电解铜箔的溶铜方法技术

本申请提供一种电解铜箔的溶铜方法，包括：提供装有金属铜的溶铜槽；将包含铁离子的第一电解液通入溶铜槽中，以溶解金属铜的至少部分表面，得到包含铜离子和亚铁离子的反应液；将反应液通入电解槽中，以向第一电解液中补充铜离子和亚铁离子，得到第二电解液；使第二电解液进行电解反应，以使铜离子和亚铁离子分别被还原为铜单质以及被氧化为铁离子，得到第三电解液；和将第三电解液通入溶铜槽中，以继续溶解金属铜的至少部分表面。本申请提供的电解铜箔的溶铜方法工序简单，成本较低，同时利于提升电镀品品质的稳定性。利于提升电镀品品质的稳定性。利于提升电镀品品质的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
电解铜箔的溶铜方法


[0001]本申请涉及电解铜箔
，特别是涉及一种电解铜箔的溶铜方法。

技术介绍

[0002]目前电解铜箔和电解复合铜箔，都是主要由电镀沉积法制备，一般由镀液中铜离子在导通电源负极下得到电子，还原成铜单质，然后沉积在合适的载体上(包括阴极辊或物理沉积后的种子层)。其中，溶铜工序是电解铜箔生产的第一道工序，目的是将金属铜投入到硫酸溶液中溶解成硫酸铜溶液，并将硫酸铜溶液补充到电镀液中，从而供给后续的铜箔生产工序。传统的溶铜方法中，电镀液中铜离子的来源一般有以下几种：(1)氧化铜副槽溶解，铜离子补充进镀液中；(2)溶铜罐在空气和硫酸作用下，将铜原材料溶解，然后导入镀液中；(3)以磷铜球做可溶性阳极，通电后慢慢溶解入镀液中。虽然上述几种传统的溶铜方法已可实现镀液中铜离子的补充，但仍然存在成本较高、工序复杂以及获得的电镀品品质不稳定等缺点。

