一种刻蚀机等离子线圈安装结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种刻蚀机等离子线圈安装结构，包括置于刻蚀机腔体下方的中心线圈和一组外围线圈，所述中心线圈和外围线圈的下方连接设置有带动中心线圈和外围线圈转动的驱动装置，该驱动装置包括驱动电机，安装在驱动电机上的转动座，所述转动座上连接设置有三个外圈支撑片，外圈支撑片上设置有外圈支撑导通柱，所述外圈支撑导通柱上设置有支撑外围线圈的支撑板，支撑板螺栓固定连接在外围线圈上；所述外围线圈间还设置有用于保证外围线圈间相对位置的定位板，所述定位板螺栓固定连接在外围线圈上。本实用新型专利技术通过转动中心线圈和外围线圈，从而提高刻蚀机腔体内等离子气体分布的均匀性，保证晶圆刻蚀的一致性，可广泛应用于刻蚀机领域。用于刻蚀机领域。用于刻蚀机领域。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀机等离子线圈安装结构


[0001]本技术涉及晶片加工
，尤其是涉及一种刻蚀机等离子线圈安装结构。

技术介绍

[0002]刻蚀机是晶片加工中重要的加工设备，在加工过程中，晶圆置于刻蚀机腔体内，并向刻蚀机腔体内不断添加刻蚀气体，在下方等离子线圈的作用下产生等离子气体，等离子气体作用在晶圆上对晶圆表面进行刻蚀。现有的刻蚀机，腔体和等离子线圈均为固定不动的结构，在刻蚀时，由于等离子线圈本身的原因，每个位置的输出功能不一致，等离子线圈输出不一致会造成上方的等离子气体分布不均匀，就会造成晶圆上的刻蚀速度不一致，导致晶圆刻蚀厚度不一致，从而造成晶圆的报废，影响产品的合格率，因此，需要对刻蚀线圈进行改进，以解决刻蚀线圈自身的缺陷造成等离子气体分布不均匀的问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种刻蚀机等离子线圈安装结构，解决现有线圈固定方式功率输出不均匀导致刻蚀机腔体内等离子分布不均匀的问题。
[0004]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种刻蚀机等离子线圈安装结构，包括置于刻蚀机腔体下方的中心线圈和一组外围线圈，所述中心线圈和外围线圈的下方连接设置有带动中心线圈和外围线圈转动的驱动装置，该驱动装置包括驱动电机，安装在驱动电机上的转动座，所述转动座上连接设置有三个外圈支撑片，外圈支撑片上设置有外圈支撑导通柱，所述外圈支撑导通柱上设置有支撑外围线圈的支撑板，支撑板螺栓固定连接在外围线圈上；所述外围线圈间还设置有用于保证外围线圈间相对位置的定位板，所述定位板螺栓固定连接在外围线圈上。
[0005]为方便对中心线圈进行微调，所述中心线圈为非封闭的圆环结构，所述转动座的一端设置有内圈支撑片，内圈支撑片的端部设置有内圈支撑导通柱，所述中心线圈的一端固定安装在内圈支撑导通柱上，所述内圈支撑片的端部设置有长条形安装孔，所述内圈支撑导通柱的一端螺栓连接固定在长条形安装孔上。
[0006]优选的，所述外围线圈在刻蚀机腔体下方间隔设置有三道，且每道外围线圈由三道断开的子线圈组成，三个外圈支撑导通柱对应三段子线圈，其余子线圈分别与上述三段子线圈中的一段连通。
[0007]为方便给中心线圈和外围线圈供电导通，所述转动座外还设置有与转动座接触导通的导电片，导电片连接设置有使中心线圈和外围线圈产生电场的匹配器。
[0008]为方便连接同时避免与其他设备产生通路，所述驱动电机的输出轴与转动座间设置有联轴器，所述联轴器的表面为非导电材料。
[0009]本技术的有益效果：本技术通过驱动装置带动中心线圈和外围线圈转动，从而能够有效解决在刻蚀时，中心线圈和外围线圈在刻蚀机腔体下方产生的电场不均
匀，造成刻蚀腔体内等离子气体分布不均匀，晶圆上的刻蚀速度不一致的问题，通过缓慢转动中心线圈和外围线圈，改变中心线圈和外围线圈与刻蚀机腔体的相对位置，从而使在电场作用下产生的等离子气体分布更加的均匀。所述外围线圈采用多段的子线圈相互连接，并通过三个外圈支撑导通柱导通，能够更好的保证电场分布的均匀性。所述中心线圈采用长条形安装孔进行安装，方便对中心线圈的位置进行微调，以使刻蚀腔体的中心位置电场分布更加的均匀合理。所述导电片能够保证转动的转动座与匹配器导通。
[0010]以下将结合附图和实施例，对本技术进行较为详细的说明。
附图说明
[0011]图1为本技术的立体结构示意图。
