用于处理工件的处理设施和处理方法技术

本发明专利技术涉及一种用于处理工件(12)的处理设施，该处理尤其是指干燥，该工件尤其是指车身(14)。处理设施(10)包括处理舱(16)，该处理舱具有壳体(18)和位于壳体(18)中的处理空间(20)。处理设施(10)还包括输送系统(34)，借助该输送系统能够将工件(12)沿输送路线(S)并在输送方向(R)上输送进入到处理空间(20)中和/或输送穿过该处理空间，使得工件(12)的主轴线(A

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理工件的处理设施和处理方法

技术介绍
1.

[0001]本专利技术涉及一种用于处理工件的处理设施，该处理尤其是指干燥，该工件尤其是指车身，该处理设施具有
[0002]a)处理舱，该处理舱具有壳体和位于壳体中的处理空间；
[0003]b)输送系统，借助该输送系统能够将工件沿输送路线并在输送方向上输送进入到处理空间中和/或输送穿过该处理空间，使得工件的主轴线沿输送路线的至少一个横向输送部段横向于输送方向伸展；
[0004]c)气体系统，借助该气体系统能够在处理空间中产生气体流，并且该气体系统包括用于使气体进入到处理空间中的多个进入开口和用于使气体从处理空间离开的多个离开开口。
[0005]此外，本专利技术涉及一种用于在处理设施中处理工件的处理方法，该处理尤其是指干燥，该工件尤其是指车身，该处理方法包括：
[0006]A)借助于输送系统将工件沿输送路线并在输送方向上输送进入到处理空间中和/或输送穿过该处理空间，其中工件的主轴线沿输送路线的至少一个横向输送部段横向于输送方向伸展；
[0007]B)通过使气体进入到处理空间中并且使气体从处理空间离开，在处理空间中产生气体流。
[0008]2.现有技术
[0009]上述类型的处理设施通常是包括多个处理设施的生产线或处理线的一部分，在这些处理设施中分别对工件执行彼此不同的处理，从半成品到完成品。在此，不同的处理设施能够存在于不同的地点，由此需要在地点之间运输中间产品。在这种处理设施中，工件通常借助输送系统输送至一个或更多个处理舱，然后在该一个或更多个处理舱中处理工件直到其完成或者直到其达到可进一步运输的中间产品。
[0010]在此，工件在间歇的或连续的输送运行中被输送到各个处理舱的处理空间中和/或例如在连续式处理舱(如连续式干燥机)的情况下输送穿过该连续式处理舱。根据要实现的优点，输送系统能够在处理线中包括运输车和/或牵引或推动元件，借助该运输车和/或牵引或推动元件可以沿着由输送系统机械预设的和/或通过路径标记预设的输送路线进行输送。从现有技术中尤其已知地面运输车、可能是自由行驶的或轨道式的运输车。在具有环境传感器装置和车载控制装置的并且可以全向移动的自由行驶的运输车的情况下，输送路线除了输送轨道或所提及的路径标记外也能够通过设施内部的中央控制装置和/或通过车载控制装置来预设。
[0011]由于在已知的处理空间中经常对工件执行处理，其中，例如通过切削加工步骤、通过对工件施加涂覆或通过干燥，会产生侵蚀性的和有害健康的有害气氛，所以处理舱具有壳体，该壳体通常是全方位封闭的或是可全方位封闭的，使得仅少部分有害气氛到达不期
望的区域中，其主要是由气体、液体和/或颗粒状固体组成的气溶胶混合物。
[0012]此外，从现有技术中已知的处理设施通常具有气体系统以用于从处理空间中导出有害气氛，借助该气体系统可以在处理空间中产生气体流。气体系统为了使气体进入到处理空间中而具有多个进入开口并且为了使其离开而具有多个离开开口。当前，气体也被理解为气体混合物(即例如空气等)。
[0013]由有害气氛和进入处理空间中的气体组成的混合物在从处理空间离开后通常被供应至调节装置，该调节装置能够具有多个调节级，并且借助该调节装置可以将有害气氛调节成可重新供应至处理空间的气体，于是在空气的情况下被称为“循环空气”。借助调节装置，例如能够分离有害气氛的侵蚀性的和有害健康的组成部分，并且能够调节温度以及气溶胶和/或以气体形式存在的水的份额。
[0014]但是，这种气体系统不仅能够用于导出有害气氛，而且还能够例如用于对工件进行干燥、尤其是对流和/或辐射干燥。在处理设施的这种设计方案中，通常由调节装置预先调节的气体流于是具有双重功能：该气体流还对工件进行温度调节，由此位于工件表面的液体蒸发到处理空间气氛中或者可能开始交联过程。这引起工件干燥。
[0015]如果处理设施在输送方向上保持较短，则会有利的是：将工件输送进入到处理空间中和/或输送穿过该处理空间，使得各工件的主轴线沿输送路线的至少一个横向输送部段横向于输送方向伸展。由此，与主轴线始终平行于输送方向伸展的通常的工件输送相比，特别是在长度长于宽度且主轴线因此由纵向轴线限定的工件可以在输送方向上以更短的长度将相同数量的工件安置在处理舱的处理空间中。
[0016]在工件长度基本上与宽度相同的情况下(即，最初不清楚主轴线如何伸展穿过工件)，主轴线例如能够通过现有的对称轴线来限定。在这种类型的工件的情况下，例如根据这些工件的几何形状，如果主轴线在横向输送部段中横向于输送方向伸展，则也是有利的。
[0017]特别是在那些完成后根据后续应用会具有“前”和“后”或“上”和“下”的可能复杂的构型的工件(与该工件现在是否仅具有一个主轴线或具有构成为纵向轴线的主轴线无关)情况下，提供：所述工件在横向输送部段中以横向于输送方向伸展的主轴线输送。
[0018]在DE 10 2015 017 280 B3中描述一种用于处理构成为车身的工件的处理设施，其中一侧的进入开口和另一侧的离开开口设置在平行于输送方向并对角延伸穿过处理空间的对角平面的彼此相对的侧上。
[0019]此外，在DE 10 2015 017 279 B3中描述一种类似的处理设施，其中一侧的进入开口和另一侧的离开开口设置在工件的彼此相对的侧上。
[0020]在现有技术已知的这些处理设施中，进入开口和离开开口在空间上相距较远，使得用于气体供应和气体导出的部件和构件相应地必须设置在处理舱的不同侧上。由此，这些处理设施相对复杂地构成，进而尤其产生相对较高的运行成本、制造成本和维护成本以及在初始建造处理设施时的高成本。

