一种晶元化学干燥设备制造技术

技术编号:35065210 阅读:16 留言:0更新日期:2022-09-28 11:22
本发明专利技术公开了一种晶元化学干燥设备,涉及半导体器件制造技术领域,包括处理箱和提篮,所述处理箱的顶部安装有升降组件,所述提篮固定安装于所述升降组件,所述处理箱的底部固定安装有加热机构,所述加热机构的上方固定安装有干燥箱,所述干燥箱内固定安装有脱水盘,所述脱水盘位于所述提篮的正下方,所述干燥箱的顶部固定安装有冷凝机构,所述冷凝机构位于所述提篮的正上方,所述干燥箱内装有干燥试剂。本发明专利技术通过设计加热机构、脱水盘,利用IPA蒸汽对晶元进行干燥。对晶元进行干燥。对晶元进行干燥。

【技术实现步骤摘要】
一种晶元化学干燥设备


[0001]本专利技术属于半导体器件制造
,具体为一种晶元化学干燥设备。

技术介绍

[0002]在半导体器件制造过程中,晶圆清洗及湿法腐蚀是最常用的工艺之一。在清洗及湿法腐蚀工艺之后,晶圆往往需要经过干燥处理。若干燥处理不优化的直接后果是产生水痕缺陷,对芯片的良率具有较大的影响。
[0003]现有的晶元干燥设备一般都是采用将晶元浸泡于IPA溶液内,或者直接采用物理干燥的方法对晶元进行烘干,当采用化学干燥时,当晶元被长期浸泡在IPA溶液内时,IPA溶液会损伤晶元表面的电路,长期使用,容易产生安全隐患。
[0004]为了克服上述缺陷,本领域技术人员积极创新研究,以期创设出一种晶元化学干燥设备。