技术实现思路

[0003]基于此，本申请提供一种电解铜箔的溶铜方法，旨在提升电镀品品质的稳定性，同时降低溶铜工序的成本和复杂性。
[0004]本申请提供了一种电解铜箔的溶铜方法，包括：
[0005]提供装有金属铜的溶铜槽；
[0006]将包含铁离子的第一电解液通入所述溶铜槽中，以溶解所述金属铜的至少部分表面，得到包含铜离子和亚铁离子的反应液；
[0007]将所述反应液通入电解槽中，以向所述第一电解液中补充铜离子和亚铁离子，得到第二电解液；
[0008]使所述第二电解液进行电解反应，以使所述铜离子和所述亚铁离子分别被还原为铜单质以及被氧化为铁离子，得到第三电解液；和
[0009]将所述第三电解液通入所述溶铜槽中，以继续溶解所述金属铜的至少部分表面。
[0010]跟据本申请的任一实施方式，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电解液中铁离子的浓度各自独立地为0.2g/L～20g/L。
[0011]跟据本申请的任一实施方式，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电解液中铁离子的浓度各自独立地为6g/L～8g/L。
[0012]跟据本申请的任一实施方式，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电解液中还各自独立地包含亚铁离子和铜离子，其中，所述亚铁离子的浓度各自独立地为0.1g/L～25g/L。
[0013]跟据本申请的任一实施方式，所述亚铁离子的浓度各自独立地为2g/L～25g/L。
[0014]跟据本申请的任一实施方式，所述铜离子的浓度各自独立地为40g/L～100g/L。
[0015]跟据本申请的任一实施方式，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电
解液中还各自独立地包含硫酸、氯离子和酸性镀铜添加剂中的一种或多种。
[0016]跟据本申请的任一实施方式，所述硫酸的浓度各自独立地为80g/L～250g/L。
[0017]跟据本申请的任一实施方式，所述氯离子的浓度各自独立地为5ppm～100ppm。
[0018]跟据本申请的任一实施方式，所述酸性镀铜添加剂包括络合剂、促进剂和抑制剂中的一种或多种；可选地，所述络合剂包括酒石酸钾钠、柠檬酸钠、乙二胺四乙酸二钠及三乙醇胺中的至少一种；可选地所述促进剂包括聚二硫二丙烷磺酸钠和3
‑
巯基
‑1‑
丙烷磺酸钠中的至少一种；可选地所述抑制剂包括聚乙二醇。
[0019]本申请提供的电解铜箔的溶铜方法中，首先提供了装有金属铜的溶铜槽，然后将包含铁离子的第一电解液通入到溶铜槽中，由于第一电解液中包含铁离子，铁离子可作为氧化剂而将金属铜的表面氧化溶解，从而生成包含铜离子和亚铁离子的反应液，然后再将反应液通入到电解槽中，即可实现向第一电解液中补充铜离子和亚铁离子，得到第二电解液。第二电解液会在电解槽中发生电解反应，其中的铜离子会在电解反应中被还原成铜单质，随后不断沉积到载体上而获得铜箔；而亚铁离子则会被氧化为铁离子，即形成包含铁离子的第三电解液，而第三电解液会在后续过程中再次被通入到溶铜槽中去继续溶解金属铜。由此该方法可在溶铜槽和电解槽之间不断循环，并在循环过程中实现铜离子的持续补充，并最终获得铜箔。而且该方法工序简单，过程中无需加热加气，也无需使用常规溶铜罐所要求的设备和管道等设施，使用该方法后不需要使用价格更高的氧化铜，也没有阳极泥和颗粒的生成，由此有利于提升电镀品品质的稳定性。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据公开的附图获得其他的附图。
[0021]图1为本申请一实施方式的溶铜方法所用装置的平面结构示意图。
[0022]附图标记说明：
[0023]1：电解槽；2：装有金属铜的溶铜槽；3：管道；4：管道；
[0024]11：阳极；12：阴极；21：金属铜。
具体实施方式
[0025]为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳实施例。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。
[0026]为了简便，本申请仅明确地公开了一些数值范围。然而，任意下限可以与任何上限组合形成未明确记载的范围；以及任意下限可以与其它下限组合形成未明确记载的范围，同样任意上限可以与任意其它上限组合形成未明确记载的范围。此外，尽管未明确记载，但是范围端点间的每个点或单个数值都包含在该范围内。因而，每个点或单个数值可以作为自身的下限或上限与任意其它点或单个数值组合或与其它下限或上限组合形成未明确记
载的范围。
[0027]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。需要说明的是，除非另有说明，本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合，“以上”、“以下”为包含本数，“一种或多种”中的“多种”的含义是两种以上。
[0028]在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0029]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电解铜箔的溶铜方法，其特征在于，包括：提供装有金属铜的溶铜槽；将包含铁离子的第一电解液通入所述溶铜槽中，以溶解所述金属铜的至少部分表面，得到包含铜离子和亚铁离子的反应液；将所述反应液通入电解槽中，向所述第一电解液中补充铜离子和亚铁离子，得到第二电解液；使所述第二电解液进行电解反应，以使所述铜离子和所述亚铁离子分别被还原为铜单质以及被氧化为铁离子，得到第三电解液；和将所述第三电解液通入所述溶铜槽中，以继续溶解所述金属铜的至少部分表面。2.根据权利要求1所述的溶铜方法，其特征在于，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电解液中铁离子的浓度各自独立地为0.2g/L～20g/L。3.根据权利要求1所述的溶铜方法，其特征在于，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电解液中铁离子的浓度各自独立地为6g/L～8g/L。4.根据权利要求1
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3任一项所述的溶铜方法，其特征在于，所述第一电解液、所述第二电解液以及所述第三电解液中还各自独立地包含亚铁离子和铜离子，其中，所述亚铁离子的浓度各自独立地为0.1g/...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢建栋，蒋文强，刘国春，贾斌，李学法，张国平，
申请(专利权)人：扬州纳力新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：