光刻机双光源曝光系统技术方案

本发明专利技术公开了光刻机双光源曝光系统，包括曝光机架和设置在曝光机架内底部凹槽处的调节组件以及螺栓安装在曝光机架右端的控制面板，所述曝光机架内侧壁螺栓安装有导轨组件，所述调节组件右端位移块螺栓安装有曝光平台，所述调节组件与控制面板电连接，通过设置了导流机构在曝光机架顶部，通过风机板带动外部气流进入过滤棉层内部进行过滤，并通过离子发生器发射出的负离子使该气流形成清洁气流，并通过换向阀和吹扫管的导流对工件表面进行吹扫动作，有利于提高对曝光工件的清洁效果，通过设置了曝光机构在导轨组件前端，通过安装侧板带动曝光器和调平推杆进行水平位移调节，此时通过对齐传感器对其进行位移对齐动作。通过对齐传感器对其进行位移对齐动作。通过对齐传感器对其进行位移对齐动作。

【技术实现步骤摘要】
光刻机双光源曝光系统


[0001]本专利技术涉及曝光设备相关领域，具体是光刻机双光源曝光系统。

技术介绍

[0002]光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上；光刻技术是半导体加工领域的核心技术，随着掩模图形尺寸的逐渐缩小，为了降低光学掩模版加工成本衍生了无掩模光刻技术。
[0003]目前传统无掩模曝光系统在光刻分辨率不断提高的情况下生产效率急剧下降，为了提高生产率因此采用多套无掩模光刻系统组合在一起形成多套曝光装置；而多套曝光装置的体积较大，使得在基片尺寸范围内无法高效率地实现多曝光布局，从而无法提升曝光效率和生产效率；并且多套曝光装置组合也增加了硬件成本；传统设备在进行显影动作时，容易造成边缘的芯片图形出现倾倒或变形，直接降低了整个硅片的芯片良率；传统设备在进行曝光动作前缺少对曝光件的预处理动作，同时现有设备在进行曝光时缺少对光源的有效调节和导向，进而容易影响曝光效果。

