一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构，包括：反应室、匀流板机构、设置于反应室尾部的抽气口及设置于反应室头部的进气口，匀流板机构设置于反应室尾口且位于所述抽气口的内侧，其包括：匀流板安装钣金、法兰、第一匀流板及第二匀流板，第一匀流板和第二匀流板之间通过匀流板连接柱固定为一整体结构，匀流板安装钣金的一端与第二匀流板锁固连接，另一端固定安装在法兰上，匀流板机构通过法兰固定在反应室尾口的位置，第一匀流板上开设有若干列阵排布的匀流孔，本实用新型专利技术的匀流板机构，使得抽真空时反应室内的气流不会发生明显的乱流，降低气流部分不均对电池片制膜的影响。片制膜的影响。片制膜的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构


[0001]本技术涉及涉及TopCon工艺的管式PECVD设备的
，特别是涉及一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构。

技术介绍

[0002]太阳能电池是一种具有光
‑
电转换特性的半导体器件，它直接将太阳辐射能转换成直流电，是光伏发电的最基本单元，在太阳能收集转化过程中，太阳光照射到太阳能电池的硅片上，其中一部分太阳光会被反射，即使对将硅表面设计成绒面，虽然入射光会产生多次反射可以增加光的吸收率，但是，还是会有一部分的太阳光会被反射，据测算，光在硅表面的反射损失率高达35%左右，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，有助于提高光生电流密度，进而提高转换效率，同时薄膜中的氢对于电池片表面的钝化降低了发射结的表面复合速率，减小了暗电流，提升了开路电压，提高了光电转换效率；在烧穿工艺中的高温瞬时退火断裂了一些Si
‑
H、N
‑
H键，游离出来的H进一步加强了对电池的钝化。
[0003]薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构，包括：反应室、匀流板机构、设置于反应室尾部的抽气口及设置于应室头部的进气口，其特征在于，所述匀流板机构设置于反应室尾口且位于所述抽气口的内侧，其包括：匀流板安装钣金、法兰、第一匀流板及第二匀流板，所述第一匀流板和第二匀流板之间通过匀流板连接柱固定为一整体结构，所述匀流板安装钣金的一端与第二匀流板锁固连接，另一端固定安装在所述法兰上，所述匀流板机构通过法兰固定在反应室尾口的位置，所述第一匀流板上开设有若干列阵排布的匀流孔。2.根据权利要求1所述的一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀...

【专利技术属性】
技术研发人员：王玉明，周玉龙，刘景博，
申请(专利权)人：苏州拓升智能装备有限公司，
类型：新型
国别省市：