[0012]图2为本技术的立体结构示意图。
[0013]图3为本技术的正视图。
[0014]图4为本技术中导电片的剖视图。
[0015]图5为本技术中长条形安装孔的示意图。
具体实施方式
[0016]实施例，如图1至5所示，一种刻蚀机等离子线圈安装结构，包括置于刻蚀机腔体下方的中心线圈1和一组外围线圈2，为提高刻蚀机腔体内等离子气体分布的均匀性，对中心线圈1和外围线圈2做出了调整，具体为：
[0017]所述中心线圈1和外围线圈2的下方连接设置有带动中心线圈1和外围线圈2转动的驱动装置，该驱动装置包括驱动电机3，安装在驱动电机3上的转动座4，所述驱动电机3的输出轴与转动座4间设置有联轴器14，所述联轴器14的表面为非导电材料，方便安装的同时，避免联轴器14与刻蚀机的底板接触导通。所述转动座4上连接设置有三个外圈支撑片5，外圈支撑片5上设置有外圈支撑导通柱6，所述外圈支撑导通柱6上设置有支撑外围线圈2的支撑板7，支撑板7螺栓固定连接在外围线圈2上。支撑板7不仅起到支撑外圈线圈的作用，同时，转动座4通过外圈支撑导通柱6、支撑板7与外围线圈2导通。所述转动座4外还设置有与转动座4接触导通的导电片12，导电片12连接设置有使中心线圈1和外围线圈2产生电场的匹配器13，匹配器13与电源连接。为保证导电片12与转动座4接触良好，所述导电片12与匹配器13间设置有顶出弹簧15，通过顶出弹簧15保证导电片12与转动座4接触导通。所述导电片12为与转动座4相适配的弧形结构。在晶体刻蚀时，驱动装置带动中心线圈1和外围线圈2缓慢转动一周或者数周，从而提高刻蚀机腔体内等离子分布的均匀性。
[0018]为保证外围线圈2相互间的位置精度，防止转动时移位，所述外围线圈2间还设置有用于保证外围线圈2间相对位置的定位板8，所述定位板8螺栓固定连接在外围线圈2上。为提高外圈线圈2电场分布的均匀性，所述外围线圈2在刻蚀机腔体下方间隔设置有三道，且每道外围线圈2由三道断开的子线圈21组成，三个外圈支撑导通柱6对应三段子线圈21，其余子线圈21分别与上述三段子线圈21中的一段连通，从而保证每个子线圈21都能获得电源。
[0019]所述中心线圈1为非封闭的圆环结构，所述转动座4的一端设置有内圈支撑片9，内圈支撑片9的端部设置有内圈支撑导通柱10，所述中心线圈1的一端固定安装在内圈支撑导
通柱10上，所述内圈支撑片9的端部设置有长条形安装孔91，所述内圈支撑导通柱10的一端螺栓连接固定在长条形安装孔91上，通过长条形安装孔91可以对中心线圈1的位置进行微调，以获得更好的电场分布，保证刻蚀机腔体中心位置等离子气体分布的均匀性。
[0020]以上结合附图对本技术进行了示例性描述。显然，本技术具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本技术的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本技术的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀机等离子线圈安装结构，包括置于刻蚀机腔体下方的中心线圈(1)和一组外围线圈(2)，其特征在于：所述中心线圈(1)和外围线圈(2)的下方连接设置有带动中心线圈(1)和外围线圈(2)转动的驱动装置，该驱动装置包括驱动电机(3)，安装在驱动电机(3)上的转动座(4)，所述转动座(4)上连接设置有三个外圈支撑片(5)，外圈支撑片(5)上设置有外圈支撑导通柱(6)，所述外圈支撑导通柱(6)上设置有支撑外围线圈(2)的支撑板(7)，支撑板(7)螺栓固定连接在外围线圈(2)上；所述外围线圈(2)间还设置有用于保证外围线圈(2)间相对位置的定位板(8)，所述定位板(8)螺栓固定连接在外围线圈(2)上。2.如权利要求1所述的刻蚀机等离子线圈安装结构，其特征在于：所述中心线圈(1)为非封闭的圆环结构，所述转动座(4)的一端设置有内圈支撑片(9)，内圈支撑片(9)的端部设置有内圈支撑导通柱(10)，所述中心线圈(1)...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈亮，冯晋荃，李昌勋，彭艳亮，汪剑，李强，刘建哲，祝小林，徐良，
申请(专利权)人：黄山博蓝特半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：