技术实现思路

[0005]针对现有技术存在的问题,本专利技术提供了一种晶元化学干燥设备,以解决上述
技术介绍
中提出的化学干燥设备干燥晶元时,晶元被IPA溶液浸泡容易产生安全隐患的问题。
[0006]为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种晶元化学干燥设备,包括处理箱和提篮,所述处理箱的顶部安装有升降组件,所述提篮固定安装于所述升降组件,所述处理箱的底部固定安装有加热机构,所述加热机构的上方固定安装有干燥箱,所述干燥箱内固定安装有脱水盘,所述脱水盘位于所述提篮的正下方,所述干燥箱的顶部固定安装有冷凝机构,所述冷凝机构位于所述提篮的正上方,所述干燥箱内装有干燥试剂。利用加热机构加热干燥试剂,使干燥试剂气化,干燥试剂蒸汽流经装有晶元的提篮时,干燥试剂与晶元上的水进行结合,从而带走晶元表面的水分。
[0007]进一步地说,所述脱水盘的两侧对称设置有一对引流板,所述脱水盘的侧壁开设有引流孔,所述脱水盘的顶部设置有集液板。通过设置引流板,使干燥试剂蒸汽顺着引流板的方向进入到脱水盘内后对晶元经行干燥,通过设置集液板,结合了水分的干燥试剂能够落入到集液板上,并顺着集液板流入脱水盘的底部。
[0008]进一步地说,所述脱水盘的底部设置有集液部,所述集液部的底部设置有排液口,所述排液口通过导管与外部处理箱连通,所述集液板伸出所述引流孔的边缘。
[0009]进一步地说,所述干燥箱的一侧固定安装有排风装置,所述排风装置包括排风管、收集箱和多个排风口,所述排风管固定安装于所述处理箱且,所述排风管的一端与所述收集箱连通,所述收集箱固定安装于所述干燥箱的侧壁,所述排风口与所述收集箱连通,所述排风口固定安装于所述干燥箱的四周。通过排风装置收集冷凝装置未冷凝的干燥试剂蒸汽,从而避免高温的干燥试剂蒸汽遇到火花而闪爆。
[0010]进一步地说,所述处理箱的底部固定安装有回收箱,所述回收箱设置有出液口和回液口,所述出液口和所述回液口皆通过导管与所述干燥箱相连。
[0011]进一步地说,所述冷凝装置包括冷凝管和收集槽,所述收集槽位于所述冷凝管的下方,所述收集槽的底部呈圆弧形,所述收集槽的底部设置收集管。
[0012]进一步地说,所述升降组件包括丝杆和升降架,所述丝杆固定安装于所述处理箱,所述丝杆上啮合有丝杆升降机,所述丝杆升降机上固定安装有升降架。
[0013]进一步地说,所述处理箱的内部固定安装有液位管,所述液位管为U型,所述液位管内固定安装有液位传感器。
[0014]进一步地说,所述加热机构包括壳体,所述壳体内固定安装有多个加热棒。
[0015]进一步地说,所述处理箱和所述干燥箱内固定安装有温度传感器。
[0016]本专利技术的有益效果是:
[0017]1.本专利技术的干燥设备,利用IPA蒸汽对晶元进行干燥,从而避免晶元长期浸泡在IPA溶液内,具体的说,是利用加热机构加热干燥试剂,然后利用向上运动的干燥试剂蒸汽流经装有晶元的提篮时,干燥试剂蒸汽与晶元表面的水分结合,并在重力的作用下落到脱水盘内,从而达到干燥晶元的目的;
[0018]2.本专利技术的脱水盘设置有倾斜的引流板,通过引流板控制干燥试剂蒸汽向上扩散的方向,使干燥试剂蒸汽能够集中流经晶元,提高干燥试剂蒸汽干燥晶元的效率,在脱水盘中还倾斜设置有集液板,集液板能够收集与水分结合后的干燥试剂蒸汽,由于集液板的长度超过了与引流板连通的引流孔的边缘,向上运动的干燥试剂蒸汽不会受到下落的干燥试剂的影响;
[0019]3.本专利技术的干燥设备设计有排风装置,在干燥箱的四周都分布有排风装置的排风口,利用排风装置收集冷凝装置未冷凝的干燥试剂蒸汽,从而避免高温的干燥试剂蒸汽遇到火花而闪爆,保证整个整个设备运动的安全性;
[0020]4.本专利技术的干燥设备设计有温度传感器和回收箱,通过温度传感器实时监测干燥试剂蒸汽和干燥试剂液体的问题,当干燥试剂温度超过安全温度时,通过关闭加热机构和回收箱内水泵的动作,将干燥试剂回收到回收箱内,然后利用回收箱内冷却装置的动作,达到给干燥试剂降温的目的,从而使干燥箱内的干燥试剂和干燥试剂蒸汽处于合适的工作温度区间。
[0021]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述,为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0022]图1是本专利技术的结构示意图;
[0023]图2是本专利技术的另一视角的结构示意图;
[0024]图3是本专利技术的内部结构示意图;
[0025]图4是本专利技术的剖视图;
[0026]图5是本专利技术的脱水盘的结构示意图;
[0027]图6是本专利技术加热机构的结构示意图;
[0028]图7是本专利技术排风装置的结构示意图;
[0029]图8是本专利技术冷凝机构的结构示意图;
[0030]附图中各部分标记如下:
[0031]1处理箱、2提篮、3升降组件、31丝杆、32升降架、4加热机构、41壳体、42加热棒、5干燥箱、6脱水盘、61引流板、62引流孔、63集液板、64集液部、65排液口、7冷凝机构、71冷凝管、72收集槽、8干燥试剂、9排风装置、91排风管、92收集箱、93排风口、10回收箱、11液位管。
具体实施方式
[0032]以下通过特定的具体实施例说明本专利技术的具体实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本专利技术的优点及功效。本专利技术也可以其它不同的方式予以实施,即,在不背离本专利技术所揭示的范畴下,能予不同的修饰与改变。
[0033]在本专利技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0034]在本专利技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“设置”应做广义理解,例如,可以是固定相连、设置,也可以是本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶元化学干燥设备,其特征在于:包括处理箱和提篮,所述处理箱的顶部安装有升降组件,所述提篮固定安装于所述升降组件,所述处理箱的底部固定安装有加热机构,所述加热机构的上方固定安装有干燥箱,所述干燥箱内固定安装有脱水盘,所述脱水盘位于所述提篮的正下方,所述干燥箱的顶部固定安装有冷凝机构,所述冷凝机构位于所述提篮的正上方,所述干燥箱内装有干燥试剂。2.根据权利要求1所述的一种晶元化学干燥设备,其特征在于:所述脱水盘的两侧对称设置有一对引流板,所述脱水盘的侧壁开设有引流孔,所述脱水盘的顶部设置有集液板。3.根据权利要求2所述的一种晶元化学干燥设备,其特征在于:所述脱水盘的底部设置有集液部,所述集液部的底部设置有排液口,所述排液口通过导管与外部处理箱连通,所述集液板伸出所述引流孔的边缘。4.根据权利要求1所述的一种晶元化学干燥设备,其特征在于:所述干燥箱的一侧固定安装有排风装置,所述排风装置包括排风管、收集箱和多个排风口,所述排风管固定安装于所述处理箱且所述排风管的一端与所述收集箱连通,所述收集箱固定安装于所述干燥箱的侧壁,所述排风口与所述收...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈铁龙程龙祥张振林智颖欧赵旺
申请(专利权)人:苏州睿智源自动化科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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