基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构制造技术

本实用新型专利技术公开了化学气相沉淀技术领域的基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，包括沉淀室、承接环、覆盖环和移动板，覆盖环的底部设有第二环板，第二环板内侧设有多个卡槽，基座上对应设有多个转动槽，转动槽中设有卡接组件，且多个卡接组件与移动板连接，本实用新型专利技术通过将基板、承接环和覆盖环放置到对应位置，第一电磁铁和第二电磁铁通电相吸，使移动板带动卡接组件上移，并通过卡接组件中的卡爪与覆盖环上卡槽的底面接触，使覆盖环位置固定，进而使承接环和基板位置固定；通过使第一电磁铁和第二电磁铁断电，即可使卡接组件与卡槽脱离，从而能够取出承接环和覆盖环，使得承接环和覆盖环更换简单方便。和覆盖环更换简单方便。和覆盖环更换简单方便。

【技术实现步骤摘要】
基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构


[0001]本技术涉及化学气相沉淀
，具体为基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构。

技术介绍

[0002]化学气相沉积是一种化工技术，主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。在气相沉积过程中，在沉淀室中设置基座，并在基座上设有用于稳定放置基板的夹环结构，即沉积环，沉积环通常包括承接环和覆盖环，通过承接环放置基板，通过覆盖环覆盖承接环和基座的一部分，以接收大量的沉积膜，减少在基座和承接环上形成的沉积膜，并通过覆盖环和承接环的作用，避免基板背面和侧壁成膜。
[0003]为了提高承接环和覆盖环的位置稳定性，会在基座上设置多个螺纹结构或者卡扣结构等，在对承接环和覆盖环进行安装或拆卸时，需要对多个结构进行操作，导致使用不方便。
[0004]基于此，本技术设计了基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，包括沉淀室、基座、承接环和覆盖环，基座的底面中心处固定有支撑轴，且支撑轴的底端与沉淀室的底面连接，承接环位于基座上，且顶面中心处设有基板，承接环的顶面外侧固定有环形凸台，且底部固定有第一环板，基座的顶面对应设有环形槽，且第一环板滑动连接于环形槽中，覆盖环位于承接环的上方，且底面与承接环的凸台顶面接触，覆盖环的底面外侧固定有第二环板，第二环板与基座的外侧壁滑动连接，且第二环板的内侧面底部沿圆周方向均匀设有多个卡槽；
[0007]基座的侧壁上沿圆周方向均匀设有多个转动槽，转动槽与卡槽一一对应，且转动槽中设有卡接组件，基座的下方设有移动板，多个卡接组件的底部与移动板的顶面对应连接，移动板的中心处固定有滑动筒，且滑动筒滑动连接于支撑轴的上部，基座的底面固定有环形的第一电磁铁，移动板的顶面固定有环形的第二电磁铁，且第一电磁铁和第二电磁铁电连接有电源和开关。
[0008]优选的，卡接组件包括与转动槽内侧滑动连接的弹簧块，且弹簧块的顶面和转动槽的顶面之间设有弹簧，弹簧块的外侧面上沿竖直方向均匀固定有多个齿牙，且底面外侧固定有竖直的移动杆，移动杆的底端穿过并伸出基座，与移动板的顶面固定连接，转动槽的外侧段转动连接有转动轴，转动轴上固定有卡爪，卡爪向外侧倾斜，转动轴上还固定有转动
齿轮，且转动齿轮与弹簧块上的齿牙啮合。
[0009]优选的，承接环的凸台顶面设有环形的凹槽，凹槽的两侧壁均向外倾斜，且凸台、凹槽和承接环三者圆心重合，通过设置凹槽，减小承接环和覆盖环的接触面积，减少覆盖环换和承接环的粘接等问题。
[0010]优选的，覆盖环的底面对应凸台的位置设有压槽，压槽的两侧壁向外倾斜，且凸台的两侧对应设为倾斜面，压槽的两侧壁与凸台上对应侧的倾斜面接触，且覆盖环的内环侧壁与基板的侧壁接触，使覆盖环紧压在承接环上，对承接环进行固定。
