粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种粘接剂层(20a)，其在使用了旋转式流变仪的蠕变试验中，在50℃下施加10000Pa的应力1秒钟时的蠕变变形率为10％以下，并且在50℃下施加10000Pa的应力30分钟时的蠕变变形率为16％以下，相对于PMMA膜的180

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置


[0001]本专利技术涉及粘接剂层、具有粘接剂层的层叠体、具有用于形成粘接剂层的粘接剂组合物层的层叠体、具有粘接剂层和光学片的光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及具备这样的光学层叠体的光学装置。

技术介绍

[0002]光学片(例如，微透镜片、棱镜片、亮度提高膜(例如，3M公司制造的Brightness Enhancement Film：BEF(注册商标)))用于各种光学装置(例如，显示装置及照明装置)。在本说明书中，“光学片”不限定于上述示例出的实例，还广泛包含片状的光学构件，例如还包含扩散板及导光板。光学片例如使用粘接剂层而粘贴于其它光学片或光学装置。在本说明书中，“光学层叠体”是指包含光学片和粘接剂层的构成或包含多个光学片的构成。在本说明书中，“粘接剂”以包含粘合剂(也称为“压敏粘接剂”)的含义使用。
[0003]本申请人在专利文献1中公开了可用于显示装置、照明装置的光学层叠体(在专利文献1中称为“光学层叠片”)。专利文献1的光学层叠体具有：表面具有凹凸结构的光学片(例如微透镜片)、和设置于具有凹凸结构的表面的粘接剂层，其中，凹凸结构的凸部的高度的5％～90％被粘接剂层包埋，粘接剂层由包含接枝聚合物及光阳离子类聚合引发剂或热固化催化剂的粘接剂组合物形成，所述接枝聚合物是使包含含环状醚基单体的链与(甲基)丙烯酸类聚合物进行接枝聚合而成的。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2012
‑
007046号公报(日本专利第5658490号公报)
[0007]专利文献2：国际公开第2019/087118号

