一种用于组织样本的微阵列化方法技术

本发明专利技术适用于生物材料领域，提供了一种用于组织样本的微阵列化方法，包括以下步骤：将修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片和组织置于切片机中，微井内功能涂层用于将组织阵列粘附于微井的侧壁或底部，将组织切片贴附于微井阵列基片表面，除去微井阵列外的组织，微井处的组织被原位截留在微井阵列中，得到高通量的组织微阵列。组织微阵列化方法套件主要包含修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片，本发明专利技术的套件能够将组织样本分割成独立的微米级组织块，实现组织样本的高通量阵列化，避免了组织微阵列间核酸、蛋白等信息的交叉污染，在提高组织分割效率的同时简化了操作步骤，降低了整个过程的仪器成本。整个过程的仪器成本。整个过程的仪器成本。

【技术实现步骤摘要】
一种用于组织样本的微阵列化方法


[0001]本专利技术属于生物材料领域，尤其涉及一种用于组织样本的微阵列化方法。

技术介绍

[0002]组织切片是指以生物组织为材料，处理为薄片，贴附于玻片表面以适合显微镜观察的方法，该组织样本处理技术为组织学发展、空间结构鉴定的重要手段，已广泛应用于生物学、医学、农学等领域。组织之间具有明显的异质性，组织的基因组、蛋白质组、细胞表型等信息与其在组织切片中的空间位置的关系直接映射组织的生长、健康、病理状态。因此，开发可以原位获取组织切片基因、蛋白等信息的技术显得尤为重要。
[0003]传统的组织中信息测量方法以组织块为单位进行测试，反映的是整块组织基因组、转录组、蛋白组等信息的平均水平。现阶段出现了多种构建单细胞阵列的方法，将组织中的细胞团分散成游离态的单细胞，再采用器件对游离的细胞进行排列。例如，单细胞测序是以组织消化后游离的细胞为单位进行基因测序，这种测序结果不适用于反映组织基因表达的空间位置信息。目前广泛用于原位获取微米级目标组织阵列的方法为激光捕获显微切割技术(Laser capture microdissection,LCM)，该技术可以在不破坏组织空间结构的情况下，原位获得目标组织微阵列，同时可以对获得的组织进行其原始位置的标记，该技术具有较高的操作分辨率，甚至可以原位提取组织中感兴趣的单个目标细胞。然而LCM操作系统一般依赖于大型精密机器设备，仪器及运行成本较高，且该技术需要逐一对目标细胞进行取样，获取目标细胞的通量较低。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例的目的在于提供一种用于组织样本的微阵列化方法，旨在解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]一种用于组织样本的微阵列化方法，包括以下步骤：
[0007]步骤一、制备修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片，微井内功能涂层将组织粘附于微井的侧壁或底部；
[0008]步骤二、将组织切片贴附于微井阵列基片表面，微井处的组织被原位截留在微井阵列中，得到高通量的组织微阵列。
[0009]进一步的，所述步骤二中，将组织切片贴附于微井阵列基片表面后，通过器具施压于组织切片的方式分割组织切片或使得组织切片下沉，通过器具去除微井阵列外基片表面的组织切片。
[0010]进一步的，所述修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片的具体制备操作为：采用光刻技术制备光刻胶阵列，再以刻蚀方法刻蚀光刻胶阵列表面，得到微井结构阵列，除去光刻胶，采用高密度功能涂层修饰技术对微井中的表面进行修饰，再采用光刻技术在功能涂层表面形成光刻胶，采用化学修饰技术对微井阵列外的表面进行疏水修饰，除去微井表面
光刻胶。
[0011]进一步的，所述修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片的具体制备操作可为：在基片表面旋涂一层光刻胶，以透明的点阵式光刻掩膜版为基础进行光刻过程，留下光刻胶阵列，再以C4F8、SF6、O2为等离子体轰击光刻胶阵列表面，得到带有垂直边缘的微井结构阵列，再以O2为等离子体轰击微井阵列基片，采用高密度功能涂层修饰技术对微井中的表面进行修饰，再在表面旋涂一层光刻胶，以非透明的点阵式光刻掩膜版为基础，除去微井以外表面的光刻胶，再以O2为等离子体轰击微井阵列基片，采用化学修饰技术对微井阵列外的表面进行疏水修饰。
[0012]进一步的，所述功能涂层为水凝胶涂层、分子刷涂层和聚合物涂层中的一种。
[0013]进一步的，所述水凝胶涂层为以高密度羧基为支链的水凝胶基团，得到水凝胶涂层的具体操作为：首先，氧气等离子体处理基片使其表面接枝羟基，通过气相沉积技术接枝3
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氨基丙基三甲氧基硅烷，使用无水二氯乙烷溶解的三乙胺溶液孵育基片表面，再加入2
‑
溴异丁酰溴以使聚合反应引发剂接枝到氨基基团，在氮气氛围下加入其单体甲基丙烯酸羟乙酯、甲基二乙醇胺，脱气后加入氯化铜以防止氧化，聚合温度保持在37℃，待单体聚合1
‑
9h后清洗表面，得到具有高密度羧基基团的基片表面。
[0014]进一步的，所述化学修饰技术为气相接枝技术或液相接枝技术。
