一种加热不会向上拱的烤盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种加热不会向上拱的烤盘，包括烤盘主体，所述烤盘主体内部设置有弧形凹槽，所述烤盘主体底部一体成型有晒纹结构，所述烤盘主体一端固定连接有若干连接件，所述烤盘主体一侧固定连接有若干定位柱，所述定位柱分别位于所述连接件一侧；本实用新型专利技术提供的技术方案中，通过弧形凹槽由模具预凸位制成，且弧形凹槽为650R的凹槽，使得烤盘在长期使用过程中底部不会产生较大的上拱，可以最好的抑制加热的烤盘上拱的情况，保证烤盘中的食物聚集在烤盘的中部，提高烤盘使用的便捷。提高烤盘使用的便捷。提高烤盘使用的便捷。

【技术实现步骤摘要】
一种加热不会向上拱的烤盘


[0001]本技术涉及烤盘
，具体为一种加热不会向上拱的烤盘。

技术介绍

[0002]烤盘用来烤制肉类、蔬菜等食物，目前市面上烤盘主要分两种，一种是内底面平滑的烤盘，一种是内底面有晒纹的烤盘。
[0003]现有技术存在以下缺陷或问题：
[0004]目前烤盘在长期使用过程中，烤盘的底部会受热产生上拱的情况，造成烤盘中的食物无法聚集在烤盘的中部，使得对烤盘的使用存在不便，也易造成烤盘的损坏。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种加热不会向上拱的烤盘，以解决
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0007]一种加热不会向上拱的烤盘，包括烤盘主体，所述烤盘主体内部设置有弧形凹槽，所述烤盘主体底部一体成型有晒纹结构，所述烤盘主体一端固定连接有若干连接件，所述烤盘主体一侧固定连接有若干定位柱，所述定位柱分别位于所述连接件一侧。
[0008]可选的，所述弧形凹槽由模具预凸位制成，且所述弧形凹槽为650R的凹槽。
[0009]可选的，所述晒纹结构为由内到外逐渐变大的若干个圆环型凹槽组成。
[0010]可选的，所述连接件和定位柱均设置有四个，且四个所述连接件和定位柱分别固定连接在烤盘主体一端的四角处。
[0011]可选的，所述烤盘主体内壁设置有聚甲基硅氧烷涂层。
[0012]与现有技术相比，本技术提供了一种加热不会向上拱的烤盘，具备以下有益效果：
[0013]本技术通过弧形凹槽由模具预凸位制成，且弧形凹槽为650R的凹槽，使得烤盘在长期使用过程中底部不会产生较大的上拱，可以最好的抑制加热的烤盘上拱的情况，保证烤盘中的食物聚集在烤盘的中部，提高烤盘使用的便捷。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0015]图1为本技术剖视图；
[0016]图2为本技术正面结构示意图；
[0017]图3为本技术背面结构示意图。
[0018]图中：1、烤盘主体；2、弧形凹槽；3、连接件；4、定位柱；5、晒纹结构。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]本技术的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0021]本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限制，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接连接，也可以是通过中间媒介相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0022]请参阅图1
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3，本实施方案中：一种加热不会向上拱的烤盘，包括烤盘主体1，烤盘主体1内部设置有弧形凹槽2，烤盘主体1底部一体成型有晒纹结构5，烤盘主体1一端固定连接有若干连接件3，烤盘主体1一侧固定连接有若干定位柱4，定位柱4分别位于连接件3一侧；利用所设置的弧形凹槽2可以对烤盘上拱的部分进行抵消，保证烤盘使用的便利，通过烤盘主体1一侧的定位柱4对烤盘主体1进行安装，通过将食物放入烤盘主体1内部，加热烤盘主体1以此对食物进行烤制。
[0023]弧形凹槽2由模具预凸位制成，且弧形凹槽2为650R的凹槽；通过在烤盘主体1内部开设弧形凹槽2当烤盘加热时弧形凹槽2可以防止烤盘主体1内部凸起。
[0024]晒纹结构5为由内到外逐渐变大的若干个圆环型凹槽组成；通过将晒纹结构5设置成由内到外逐渐变大的若干个圆环型凹槽，当对烤盘主体1底部进行加热时热源会保持在烤盘主体1中部，通过晒纹结构5将热量快速的向烤盘主体1底部四周扩散，使烤盘主体1底部受热均匀。
[0025]连接件3和定位柱4均设置有四个，且四个连接件3和定位柱4分别固定连接在烤盘主体1一端的四角处，且四个定位柱4内部均开设有圆形凹槽；通过定位柱4可以方便定位安装，利用连接件3可以辅助定位柱4进行定位防护安装。
[0026]烤盘主体1内壁设置有聚甲基硅氧烷涂层；利用聚甲基硅氧烷涂层涂抹在烤盘主体1内壁，可以提高烤盘的使用性能，其聚甲基硅氧烷粘温系数小、压缩率大，表面张力低，所以可以防止食物粘附在烤盘主体1内部。
[0027]本技术的工作原理及使用流程：通过烤盘主体1一侧的定位柱4方便对烤盘主体1进行定位，使连接件3可以辅助定位柱4进行定位安装，通过将食物放入烤盘主体1内部，加热烤盘主体1以此对食物进行烤制，通过在烤盘主体1内部设置聚甲基硅氧烷涂层，因为聚甲基硅氧烷粘温系数小、压缩率大，表面张力低，所以可以防止食物粘附在烤盘主体1内部，通过将晒纹结构5设置成由内到外逐渐变大的若干个圆环型凹槽，当对烤盘主体1底部
进行加热时热源会保持在烤盘主体1中部，通过晒纹结构5将热量快速的向烤盘主体1底部四周扩散，使烤盘主体1底部受热均匀，在烤盘主体1内部开设弧形凹槽2当烤盘加热时弧形凹槽2可以防止烤盘主体1内部凸起。
[0028]以上所述仅为本技术的优选实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是在本技术的构思下，利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的
均包括在本技术的专利保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种加热不会向上拱的烤盘，其特征在于：包括烤盘主体(1)，所述烤盘主体(1)内部设置有弧形凹槽(2)，所述烤盘主体(1)底部一体成型有晒纹结构(5)，所述烤盘主体(1)一端固定连接有若干连接件(3)，所述烤盘主体(1)一侧固定连接有若干定位柱(4)，所述定位柱(4)分别位于所述连接件(3)一侧。2.根据权利要求1所述的一种加热不会向上拱的烤盘，其特征在于：所述弧形凹槽(2)由模具预凸位制成，且所述弧形凹槽(2)为650R的凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：马耀胜，
申请(专利权)人：中山市晋盈电器有限公司，
类型：新型
国别省市：