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]使用粘接剂层粘贴表面具有凹凸结构的光学片时，粘接剂层侵入凹凸结构的凹部(将凹部填埋)的程度会影响光学片的功能。因此，优选粘接剂层侵入凹凸结构的凹部的程度不发生经时变化。
[0010]另外，从量产性的观点考虑，用于光学装置的将光学片与粘接剂层层叠而成的光学层叠体或将多个光学片层叠而成的光学层叠体优选可以通过卷对卷方式来制造。
[0011]本专利技术为了解决上述问题中的至少一个问题而成，其目的在于，提供侵入光学片的凹凸结构的凹部的程度的经时变化得到了抑制的粘接剂层、具有这样的粘接剂层的层叠体、具有能够形成这样的粘接剂层的粘接剂组合物层的层叠体、具有这样的粘接剂层和光学片的光学层叠体、或者可以通过卷对卷方式制造的光学层叠体、以及这样的光学层叠体的制造方法。另外，本专利技术的目的在于，提供具备这样的光学层叠体的光学装置。
[0012]解决问题的方法
[0013]根据本专利技术的实施方式，提供以下的项目中记载的解决方法。
[0014][项目1][0015]一种粘接剂层，其在使用了旋转式流变仪的蠕变试验中，在50℃下施加10000Pa的应力1秒钟时的蠕变变形率为10％以下，并且在50℃下施加10000Pa的应力30分钟时的蠕变变形率为16％以下，
[0016]上述粘接剂层相对于PMMA膜的180
°
剥离粘接力为10mN/20mm以上。
[0017][项目2][0018]根据项目1所述的粘接剂层，其雾度为0.01％以上且5％以下。
[0019][项目3][0020]根据项目1或2所述的粘接剂层，其厚度为0.1μm以上且20μm以下。
[0021]上述粘接剂层的厚度优选为15μm以下或10μm以下。
[0022][项目4][0023]根据项目1～3中任一项所述的粘接剂层，其包含以下的(1)～(3)的聚合物中的至少一种：
[0024](1)含氮(甲基)丙烯酸类单体与至少一种其它单体的共聚物；
[0025](2)含羧基丙烯酸类单体与至少一种其它单体(其中含氮(甲基)丙烯酸类单体除外)的共聚物；
[0026](3)聚酯类聚合物。
[0027][项目5][0028]根据项目1～4中任一项所述的粘接剂层，其含有聚酯类聚合物。
[0029][项目6][0030]根据项目1～5中任一项所述的粘接剂层，其含有(甲基)丙烯酸类聚合物，
[0031]上述(甲基)丙烯酸类聚合物是含氮(甲基)丙烯酸类单体与至少一种其它单体的共聚物。
[0032][项目7][0033]根据项目6所述的粘接剂层，其中，
[0034]上述含氮(甲基)丙烯酸类单体具有含氮环状结构。
[0035][项目8][0036]根据项目6或7所述的粘接剂层，其中，
[0037]上述(甲基)丙烯酸类聚合物发生了交联。
[0038][项目9][0039]根据项目6～8中任一项所述的粘接剂层，其不含接枝聚合物。
[0040][项目10][0041]根据项目6～9中任一项所述的粘接剂层，其进一步包含活性能量射线固化性树脂的固化物。
[0042][项目11][0043]根据项目10所述的粘接剂层，其是通过使包含上述(甲基)丙烯酸类聚合物、上述活性能量射线固化性树脂和聚合引发剂的粘接剂组合物层的上述活性能量射线固化性树
脂固化而形成的。
[0044][项目12][0045]一种层叠体，其具有：
[0046]项目1～10中任一项所述的粘接剂层、和
[0047]具有经过了剥离处理的主面的基材，
[0048]上述基材的上述经过了剥离处理的主面与上述粘接剂层贴合在一起。
[0049]有时将项目12所述的层叠体称为“粘接片”。
[0050]项目12所述的层叠体例如可以进一步具有其它基材，上述其它基材配置于上述粘接剂层的与上述基材相反侧，并且具有经过了剥离处理的主面。此时，上述其它基材的上述经过了剥离处理的主面与上述粘接剂贴合在一起。
[0051]经过了剥离处理的面(剥离处理面)称为通过剥离剂进行了处理的面。基材(支撑体)的经过了剥离处理的主面通过在基材的一个主面涂布(赋予)剥离剂并根据需要进一步进行干燥等而形成。作为剥离剂，没有特别限定，例如可举出：有机硅类剥离剂、氟类剥离剂、长链烷基类剥离剂、脂肪酰胺类剥离剂。
[0052][项目13][0053]一种层叠体，其具有：
[0054]形成项目11所述的粘接剂层的上述粘接剂组合物层、和
[0055]具有经过了剥离处理的主面的基材，
[0056]上述基材的上述经过了剥离处理的主面与上述粘接剂组合物层贴合在一起。
[0057]有时将项目13所述的层叠体称为“粘接片”。
[0058]项目13所述的层叠体例如可以进一步具有其它基材，上述其它基材配置于上述粘接剂组合物层的与上述基材相反侧，并且具有经过了剥离处理的主面。此时，上述其它基材的上述经过了剥离处理的主面与上述粘接剂组合物层贴合在一起。
[0059][项目14][0060]一种光学层叠体，其具有：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种粘接剂层，其在使用了旋转式流变仪的蠕变试验中，在50℃下施加10000Pa的应力1秒钟时的蠕变变形率为10％以下，并且在50℃下施加10000Pa的应力30分钟时的蠕变变形率为16％以下，所述粘接剂层相对于PMMA膜的180
°
剥离粘接力为10mN/20mm以上。2.根据权利要求1所述的粘接剂层，其雾度为0.01％以上且5％以下。3.根据权利要求1或2所述的粘接剂层，其厚度为0.1μm以上且20μm以下。4.根据权利要求1～3中任一项所述的粘接剂层，其包含以下的(1)～(3)的聚合物中的至少一种：(1)含氮(甲基)丙烯酸类单体与至少一种其它单体的共聚物；(2)含羧基丙烯酸类单体与至少一种其它单体(其中含氮(甲基)丙烯酸类单体除外)的共聚物；(3)聚酯类聚合物。5.根据权利要求1～4中任一项所述的粘接剂层，其含有聚酯类聚合物。6.根据权利要求1～5中任一项所述的粘接剂层，其含有(甲基)丙烯酸类聚合物，所述(甲基)丙烯酸类聚合物是含氮(甲基)丙烯酸类单体与至少一种其它单体的共聚物。7.根据权利要求6所述的粘接剂层，其中，所述含氮(甲基)丙烯酸类单体具有含氮环状结构。8.根据权利要求6或7所述的粘接剂层，其中，所述(甲基)丙烯酸类聚合物发生了交联。9.根据权利要求6～8中任一项所述的粘接剂层，其不含接枝聚合物。10.根据权利要求6～9中任一项所述的粘接剂层，其进一步包含活性能量射线固化性树脂的固化物。11.根据权利要求10所述的粘接剂层，其是通过使包含所述(甲基)丙烯酸类聚合物、所述活性能量射线固化性树脂和聚合引发剂的粘接剂组合物层的所述活性能量射线固化性树脂固化而形成的。12.一种层叠体，其具有：权利要求1～10中任一项所述的粘接剂层、和具有经过了剥离处理的主面的基材，所述基材的所述经过了剥离处理的主面与所述粘接剂层贴合在一起。13.一种层叠体，其具有：形成权利要求11所述的粘接剂层的所述粘接剂组合物层、和具有经过了剥离处理的主面的基材，所述基材的所述经过了剥离处理的主面与所述粘接剂组合物层贴合在一起。14.一种光学层叠体，其具有：第1光学片，其具备具有凹凸结构的第1主面及与所述第1主面相反侧的第2主面；和权利要求1～11中任一项所述的粘接剂层，其配置于所述第1光学片的所述第1主面侧。15.根据权利要求14所述的光学层叠体，其中，所述凹凸结构包含多个凹部，所述粘接剂层的表面和所述第1光学片的所述第1主面在
所述多个凹部划定多个空间。16.根据权利要求15所述的光学层叠体，其中，所述凹凸结构包含与...

【专利技术属性】
技术研发人员：水野瑞穗，田中亚树子，小坂尚史，中村恒三，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：