一种涂布装置制造方法及图纸

技术编号:35690572 阅读:18 留言:0更新日期:2022-11-23 14:38
本实用新型专利技术提供一种涂布装置,包括:涂布平台,涂布平台适于承载基片以在基片表面形成液膜;盖体,盖体具有远离涂布平台的第一状态、以及与涂布平台接触的第二状态,盖体与涂布平台接触以形成密闭空间,涂布有液膜的基片适于位于密闭空间内;加热部,加热部位于盖体内,加热部适于对密闭空间进行加热。上述涂布装置不需要对基片进行转移,在涂布液膜的位置就能够进行对液膜的后处理以得到固体薄膜,不仅避免了由于基片转移导致的基片破碎,还节约了制备时间,提高了生产效率。此外,上述涂布装置结构简单,具有较强的实用性。具有较强的实用性。具有较强的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种涂布装置


[0001]本技术涉及薄膜制备
,具体涉及一种涂布装置。

技术介绍

[0002]涂布工艺为在基片表面制备薄膜的常规方法。涂布工艺包括以下步骤:将基片放置在涂布装置中,在基片表面涂布前驱体溶液以形成液膜;将具有液膜的基片转移至后处理设备,对液膜进行后处理,以得到稳定的固体薄膜。
[0003]然而,基片在上述转移过程中容易发生跌落,从而导致基片破碎,不仅降低了生产效率,还造成了基片的浪费。

技术实现思路

[0004]因此,本技术要解决的技术问题在于克服现有涂布工艺易导致基片破碎的缺陷,从而提供一种涂布装置。
[0005]本技术提供一种涂布装置,包括:涂布平台,所述涂布平台适于承载基片以在所述基片表面形成液膜;盖体,所述盖体具有远离所述涂布平台的第一状态、以及与所述涂布平台接触的第二状态,所述盖体与所述涂布平台接触以形成密闭空间,涂布有液膜的所述基片适于位于所述密闭空间内;加热部,所述加热部位于所述盖体内,所述加热部适于对所述密闭空间进行加热。
[0006]可选的,所述涂布装置还包括减压部,所述减压部适于对所述密闭空间进行减压。
[0007]可选的,所述盖体包括:顶板;侧板,所述侧板围设在所述顶板的边缘,所述侧板的一端与所述顶板连接;密封圈,所述密封圈嵌设在所述侧板的另一端且适于与所述涂布平台接触。
[0008]可选的,所述涂布装置还包括位于所述涂布平台上的至少两个限位杆,所述限位杆朝向远离所述涂布平台的方向延伸,所述限位杆贯穿所述盖体,所述盖体适于沿所述限位杆进行升降运动;所述涂布平台具有涂布区域,所述涂布区域适于承载所述基片,所述涂布区域位于所述盖体在所述涂布平台的正投影内。
[0009]可选的,所述涂布装置还包括升降部,所述升降部与所述盖体的外侧连接,所述升降部适于带动所述盖体进行升降运动,以使所述盖体在第一状态和第二状态下交替变化。
[0010]可选的,所述涂布装置还包括涂布组件,所述涂布组件包括:位于所述涂布平台侧部的轨道和滑动件,所述滑动件适于沿着所述轨道滑动;位于所述涂布平台上方的涂头,所述涂头与所述滑动件连接,所述涂头至所述涂布平台的最大距离小于所述盖体至所述涂布平台的最小距离,且小于所述限位杆的长度;所述涂布平台具有初始位置,所述涂头在所述初始位置不进行涂布,所述涂布区域位于所述初始位置与所述限位杆之间。
[0011]可选的,所述涂布装置还包括抽气孔,所述抽气孔位于所述涂布平台或所述盖体上,所述抽气孔适于位于所述密闭空间内;真空管路,所述真空管路连通所述抽气孔和所述减压部,以对所述密闭空间进行减压。
[0012]可选的,所述抽气孔位于所述涂布平台上。
[0013]可选的,所述涂布装置还包括进气孔,所述进气孔位于所述涂布平台或所述盖体上,所述进气孔适于位于所述密闭空间内;气源和进气管,所述进气管连通所述气源与所述进气孔。
[0014]可选的,所述进气孔位于所述涂布平台上。
[0015]本技术技术方案,具有如下优点:
[0016]1.本技术提供的涂布装置,包括盖体以及位于盖体内的加热部。在基片表面涂布前驱液时,盖体远离涂布平台;在基片表面形成液膜之后,将盖体与涂布平台接触以形成密闭空间,且基片位于密闭空间内,位于盖体内的加热部对液膜进行加热处理,即,不需要对基片进行转移,在涂布液膜的位置就能够进行对液膜的后处理以得到固体薄膜,不仅避免了由于基片转移导致的基片破碎,还节约了制备时间,提高了生产效率。此外,上述涂布装置结构简单,具有较强的实用性。
[0017]2.本技术提供的涂布装置,还包括减压部,所述减压部能够对密闭空间进行减压,从而调控液膜中溶剂的挥发速率,进而实现对薄膜结晶过程的控制,有利于制备均匀致密的高质量薄膜。
[0018]3.本技术提供的涂布装置,还包括位于所述涂布平台上的至少两个限位杆,所述限位杆朝向远离所述涂布平台的方向延伸并贯穿所述盖体,使所述盖体沿所述限位杆进行升降运动,限制了所述盖体的横向位置,使所述盖体始终位于涂布区域的正上方,当盖体下降后能够与涂布平台形成密闭空间,且基片位于密闭空间内。
[0019]4.本技术提供的涂布装置,通过限定所述涂布区域位于所述初始位置与所述限位杆之间,以及所述涂头至所述涂布平台的最大距离小于所述盖体至所述涂布平台的最小距离,从而保证涂头能够顺利从初始位置滑动至基片背离所述初始位置的一侧,形成覆盖基片的完整表面的液膜,进而保证了固体薄膜的完整性,保证了薄膜的制备效果。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术实施例提供的涂布装置的结构示意图;
[0022]图2为图1所示的盖体的仰视图;
[0023]附图标记说明:
[0024]1‑
涂布平台;2

