基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线制造技术

技术编号:35030850 阅读:12 留言:0更新日期:2022-09-24 23:04
本发明专利技术属于天线技术领域,公开了一种基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,包括由上向下依次排列的辐射单元、介质层、接地平面,以及短路壁和同轴馈线;短路壁一端与辐射单元连接,另一端穿过介质层和接地平面连接;同轴馈线一端与辐射单元连接,另一端穿过介质层和接地平面后与馈源连接进行馈电;辐射单元、接地平面平行设置,辐射单元中心处刻蚀有缝隙加载结构,接地平面上刻蚀有缺陷地结构。本发明专利技术用于实现PIFA天线的多频及小型化,具有结构简单,加工方便,易于集成的优势。易于集成的优势。易于集成的优势。

【技术实现步骤摘要】
基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线


[0001]本专利技术属于天线
,涉及一种基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线。

技术介绍

[0002]移动通信技术的迅速发展,对手机天线的性能要求越来越高,小型化、内置化、多频带、宽频带、智能化成为对现代手机天线的要求。PIFA天线是目前手机内置天线应用最广的一类天线,具有质量轻、体积小、易于制作等优点。PIFA 天线主要包括四个部分:辐射单元、接地平面、短路壁和同轴馈线。其中,接地平面是天线的反射面,辐射单元与接地面平行,辐射单元和接地平面用短路壁相连,信号的传输利用同轴馈线。普通的PIFA天线一般尺寸较大、频率单一、频带较窄,这可能会阻碍PIFA天线在移动通信技术中的应用,因此对PIFA天线在增加天线带宽和減小尺寸等方面进行改进尤为重要。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的,是要提供一种基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,通过在辐射单元上刻蚀缝隙加载结构,接地平面上刻蚀缺陷地结构,拓宽了PIFA天线的带宽,实现了PIFA天线的多频及小型化。
[0004]本专利技术为实现上述目的,所采用的技术方案如下:一种基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,它包括由上向下依次排列的辐射单元、介质层、接地平面,以及短路壁和同轴馈线;其特征在于,所述短路壁一端与辐射单元连接,另一端穿过介质层和接地平面连接;同轴馈线一端与辐射单元连接,另一端穿过介质层和接地平面后与馈源连接进行馈电;所述辐射单元、接地平面平行设置,辐射单元中心处刻蚀有缝隙加载结构,接地平面上刻蚀有缺陷地结构。
[0005]作为限定,所述辐射单元与接地平面均为矩形,短路壁一端与辐射单元宽边边缘连接,另一端穿过介质层和接地平面连接。
[0006]作为进一步限定,所述辐射单元长Lp=32~50 mm,宽Wp=26~32 mm;接地平面长Lg=100~130 mm,宽Wg=45~55mm;辐射单元和接地平面的间隔H=7~11mm。
[0007]作为再进一步限定,所述缝隙加载结构包括若干个U型缝隙,缺陷地结构包括若干个U型槽。
[0008]作为第二种限定,所述缝隙加载结构包括第一U型缝隙,缺陷地结构包括第一U型槽,第一U型缝隙和第一U型槽沿辐射单元长边方向有5~10cm位置偏移量。
[0009]作为进一步限定,所述第一U型缝隙长L1=25~30 mm,宽W1=22~30 mm;第一U型槽长L2=26~32 mm,宽W2=30~35 mm。
[0010]作为再进一步限定,所述缺陷地结构还包括第二U型槽,第二U型槽套设在第一U型槽内。
[0011]作为更进一步限定,所述第二U型槽长L3=18~21 mm,宽W3=15~25 mm。
[0012]作为第三种限定,所述介质层采用空气层或泡沫层。
[0013]作为第四种限定,所述同轴馈线的阻抗是 50欧姆。
[0014]本专利技术由于采用了上述的技术方案,其与现有技术相比,所取得的技术进步在于:(1)本专利技术通过在接地平面上刻蚀缺陷地结构,增加了电流的有效路径,并有效减小了天线的尺寸,实现PIFA天线的小型化;(2)本专利技术通过在接地平面上刻蚀缺陷地结构,有效改善了PIFA天线的带宽,破坏了电磁带隙的完整性,增加了PIFA天线的谐振点达到天线的多频化;(3)本专利技术中辐射单元与接地平面均为矩形,在使用时可以容易确定同轴馈线以及缝隙加载结构、缺陷地结构开槽的位置;(4)本专利技术通过设置第一U型缝隙,第一U型槽,可以改善PIFA天线带宽较窄的缺点,通过进一步设置第二U型槽,可以在保证带宽的基础上实现多频;(5)本专利技术结构简单,加工方便,易于集成。
[0015]本专利技术属于天线
,用于实现PIFA天线的多频及小型化。
附图说明
