电池电极的制作方法和太阳能电池技术

本发明专利技术适用于太阳能电池技术领域，提供了一种电池电极的制作方法和太阳能电池。制作方法包括：在待金属化的电池基片沉积金属膜；在所述金属膜的表面形成掩膜图型；对形成掩膜图型后的所述电池基片进行清洗，以去除非掩膜区域的金属膜；去除所述掩膜图型。如此，在待金属化的电池基片沉积金属膜，去除非掩膜区域的金属膜和掩膜图型，使得电池基片剩下的金属膜，与掩膜图型覆盖的部分一致，从而形成电极。如此，避免了电镀过程中产生的高昂费用，可以降低太阳能电池金属化的成本。低太阳能电池金属化的成本。低太阳能电池金属化的成本。

【技术实现步骤摘要】
电池电极的制作方法和太阳能电池


[0001]本专利技术属于太阳能电池
，尤其涉及一种电池电极的制作方法和太阳能电池。

技术介绍

[0002]相关技术中，在制作太阳能电池时，需要在硅片制造电极，以将太阳能电池金属化。然而，现有的制造方法成本较高。例如，可通过电镀的方式在硅片表面形成电极。然而，普通的电镀需要使用掩膜和干膜，成本依然很高。基于此，如何降低太阳能电池的生产过程中制造电极的成本，成为了亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]本申请提供一种电池电极的制作方法和太阳能电池，旨在解决如何降低太阳能电池的生产过程中制造电极的成本的问题。
[0004]第一方面，本申请提供一种电池电极的制作方法。所述制作方法包括：
[0005]在待金属化的电池基片沉积金属膜；
[0006]在所述金属膜的表面形成掩膜图型；
[0007]对形成掩膜图型后的所述电池基片进行清洗，以去除非掩膜区域的金属膜；
[0008]去除所述掩膜图型。
[0009]可选地，所述电池基片包括正面和背面，在待金属化的电池基片沉积金属膜，包括：
[0010]在所述正面和所述背面均沉积金属膜。
[0011]可选地，所述金属膜为铜膜。
[0012]可选地，在所述金属膜的表面形成掩膜图型，包括：
[0013]利用喷墨技术或3D打印技术在所述金属膜的表面形成掩膜图型。
[0014]可选地，对形成掩膜图型后的所述电池基片进行清洗以去除非掩膜区域的金属膜，包括：<br/>[0015]将所述电池基片置入酸溶液中进行清洗。
[0016]可选地，在所述将所述电池基片置入酸溶液中进行清洗的步骤之后，所述制作方法还包括：
[0017]对所述电池基片进行水冲洗。
[0018]可选地，去除所述掩膜图型，包括：
[0019]将所述电池基片置入碱溶液中进行清洗。
[0020]可选地，所述金属膜的厚度范围为：[2μm，8μm]。
[0021]可选地，所述掩膜图型包括正面细栅掩膜，所述正面细栅掩膜的宽度范围为[20μm，30μm]，所述正面细栅掩膜的线数范围为[110条，130条]；和/或，
[0022]所述掩膜图型包括背面细栅掩膜，所述背面细栅掩膜的宽度范围为[30μm，60μm]，
所述正面细栅掩膜的线数范围为[170条，210条]。
[0023]第二方面，本申请还提供一种太阳能电池。所述太阳能电池包括电池基片和设置在电池基片上的电极，所述电极采用上述任一项所述的方法制作得到。
[0024]本专利技术实施例的制作方法和太阳能电池中，在待金属化的电池基片沉积金属膜，去除自非掩膜区域的金属膜和掩膜图型，使得电池基片剩下的金属膜，与掩膜图型覆盖的部分一致，从而形成电极。这样，避免了电镀形成电极的过程中产生的高昂费用，可以降低太阳能电池的生产过程中制造电极的成本。
附图说明
[0025]图1是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图；
[0026]图2是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图；
[0027]图3是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图；
[0028]图4是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图；
[0029]图5是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图；
[0030]图6是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图；
[0031]图7是本申请一个实施例提供的电池电极的制作方法的流程示意图。
具体实施例