盖体;3

加热部;4

减压部;5

真空管路;6

限位杆;7

支撑平台;8

丝杆;9

升降电机;10

轨道;11

滑动杆;12

滑动电机;13

涂头;14

连接件。
具体实施方式
[0025]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用
新型保护的范围。
[0026]在本技术的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
[0027]在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0028]参见图1

图2,本实施例提供一种涂布装置,包括:
[0029]涂布平台1,所述涂布平台1适于承载基片以在所述基片表面形成液膜;
[0030]本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布装置,其特征在于,包括:涂布平台,所述涂布平台适于承载基片以在所述基片表面形成液膜;盖体,所述盖体具有远离所述涂布平台的第一状态、以及与所述涂布平台接触的第二状态,所述盖体与所述涂布平台接触以形成密闭空间,涂布有液膜的所述基片适于位于所述密闭空间内;加热部,所述加热部位于所述盖体内,所述加热部适于对所述密闭空间进行加热。2.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,还包括:减压部,所述减压部适于对所述密闭空间进行减压。3.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述盖体包括:顶板;侧板,所述侧板围设在所述顶板的边缘,所述侧板的一端与所述顶板连接;密封圈,所述密封圈嵌设在所述侧板的另一端且适于与所述涂布平台接触。4.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,还包括:位于所述涂布平台上的至少两个限位杆,所述限位杆朝向远离所述涂布平台的方向延伸,所述限位杆贯穿所述盖体,所述盖体适于沿所述限位杆进行升降运动;所述涂布平台具有涂布区域,所述涂布区域适于承载所述基片,所述涂布区域位于所述盖体在所述涂布平台的正投影内。5.根据权利要求1或4所述的涂布装置,其特征在于,还包括:升降部,所述升降部与所述盖体的外侧连接,所述升降部...

【专利技术属性】
技术研发人员:毕恩兵金童
申请(专利权)人:宣城先进光伏技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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