[0016]图1所示为本专利技术实施例1的结构示意图;图2所示为本专利技术实施例1的侧视图;图3所示为本专利技术实施例1中辐射单元的结构示意图;图4所示为本专利技术实施例1中接地平面的结构示意图;图5所示为本专利技术实施例1基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线与未加缺陷地结构的相对带宽的对比图;图6所示为本专利技术实施例2的结构示意图;图7所示为本专利技术实施例2中接地平面的结构示意图;图8所示为本专利技术实施例2基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线的相对带宽图。
[0017]图中:1、辐射单元;2、介质层;3、接地平面;4、短路壁;5、同轴馈线;6、第一U型缝隙;7、第一U型槽;8、第二U型槽。
具体实施方式
[0018]为了更好的解释本专利技术,以便于理解,下面结合附图,通过具体实施方式,对本专利技术作详细描述。
[0019]实施例1 基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线如图1及图2所示,本实施例包括辐射单元1、介质层2、接地平面3、短路壁4和同轴馈线5。辐射单元1、介质层2、接地平面3由上向下依次排列;辐射单元1与接地平面3均设置为矩形,短路壁4一端与辐射单元1短边边缘的一角连接,另一端穿过介质层2和接地平面3连接;同轴馈线5一端与辐射单元1连接,另一端穿过介质层2和接地平面3后与馈源连接进行馈电;其中介质层2采用空气层,同轴馈线5的阻抗是 50欧姆,同轴馈线5由两个同轴的圆柱导体构成,两个圆柱导体之间填充媒介为空气。
[0020]如图3及图4所示,辐射单元1、接地平面3平行设置,辐射单元1中心处对称刻蚀有缝隙加载结构,接地平面3上刻蚀有缺陷地结构,缺陷地结构靠近同轴馈线5。其中,缝隙加
载结构包括第一U型缝隙6,缺陷地结构包括第一U型槽7,第一U型缝隙6与第一U型槽7沿辐射单元1长边方向有5cm位置偏移量,宽边方向位置一致。
[0021]本实施例中,辐射单元1长Lp=32~50 mm,宽Wp=26~32 mm;接地平面3长Lg=100~130 mm,宽Wg=45~55 mm;辐射单元1和接地平面3的间隔H=7~11 mm。第一U型缝隙6长L1=25~30 mm,宽W1=22~30 mm;第一U型槽7长L2=26~32 mm,宽W2=30~35 mm。
[0022]图中,该天线的具体尺寸为:辐射单元1长Lp=32 mm,宽Wp=30 mm;接地平面3长Lg=110 mm,宽Wg=45 mm;辐射单元1和接地平面3的间隔H=7 mm。第一U型缝隙6长L1=28 mm,宽W1=23 mm;第一U型槽7长L2=32 mm,宽W2=30 mm。
[0023]将本实施例提供的缺陷地的多频宽带化PIFA天线与接地平面3上未加载缺陷地结构,其余条件相同的PIFA天线相比,得到结果如图5所示。由图5可知,在0.9GHz处,相对带宽由原来的13%提升到27%,1.8GHz处,相对带宽由原来的4%提升到10%,同时辐射单元1的尺寸所减了15%,说明将缺陷地结构应用到PIFA天线的接地平面3中,极大的改善了PIFA天线窄带宽的缺点,同时实现的PIFA天线多频化及小型化。
[0024]本实施例中,介质层2还可以采用泡沫层。第一U型缝隙6与第一U型槽7沿辐射单元1长边方向的位置偏移量可本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,它包括由上向下依次排列的辐射单元、介质层、接地平面,以及短路壁和同轴馈线;其特征在于,所述短路壁一端与辐射单元连接,另一端穿过介质层和接地平面连接;同轴馈线一端与辐射单元连接,另一端穿过介质层和接地平面后与馈源连接进行馈电;所述辐射单元、接地平面平行设置,辐射单元中心处刻蚀有缝隙加载结构,接地平面上刻蚀有缺陷地结构。2.根据权利要求1所述的基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,其特征在于,所述辐射单元与接地平面均为矩形,短路壁一端与辐射单元宽边边缘连接,另一端穿过介质层和接地平面连接。3.根据权利要求2所述的基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,其特征在于,所述辐射单元长Lp=32~50 mm,宽Wp=26~32 mm;接地平面长Lg=100~130 mm,宽Wg=45~55mm;辐射单元和接地平面的间隔H=7~11mm。4.根据权利要求3所述的基于缺陷地的多频宽带化PIFA天线,其特征在于,所述缝隙加载结构包括若干个U型缝隙,缺陷地结构包括若干个U...

【专利技术属性】
技术研发人员:饶毅恒王思远王浩马国坤万厚钊
申请(专利权)人:湖北江城实验室
类型:发明
国别省市:

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