[0032]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0033]现有技术在制作太阳能电池的过程中，制造电极的成本较高。本申请提供一种制造方法和太阳能电池，在待金属化的电池基片沉积金属膜，并去除自掩膜图型露出的金属膜和掩膜图型，从而形成电极。这样可以降低太阳能电池的生产过程中制造电极的成本。
[0034]请参阅图1，本申请实施例提供的制作方法用于制作太阳能电池，制作方法包括：
[0035]步骤S11：在待金属化的电池基片沉积金属膜；
[0036]步骤S12：在金属膜的表面形成掩膜图型；
[0037]步骤S13：对形成掩膜图型后的电池基片进行清洗，以去除非掩膜区域的金属膜；
[0038]步骤S15：去除掩膜图型。
[0039]本申请实施例的制作方法，在待金属化的电池基片沉积金属膜，去除非掩膜区域的金属膜和掩膜图型，使得电池基片剩下的金属膜，与掩膜图型覆盖的部分一致，从而形成电极。这样，避免了电镀形成电极的过程中产生的高昂费用，可以降低太阳能电池的生产过程中制造电极的成本。
[0040]可以理解，在现有的电镀方案中，需要Ni、Cu、Ag或Sn的化学电镀液槽，还需要大量水洗和对废液进行处理。而本申请实施例的制作方法，没有采用电镀的方案，省去了这些成本。
[0041]具体地，在本申请实施例中，太阳能电池为异质结电池(Heterojunction with Intrinsic Thin
‑
layer，HJT)。采用本申请实施例的制作方法，可降低HJT电池的金属化成本，推进HJT电池的产业化进程。
[0042]可以理解，在其他的实施例中，太阳能电池可包括发射极和背面钝化电池(PassivatedEmitterandRearCell，PERC)、硅薄膜异质结电池(Silicon Hetero
‑
Junction，SHJ)等其他类型的电池。在此不对太阳能电池的具体形式进行限定。
[0043]具体地，可通过物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)、溅射等方式在金属膜的表面形成金属膜。在此不进行限定。
[0044]具体地，非掩膜区域是指未被掩膜图型覆盖的区域。掩膜区域是指被掩膜图型覆盖的区域。
[0045]可选地，在步骤S11之前，制作方法包括：对硅片进行制绒，以在硅片上形成绒面；清洗制绒后的硅片；对清洗后的硅片进行非晶硅沉积；对进行了非晶硅沉积后的硅片沉积导电层和减反膜，以得到待金属化的电池基片。如此，可以生成待金属化的电池基片，以便在电池基片上制作电极。
[0046]具体地，硅片可为单晶硅片，也可为多晶硅片。硅片可为N型硅片，也可为P型硅片。在此不对硅片的具体种类进行限定。
[0047]具体地，可利用氢氧化钾，采用双面制绒的工艺，来对硅片制绒。如此，可在硅片上形成起伏不平的绒面，减少反射，增加硅片对太阳光的吸收。
[0048]可以理解，在其他的实施例中，也可以利用酸来制绒。
[0049]进一步地，绒面可呈金字塔状。绒面的高度的范围可为[2μm，5μm]，例如为2μm本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电池电极的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：在待金属化的电池基片沉积金属膜；在所述金属膜的表面形成掩膜图型；对形成掩膜图型后的所述电池基片进行清洗，以去除非掩膜区域的金属膜；去除所述掩膜图型。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述电池基片包括正面和背面，在待金属化的电池基片沉积金属膜，包括：在所述正面和所述背面均沉积金属膜。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述金属膜为铜膜。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金属膜的表面形成掩膜图型，包括：利用喷墨技术或3D打印技术在所述金属膜的表面形成掩膜图型。5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，对形成掩膜图型后的所述电池基片进行清洗以去除非掩膜区域的金属膜，包括：将所述电池基片置入酸溶液中进行清洗。6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：田得雨，常纪鹏，洪剑波，王永谦，林纲正，陈刚，
申请(专利权)人：天津爱旭太阳能科技有限公司广东爱旭科技有限公司，
类型：发明
国别省市：