一种等离子体化学气相沉积的可调节装置制造方法及图纸

技术编号:35082786 阅读:49 留言:0更新日期:2022-09-28 11:52
本实用新型专利技术属于离子体化学气相沉积领域,提供了一种等离子体化学气相沉积的可调节装置,所述可调节装置包括涂覆器,所述涂覆器的开有贯穿的共振腔,所述涂覆器两端对应设有可调节共振腔扼止结构大小的调节装置。本实用新型专利技术解决了等离子体化学气相沉积的可调节装置结构复杂,不能适配不同尺寸沉积工件的问题。不能适配不同尺寸沉积工件的问题。不能适配不同尺寸沉积工件的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体化学气相沉积的可调节装置


[0001]本技术属于等离子体化学气相沉积领域,尤其涉及一种等离子体化学气相沉积的可调节装置。

技术介绍

[0002]以PLASMA OPTICAL FIBRE B.V.的名义的美国专利公开文献WO1999035304A1公开了同轴型共振腔结构。以德拉卡纤维技术有限公司的名义的中国专利公开文献CN1640832B公开了圆柱型共振腔结构。
[0003]高频微波源通过波导装置向等离子体共振腔发射高频微波能量,不同类型的共振腔都起到使高频微波能量在腔体无损失地传递到沉积过程。现有装置皆为固定型或半固定型装置,在适配不同尺寸沉积工件时,必须更换整体或部分装置方可配合。

技术实现思路

[0004]鉴于上述问题,本技术的目的在于解决了一种等离子体化学气相沉积的可调节装置结构复杂,不能适配不同尺寸沉积工件的问题。
[0005]本技术采用如下技术方案:所述可调节装置包括涂覆器,所述涂覆器的开有贯穿的共振腔,所述涂覆器两端对应设有可调节共振腔扼止结构大小的调节装置。
[0006]进一步的,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体化学气相沉积的可调节装置,其特征在于:所述可调节装置包括涂覆器,所述涂覆器的开有贯穿的共振腔,所述涂覆器两端对应设有可调节共振腔扼止结构大小的调节装置。2.如权利要求1所述一种等离子体化学气相沉积的可调节装置,其特征在于:所述调节装置包括若干个成环布置转动连接于涂覆器的虹膜块。3.如权利要求2所述一种等离子体化学气相沉积的可调节装置,其特征在于:所述虹膜块对应设有转轴、中间轴和连接轴,其中所述转轴连接至所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:范修远安百翔张亮沈文义
申请(专利权)人:武汉智纤科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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