技术实现思路

[0004]因此，为了解决上述不足，本专利技术在此提供光刻机双光源曝光系统。
[0005]本专利技术是这样实现的，构造光刻机双光源曝光系统，该装置包括曝光机架和设置在曝光机架内底部凹槽处的调节组件以及螺栓安装在曝光机架右端的控制面板，所述曝光机架内侧壁螺栓安装有导轨组件，所述调节组件右端位移块螺栓安装有曝光平台，所述调节组件与控制面板电连接，还包括安装在曝光机架顶部的导流机构和导轨组件前端的曝光机构，所述曝光机构包括螺栓安装在导轨组件位移滑块前端的安装侧板，所述安装侧板前端中侧设置有曝光器和螺栓安装在安装侧板前端左右两侧的调平推杆以及螺栓安装在安装侧板底部中侧的对齐传感器，所述调平推杆调节杆底部螺栓安装有遮光件，所述遮光件内侧通槽壁固定安装有掩模版和负性光刻胶以及粘黏固定在遮光件底部的电路图形板，所述调平推杆与控制面板电连接。
[0006]优选的，所述曝光器包括螺栓安装在安装侧板前端的曝光壳体，所述曝光壳体底部粘黏设置有透光孔和螺栓安装在曝光壳体内部的固定架体，所述固定架体底部左侧螺栓安装有微型电源和螺栓安装在固定架体顶部左侧的第一曝光光源以及固定安装在固定架体内槽壁的透光镜，所述固定架体顶部右侧设有聚合组件，所述第一曝光光源顶部螺栓安装有第二曝光光源，所述微型电源和第一曝光光源以及第二曝光光源均与控制面板电连接。
[0007]优选的，所述聚合组件包括螺纹安装在固定架体顶部右侧的调节螺杆，所述调节螺杆固定安装在第一遮光板底部，所述第一遮光板顶部焊接有铰接环，所述铰接环焊接在第二遮光板底部，所述第一曝光光源和第二曝光光源内左壁均螺栓安装有激光器和固定安装在第一曝光光源和第二曝光光源内部的聚光镜，所述第一曝光光源和第二曝光光源内壁
分别与聚合光栅和平行光栅外框壁螺栓连接，所述激光器与控制面板电连接。
[0008]优选的，所述导流机构包括螺栓安装在曝光机架顶部的过滤机箱，所述过滤机箱后端螺栓安装有风机板和螺栓安装在过滤机箱内部后侧的过滤棉层以及螺栓安装在过滤机箱顶部的离子发生器，所述过滤机箱前端管道安装有拉伸气管，所述拉伸气管底部与换向阀顶部管道连接，所述换向阀左右两端出风口管道安装有吹扫管和管道安装在换向阀底部的换热管，所述吹扫管和换热管底部均管道安装有橡胶套管，所述风机板和离子发生器以及换向阀均与控制面板电连接。
[0009]优选的，所述电路图形板四周设有起到遮挡作用的遮光件，且该遮光件顶部设有起到粘黏作用的树脂胶层。
[0010]优选的，所述第一遮光板和第二遮光板之间所形成的夹角为150度，且第一遮光板和第二遮光板表面均设有反光面。
[0011]优选的，所述遮光件材质为塑料。
[0012]优选的，所述掩模版材质为塑料。
[0013]本专利技术具有如下优点：本专利技术通过改进在此提供光刻机双光源曝光系统，与同类型设备相比，具有如下改进：
[0014]本专利技术所述光刻机双光源曝光系统，通过设置了导流机构在曝光机架顶部，通过风机板带动外部气流进入过滤棉层内部进行过滤，并通过离子发生器发射出的负离子使该气流形成清洁气流，并通过换向阀和吹扫管的导流对工件表面进行吹扫动作，有利于提高对曝光工件的清洁效果。
[0015]本专利技术所述光刻机双光源曝光系统，通过设置了曝光机构在导轨组件前端，通过安装侧板带动曝光器和调平推杆进行水平位移调节，此时通过对齐传感器对其进行位移对齐动作，并通过调平推杆带动遮光件和掩模版进行找平动作，有利于提高对曝光源的调节和遮掩效果。
[0016]本专利技术所述光刻机双光源曝光系统，通过设置了曝光器在安装侧板前端，通过微型电源为第一曝光光源和第二曝光光源提供电能，并通过透光镜为第一曝光光源和第二曝光光源内部光源提供导向动作，有利于提高对第一曝光光源和第二曝光光源的防护和导向效果。
[0017]本专利技术所述光刻机双光源曝光系统，通过设置了聚合组件在固定架体顶部，通过激光器发出光线并在聚光镜和聚合光栅的聚拢作用下进行聚光动作，并通过平行光栅和第一遮光板以及第二遮光板的平行导光和角度导光的作用下对曝光源进行传递动作。
附图说明
[0018]图1是本专利技术结构示意图；
[0019]图2是本专利技术的曝光机架内部和曝光机构立体结构示意图；
[0020]图3是本专利技术的曝光机构立体结构示意图；
[0021]图4是本专利技术的图3中A处的放大结构示意图；
[0022]图5是本专利技术的曝光器内部立体结构示意图；
[0023]图6是本专利技术的曝光器和聚合组件立体结构示意图；
[0024]图7是本专利技术的聚合组件立体爆炸结构示意图；
[0025]图8是本专利技术的导流机构立体结构示意图。
[0026]其中：曝光机架
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1、导流机构
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2、调节组件
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3、曝光平台
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4、控制面板
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5、导轨组件
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6、曝光机构
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7、过滤机箱
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21、风机板
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22、过滤棉层
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23、离子发生器
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24、拉伸气管
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25、换向阀
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26、吹扫管
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27、换热管
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28、橡胶套管
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29、安装侧板
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71、曝光器
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72、调平推杆
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73、遮光件
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74、掩模版
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75、负性光刻胶
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76、电路图形板
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77、对齐传感器
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78、曝光壳体
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721、透光孔
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722、固定架体
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723、微型电源
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724、第一曝光光源
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725、第二曝光光源
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.光刻机双光源曝光系统，包括曝光机架(1)和设置在曝光机架(1)内底部凹槽处的调节组件(3)以及螺栓安装在曝光机架(1)右端的控制面板(5)，所述曝光机架(1)内侧壁螺栓安装有导轨组件(6)，所述调节组件(3)右端位移块螺栓安装有曝光平台(4)，所述调节组件(3)与控制面板(5)电连接；其特征在于：还包括安装在曝光机架(1)顶部的导流机构(2)和导轨组件(6)前端的曝光机构(7)，所述曝光机构(7)包括螺栓安装在导轨组件(6)位移滑块前端的安装侧板(71)，所述安装侧板(71)前端中侧设置有曝光器(72)和螺栓安装在安装侧板(71)前端左右两侧的调平推杆(73)以及螺栓安装在安装侧板(71)底部中侧的对齐传感器(78)，所述调平推杆(73)调节杆底部螺栓安装有遮光件(74)，所述遮光件(74)内侧通槽壁固定安装有掩模版(75)和负性光刻胶(76)以及粘黏固定在遮光件(74)底部的电路图形板(77)，所述调平推杆(73)与控制面板(5)电连接。2.根据权利要求1所述光刻机双光源曝光系统，其特征在于：所述曝光器(72)包括螺栓安装在安装侧板(71)前端的曝光壳体(721)，所述曝光壳体(721)底部粘黏设置有透光孔(722)和螺栓安装在曝光壳体(721)内部的固定架体(723)。3.根据权利要求2所述光刻机双光源曝光系统，其特征在于：所述固定架体(723)底部左侧螺栓安装有微型电源(724)和螺栓安装在固定架体(723)顶部左侧的第一曝光光源(725)以及固定安装在固定架体(723)内槽壁的透光镜(728)，所述固定架体(723)顶部右侧设有聚合组件(727)。4.根据权利要求3所述光刻机双光源曝光系统，其特征在于：所述第一曝光光源(725)顶部螺栓安装有第二曝光光源(726)，所述微型电源(724)和第一曝光光源(725)以及第二曝光光源(726)均与控制面板(5)电连接。5.根据权利要求3所述光刻机双光源曝光系统，其特征在于：所述聚合组件(727)包括螺纹安装在固定架体...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟敏，
申请(专利权)人：上海图双精密装备有限公司，
类型：发明
国别省市：