[0015]进一步的，所述液相接枝技术的具体操作为：将微井基片和氟化试剂浸泡于有机试剂中，控制接枝温度为25
‑
35℃，氟化试剂与有机试剂的试剂含量比为1
‑
20％。
[0016]进一步的，所述C4F8的流量为2
‑
10sccm，SF6的流量为4
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10sccm，O2的流量为2
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5sccm，总气体压力为10
‑
50mToor。
[0017]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0018]1.本专利技术制备过程简单，通过易获得的微井阵列基片及器具即可实现组织切片的高通量微阵列化，有效地降低了原位分割组织所需的仪器成本；
[0019]2.本专利技术制备了高基团密度的水凝胶功能涂层，其为将组织粘附于微井阵列中的关键因素；
[0020]3.本专利技术在微井阵列外制备了高度疏水的表面，其为将组织脱离于微井外表面的关键因素；
[0021]4.本专利技术可将组织限域在微米级别的空间中，保证各微阵列中的组织的基因、蛋白等信息不互相污染；
[0022]5.本专利技术微井阵列的尺寸、数量、排布可以根据需要进行调整，甚至可以将组织切片分割并限域成单细胞水平的细胞微阵列。
附图说明
[0023]图1为本专利技术中用于实现组织微阵列化的微井阵列图。
[0024]图2为本专利技术中不同微井尺寸的组织微阵列化显微镜图。
[0025]图3为本专利技术中组织微阵列化显微镜截面图。
具体实施方式
[0026]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对
本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0027]以下结合具体实施例对本专利技术的具体实现进行详细描述。
[0028]本专利技术一个实施例提供的一种用于组织样本的微阵列化方法，包括以下步骤：
[0029]步骤一、制备修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片，微井内功能涂层将组织粘附于微井的侧壁或底部；
[0030]步骤二、将组织切片贴附于微井阵列基片表面，微井处的组织被原位截留在微井阵列中，得到高通量的组织微阵列。
[0031]在本专利技术实施例中，优选的，组织微阵列化方法套件主要包含修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片。采用本专利技术的套件可以将组织样本分割成独立的微米级组织块，实现组织样本的高通量阵列化，同时，该方法避免了组织微阵列间核酸、蛋白等信息的交叉污染，在提高组织分割效率的同时简化了操作步骤，降低了整个过程的仪器成本。
[0032]作为本专利技术的一种优选实施例，所述步骤二中，将组织切片贴附于微井阵列基片表面后，通过器具施压于组织切片的方式分割组织本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于组织样本的微阵列化方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、制备修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片，微井内功能涂层将组织粘附于微井的侧壁或底部；步骤二、将组织切片贴附于微井阵列基片表面，微井处的组织被原位截留在微井阵列中，得到高通量的组织微阵列。2.根据权利要求1所述的用于组织样本的微阵列化方法，其特征在于，所述步骤二中，将组织切片贴附于微井阵列基片表面后，通过器具施压于组织切片的方式分割组织切片或使得组织切片下沉，通过器具去除微井阵列外基片表面的组织切片。3.根据权利要求1所述的用于组织样本的微阵列化方法，其特征在于，所述修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片的具体制备操作为：采用光刻技术制备光刻胶阵列，再以刻蚀方法刻蚀光刻胶阵列表面，得到微井结构阵列，除去光刻胶，采用高密度功能涂层修饰技术对微井中的表面进行修饰，再采用光刻技术在功能涂层表面形成光刻胶，采用化学修饰技术对微井阵列外的表面进行疏水修饰，除去微井表面光刻胶。4.根据权利要求1所述的用于组织样本的微阵列化方法，其特征在于，所述修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片的具体制备操作可为：在基片表面旋涂一层光刻胶，以透明的点阵式光刻掩膜版为基础进行光刻过程，留下光刻胶阵列，再以C4F8、SF6、O2为等离子体轰击光刻胶阵列表面，得到带有垂直边缘的微井结构阵列，再以O2为等离子体轰击微井阵列基片，采用高密度功能涂层修饰技术对微井中的表面进行修饰，再在表面旋涂一层光刻胶，以非透明的点阵式光刻掩膜版为基础，除去微井以外表面的光刻胶，再以O2为等离子体轰击微井阵列基片，采用化学修饰技术对微井阵列外的表面进行疏水修饰。5.根据权利要求1

【专利技术属性】
技术研发人员：张俊虎，于年祚，梁重阳，张斐然，金正洋，杨柏，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：