[0011]优选的，支撑轴的底部与沉淀室的底面转动连接，且底端伸出沉淀室，并固定有第二锥齿轮，第二锥齿轮的一侧啮合有第一锥齿轮，第一锥齿轮连接有电机，且电机固定于沉淀室的底面，在进行气相沉淀时，通过电机以及第一锥齿轮和第二锥齿轮使支撑轴带动基座及其上的结构转动，从而使基板与沉淀室内部的气体接触更加均匀。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术通过将基板、承接环和覆盖环放置到对应位置，第一电磁铁和第二电磁铁通电相吸，使移动板带动卡接组件上移，并使卡接组件中的卡爪向外转动，与覆盖环上卡槽的底面接触，并紧压在卡槽的底面，使覆盖环位置固定，进而使承接环和基板位置固定；通过使第一电磁铁和第二电磁铁断电，即可使卡接组件与卡槽脱离，从而能够取出承接环和覆盖环，使得承接环和覆盖环更换简单方便。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为本技术结构示意图；
[0015]图2为本技术基座的结构示意图；
[0016]图3为本技术承接环的结构示意图；
[0017]图4为本技术覆盖环的结构示意图；
[0018]图5为本技术转动槽的结构示意图。
[0019]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0020]1‑
沉淀室，2
‑
基板，3
‑
基座，301
‑
支撑轴，302
‑
第一锥齿轮，303
‑ꢀ
环形槽，304
‑
第一电磁铁，305
‑
转动槽，4
‑
承接环，401
‑
凸台，402
‑
凹槽，403
‑
第一环板，5
‑
覆盖环，501
‑
第二环板，502
‑
压槽，503
‑
卡槽， 6
‑
移动板，601
‑
第二电磁铁，602
‑
移动杆，603
‑
弹簧块，604
‑
转动齿轮， 605
‑
卡爪。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]实施例一
[0023]请参阅附图，本技术提供一种技术方案：基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，包括沉淀室1、基座3、承接环4和覆盖环5，基座3的底面中心处固定有支撑轴301，且支撑轴301的底端与沉淀室 1的底面连接，承接环4位于基座3上，且顶面中心处设有基板2，承接环4的顶面外侧固定有环形凸台401，且底部固定有第一环板403，基座3的顶面对应设有环形槽303，且第一环板403滑动连接于环形槽 303中，覆盖环5位于承接环4的上方，且底面与承接环4的凸台401 顶面接触，覆盖环5的底面外侧固定有第二环板501，第二环板501 与基座3的外侧壁滑动连接，且第二环板501的内侧面底部沿圆周方向均匀设有多个卡槽503；
[0024]基座3的侧壁上沿圆周方向均匀设有多个转动槽305，转动槽305 与卡槽503一一对应，且转动槽305中设有卡接组件，基座3的下方设有移动板6，多个卡接组件的底部与移动板6的顶面对应本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，包括沉淀室(1)、基座(3)、承接环(4)和覆盖环(5)，其特征在于：所述基座(3)的底面中心处固定有支撑轴(301)，且支撑轴(301)的底端与沉淀室(1)的底面连接，所述承接环(4)位于基座(3)上，且顶面中心处设有基板(2)，所述承接环(4)的顶面外侧固定有环形凸台(401)，且底部固定有第一环板(403)，所述基座(3)的顶面对应设有环形槽(303)，且第一环板(403)滑动连接于环形槽(303)中，所述覆盖环(5)位于承接环(4)的上方，且底面与承接环(4)的凸台(401)顶面接触，所述覆盖环(5)的底面外侧固定有第二环板(501)，第二环板(501)与基座(3)的外侧壁滑动连接，且第二环板(501)的内侧面底部沿圆周方向均匀设有多个卡槽(503)；所述基座(3)的侧壁上沿圆周方向均匀设有多个转动槽(305)，转动槽(305)与卡槽(503)一一对应，且转动槽(305)中设有卡接组件，所述基座(3)的下方设有移动板(6)，多个卡接组件的底部与移动板(6)的顶面对应连接，所述移动板(6)的中心处固定有滑动筒，且滑动筒滑动连接于支撑轴(301)的上部，所述基座(3)的底面固定有环形的第一电磁铁(304)，移动板(6)的顶面固定有环形的第二电磁铁(601)，且第一电磁铁(304)和第二电磁铁(601)电连接有电源和开关。2.根据权利要求1所述的基于化学气相沉淀室的可更换夹环机构，其特征在于：所述卡接组件包括与转动槽(305)内侧滑动连接的弹...

【专利技术属性】
技术研发人员：何淑英，何浩梁，冯嘉荔，
申请(专利权)人：广州市鸿浩光电半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：