一种异形镀膜遮护罩和镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种异形镀膜遮护罩和镀膜设备，包括本体部和开口部，开口部可与镀膜靶材在第一方向上投影交叠，第一方向为靶材粒子的出射方向；本体部包括连接设置的第一主体部和第一辅助部，第一主体部在第一方向上与镀膜靶材不交叠，第一辅助部在第一方向上部分覆盖镀膜靶材。利用该异形镀膜遮护罩中的第一辅助部能够大幅减轻镀膜中金属靶材溅射过程中掉落镀膜机腔体中，造成产品内金属走线或电极设计不良进而导致产品品质异常；以及可以降低镀膜靶材回镀在靶材回镀区，延迟镀膜靶材使用周期，提升镀膜靶材的利用率。提升镀膜靶材的利用率。提升镀膜靶材的利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种异形镀膜遮护罩和镀膜设备


[0001]本技术涉及显示
，尤其涉及一种异性镀膜遮护罩和镀膜设备。

技术介绍

[0002]作为当今工业镀膜生产过程中一项重要的技术，磁控溅射具有低温、快速、膜层致密性高和均匀性优良等特点，在光学、平面显示、集成电路等领域发挥了重要作用。
[0003]在平面显示诸如液晶显示、有机发光显示、微发光显示(Micro LED或 Micro LED)行业和半导体行业中，此类设备包含存在众多的堆叠设置的金属膜层(例如：氧化铟锡/ITO电极层或铟镓锌/IGZO氧化物电极层)和绝缘层，金属膜层用来制备诸如阴阳极、导电走线、电容等结构，绝缘层用于隔绝相邻的金属膜层避免短路或起平坦化作用。例如，如图1所示，图 1为现有技术中的一种镀膜设备；氧化铟锡溅射设备是进行氧化铟锡镀膜时常用的设备，氧化铟锡溅射设备包括成膜装置，成膜装置包括氧化铟锡靶材和与氧化铟锡靶材结构形态配合使用的遮护罩(mask)。靶材是指可以通过磁控溅射、多弧粒子镀等镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上(玻璃、有机基板等)形成各种功能薄膜的溅射源。溅射类镀膜，是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或粒子形式被溅射出来，并且最终沉积在待电镀设备表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。遮护罩主要用于防止金属靶材溅射至氧化铟锡溅射设备腔体内部污染设备，起到一定保护设备的作用。
[0004]另外，靶材镀膜一般在镀膜机腔体内完成，镀膜效果的好坏与镀膜真空腔的清洁度关系密切，当用于镀膜的金属靶材粉末溅射入镀膜机腔体内或者污染在镀膜机体上时，会对产品品质影响大，容易造成产品内金属走线或电极设计不良进而导致产品品质异常。例如，继续参阅图1，在氧化铟锡靶材溅射镀膜过程中，靶材中的回镀区容易累积氧化铟锡粉尘或者脱落的氧化铟锡膜，会引起异常放电频发，从而导致防着板的使用寿命低，清洗成本高，设备稼动率低。因此开发一种可避免靶材飞落镀膜机腔体内的设备或方法是当下镀膜领域值得关注的技术开发方向。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本技术实施例提供了一种异形镀膜遮护罩和镀膜设备，该遮护罩能够大幅减轻镀膜中金属靶材溅射过程中掉落镀膜机腔体中，造成产品内金属走线或电极设计不良进而导致产品品质异常。
[0006]第一方面，本技术提供了一种异形镀膜遮护罩，
[0007]包括本体部和开口部，开口部可与镀膜靶材在第一方向上投影交叠，第一方向为靶材粒子的出射方向；
[0008]本体部包括连接设置的第一主体部和第一辅助部，第一主体部在第一方向上与镀膜靶材不交叠，第一辅助部在第一方向上部分覆盖镀膜靶材。
[0009]进一步地，第一辅助部与第一主体部锁合固定。
[0010]进一步地，第一辅助部与第一主体部一体成型。
[0011]第二方面，本技术提供了一种镀膜设备，包括上述的异形镀膜遮护罩，和成膜设备；成膜设备包括镀膜靶材。
[0012]进一步地，镀膜靶材包括靶材主体部和回镀区域，回镀区域至少部分围绕靶材主体部，回镀区域的外轮廓尺寸小于靶材主体部的尺寸。
[0013]进一步地，在第一方向上，第一辅助部至少部分覆盖回镀区。
[0014]进一步地，第一辅助部包括远离第一主体部的第一边界，第一主体部包括靠近第一辅助部的第二边界，第一边界与第二边界的最小距离小于等于 15mm。