技术实现思路

[0021]因此，本专利技术的目的是提出一种用于处理工件的处理设施和一种用于在上述类型的处理设施中处理工件的处理方法，其克服了上述现有技术的缺点。
[0022]在上述类型的处理设施中，该目的通过以下方式来实现：
[0023]进入开口和离开开口在横向输送部段中如下设置：
[0024]d)在工件的垂直于输送方向的同一侧上；
[0025]和/或
[0026]e)仅在处理空间的平行于输送方向延伸的两个相邻的空间象限中，这两个相邻的空间象限由竖直平面、水平平面和壳体的壳体部段限定；
[0027]和/或
[0028]f)在处理空间的同一空间象限中，该同一空间象限由第一对角平面、第二对角平面和壳体的壳体部段限定，其中第一对角平面和第二对角平面平行于输送方向伸展。
[0029]根据本专利技术已经认识到：与现有技术中已知的处理设施相比，利用进入开口和离开开口在横向输送部段中的这种“单侧”布置能够显著地降低总成本，因为处理设施尤其需要更少的构件，此外在相应的布置中可以更能量有效地在处理空间中产生气体流。
[0030]水平平面平行于输送方向延伸穿过处理空间。下文中，使用的术语“水平”旨在表示相对于水平平面平行的延伸。竖直平面垂直于水平平面伸展并且平行于输送本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理工件(12)的处理设施，所述处理尤其是指干燥，所述工件尤其是指车身(14)，所述处理设施具有a)处理舱(16)，所述处理舱具有壳体(18)和位于所述壳体(18)中的处理空间(20)；b)输送系统(34)，借助所述输送系统能够将所述工件(12)沿输送路线(S)并在输送方向(R)上输送进入到所述处理空间(20)中和/或输送穿过所述处理空间，使得工件(12)的主轴线(A
H
)沿所述输送路线(S)的至少一个横向输送部段(S
Q
)横向于所述输送方向(R)伸展；c)气体系统(58)，借助所述气体系统能够在所述处理空间(20)中产生气体流(64)，并且所述气体系统包括用于使气体进入到所述处理空间中的多个进入开口(60)和用于使气体从所述处理空间(20)离开的多个离开开口(62)；其特征在于，进入开口(60)和离开开口(62)在横向输送部段(S
Q
)中如下设置：d)在工件(12)的垂直于所述输送方向(R)的同一侧(66)上；和/或e)仅在所述处理空间(20)的平行于所述输送方向(R)延伸的两个相邻的空间象限(68)中，所述两个相邻的空间象限由竖直平面(72)、水平平面(74)和所述壳体(18)的壳体部段(76a)限定；和/或f)在所述处理空间(20)的同一空间象限(70)中，所述同一空间象限由第一对角平面(86)、第二对角平面(88)和所述壳体(18)的壳体部段(76b)限定，其中所述第一对角平面(86)和所述第二对角平面(88)平行于所述输送方向(R)伸展。2.根据权利要求1所述的处理舱，其特征在于，所述水平平面(74)和所述竖直平面(72)分别伸展穿过几何的工件辅助方体(78)的中心点(M)，其中两个相对的侧面(80)垂直于所述输送方向(R)伸展，并且其中每个侧面(80)分别以相切的方式接触工件(12)的最外点(82)。3.根据权利要求1或2所述的处理设施，其特征在于，所述气体系统(58)具有分配装置(98)，利用所述分配装置能够沿着和/或横向于所述输送路线(S)将气体分配到所述处理空间(20)的多个特定的区域中。4.根据权利要求3所述的处理设施，其特征在于，所述分配装置(98)具有设置在所述处理空间(20)中的至少一个气体通道(100)，所述气体流(64)能够在进入到所述处理空间(20)中之前被引导通过所述至少一个气体通道。5.根据权利要求3或4所述的处理设施，其特征在于，所述分配装置(98)具有至少一个分配部段(102)，所述气体系统(58)的至少一些进入开口(60)构成在所述至少一个分配...

【专利技术属性】
技术研发人员：赫伯特，
申请(专利权)人：艾森曼有限公司，
类型：发明
国别省市：