束校准组件设置在所述光束孔的内部,用于稳定光束。
[0007]通过采用上述技术方案,通过设置激光器,用于向光束孔的内部发射光束,通过设置光束校准组件,用于校准和稳定光束。
[0008]较佳的,所述光束校准组件包括:三个分光镜,三个分光镜分别固定安装在所述光束孔内三个直角位置内部;电子变焦透镜,所述电子变焦透镜固定安装在所述光束孔的内部,所述电子变焦透镜与所述PLC控制器电性连接在一起。
[0009]通过采用上述技术方案,通过设置分光镜,用于折射激光器发出的光束,通过设置电子变焦透镜,用于变焦调节分光镜折射出的光束,以适用于光刻强度。
[0010]较佳的,所述光束校准组件还包括:准直透镜,所述准直透镜固定安装在光束孔的内部,所述光束孔的内部分别固定安装有第一滤光镜,第二滤光镜和第三滤光镜。
[0011]通过采用上述技术方案,通过设置准直透镜,用于规范排序光粒子,稳定光束,通过设置第一滤光镜,第二滤光镜和第三滤光镜,用于过滤光束,以适应进行光刻。
[0012]较佳的,所述激光器的前侧设置有激光功率调节器,所述激光功率调节器固定安
装在所述光束孔的内部,所述激光功率调节器与所述PLC控制器电性连接在一起。
[0013]通过采用上述技术方案,通过设置激光功率调节器,用于调节规范激光器发出的光束强度,增加实用性。
[0014]较佳的,所述激光器与所述激光功率调节器之间设置有激光扩束器,所述激光扩束器固定安装在所述光束孔的内部,所述激光扩束器与所述PLC控制器电性连接在一起。
[0015]通过采用上述技术方案,通过设置激光扩束器,用于分散激光器发出光束的能量,便于第一滤光镜,第二滤光镜和第三滤光镜对光束继进行过滤。
[0016]较佳的,所述仪器箱的底面固定安装有承载台。
[0017]通过采用上述技术方案,通过设置承载台,用于放置感光材料,进行光刻工作。
[0018]综上所述,本技术主要具有以下有益效果:
[0019]通过设置激光器,用于向光束孔的内部发射光束,通过设置光束校准组件,用于校准和稳定光束,通过设置分光镜,用于折射激光器发出的光束,通过设置电子变焦透镜,用于变焦调节分光镜折射出的光束,以适用于光刻强度,通过设置准直透镜,用于规范排序光粒子,稳定光束,通过设置第一滤光镜,第二滤光镜和第三滤光镜,用于过滤光束,以适应进行光刻。
[0020]通过设置激光功率调节器,用于调节规范激光器发出的光束强度,增加实用性,通过设置激光扩束器,用于分散激光器发出光束的能量,便于第一滤光镜,第二滤光镜和第三滤光镜对光束继进行过滤,通过设置承载台,用于放置感光材料,进行光刻工作。
附图说明
[0021]图1是本技术立体结构示意图;
[0022]图2是本技术仪器箱剖视结构示意图;
[0023]图3是本技术承载台结构示意图。
[0024]附图标记:1、仪器箱;2、光束孔;3、激光器;4、PLC控制器;5、分光镜;6、电子变焦透镜;7、准直透镜;8、第一滤光镜;9、第一滤光;10、第三滤光镜;11、激光功率调节器;12、激光扩束器;13、承载台;14、检测槽;15、光强探测仪。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0026]参考图1和图2,一种激光干涉投影光刻机,包括:仪器箱1,所述仪器箱1的一侧开设有光束孔2,仪器箱1的一侧固定安装有激光器3,激光器3的发射端与光束孔2固定卡接在一起,通过设置激光器3,用于向光束孔2的内部发射光束,仪器箱1的一侧内嵌有PLC控制器4,PLC控制器4与激光器3电性连接在一起,光束孔2的内部设置有光束校准组件,用于稳定光束,通过设置光束校准组件,用于校准和稳定光束,光束校准组件包括:三个分光镜5,三个分光镜5分别固定安装在光束孔2内三个直角位置内部,光束孔2的内部固定安装有电子变焦透镜6,电子变焦透镜6与PLC控制器4电性连接在一起,通过设置分光镜5,用于折射激
光器3发出的光束,通过设置电子变焦透镜6,用于变焦调节分光镜5折射出的光束,以适用于光刻强度。
[0027]参照图1和图2,所述光束校准组件还包括:准直透镜7,准直透镜7固定安装在光束孔2的内部,通过设置准直透镜7,用于规范排序光粒子,稳定光束,光束孔2的内部分别固定安装有第一滤光镜8,第二滤光镜9和第三滤光镜10,通过设置第一滤光镜8,第二滤光镜9和第三滤光镜10,用于过滤光束,以适应进行光刻,激光器3的前侧设置有激光功率调节器11,激光功率调节器11固定安装在光束孔2的内部,激光功率调节器11与PLC控制器4电性连接在一起,通过设置激光功率调节器11,用于调节规范激光器3发出的光束强度,增加实用性。
[0028]参照图2和图3,所述激光器3与激光功率调节器11之间设置有激光扩束器12,激光扩束器12固定安装在光束孔2的内部,激光扩本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光干涉投影光刻机,其特征在于,包括:仪器箱(1),所述仪器箱(1)的一侧开设有光束孔(2),所述仪器箱(1)的一侧固定安装有激光器(3),所述激光器(3)的发射端与所述光束孔(2)固定卡接在一起,所述仪器箱(1)的一侧内嵌有PLC控制器(4),所述PLC控制器(4)与所述激光器(3)电性连接在一起;光束校准组件,所述光束校准组件设置在所述光束孔(2)的内部,用于稳定光束。2.根据权利要求1所述的一种激光干涉投影光刻机,其特征在于,所述光束校准组件包括:三个分光镜(5),三个分光镜(5)分别固定安装在所述光束孔(2)内三个直角位置内部;电子变焦透镜(6),所述电子变焦透镜(6)固定安装在所述光束孔(2)的内部,所述电子变焦透镜(6)与所述PLC控制器(4)电性连接在一起。3.根据权利要求1所述的一种激光干涉投影光刻机,其特征在于,所述光束校准组件还包括...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢金荣
申请(专利权)人:常州中衡机械科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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