[0015]进一步地，第一辅助部的厚度小于等于第一主体部的厚度。
[0016]进一步地，镀膜靶材与第一辅助部分的高度范围为8mm～10mm。
[0017]进一步地，成膜设备还包括一旋转轴，旋转轴与镀膜靶材连接，并可实现镀膜靶材的旋转。
[0018]本技术实施例提供的异形镀膜遮护罩和镀膜设备，一方面利用与靶材回镀区域尺寸配合的异形第一辅助部，可以在镀膜过程中阻挡靶材粉末掉落在靶材回镀区域，降低制程中靶材粒子对待镀设备的污染，提高产品良率；再一方面，第一辅助部还可阻挡靶材粒子回镀过程中通过遮护罩与镀膜靶材之间的缝隙掉落在镀膜设备腔体内污染腔室，减少设备保养时间，提升设备的产能和使用寿命；再一方面，通过第一辅助部还能降低镀膜靶材回镀在靶材回镀区，延迟镀膜靶材使用周期，提升镀膜靶材的利用率。
【附图说明】
[0019]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0020]图1为现有技术中的一种镀膜设备的局部结构示意图；
[0021]图2为本技术实施例提供的一种异形镀膜遮掩罩的的结构示意图；
[0022]图3为本技术实施例提供的一种镀膜设备的的膜层堆叠示意图；
[0023]图4是图3中P区域的一种局部放大结构示意图；
[0024]图5为本技术实施例提供的又一种镀膜设备的的膜层堆叠示意图；
[0025]图6是图5中Q区域的一种局部放大结构示意图；
[0026]图7为本技术实施例提供的一种镀膜工艺过程中的示意图。
【具体实施方式】
[0027]为了更好的理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术实施例进行详细描述。
[0028]应当明确，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]在本技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、
“
所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
[0030]应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0031]本技术实施例提供了一种异形镀膜遮护罩100，图2为本技术实施例提供的一种异形镀膜遮护罩的的结构示意图；如图2所示，异形镀膜遮护罩100包括本体部10和开口部12，开口部12可与靶材(图1中未示出)在第一方向Y上投影交叠，第一方向Y为靶材粒子的出射方向；本体部10包括连接设置的第一主体部11和第一辅助部111，第一主体部 11在第一方向Y上可与靶材不交叠，第一辅助部111在第一方向Y上部分覆盖靶材。
[0032]具体地，请继续参阅图2，异形镀膜遮护罩100具有本体部10和开口部12，开口部12与靶材在第一方向Y上交叠，第一方向Y为靶材粒子的出射方向；此异形镀膜遮护罩100可用在各类溅射镀膜工艺中，包括但不限于显示设备中ITO本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种异形镀膜遮护罩，其特征在于，包括本体部和开口部，所述开口部可与镀膜靶材在第一方向上投影交叠，所述第一方向为靶材粒子的出射方向；所述本体部包括连接设置的第一主体部和第一辅助部，所述第一主体部在所述第一方向上与所述镀膜靶材不交叠，所述第一辅助部在所述第一方向上部分覆盖所述镀膜靶材。2.根据权利要求1所述的异形镀膜遮护罩，其特征在于，所述第一辅助部与所述第一主体部锁合固定。3.根据权利要求1所述的异形镀膜遮护罩，其特征在于，所述第一辅助部与所述第一主体部一体成型。4.一种镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1～3任一项所述异形镀膜遮护罩，和成膜设备；所述成膜设备包括所述镀膜靶材。5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜靶材包括靶材主体部和回镀区域，所述回镀区域至少部分围绕所述靶材...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴昭宽，吴础任，
申请(专利权)人：赫曼半导体技术深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：