一种消除静电污染的真空吸笔制造技术

一种消除静电污染的真空吸笔，包括承载固定部分，连接杆和握柄，所述的承载固定部分为圆环状，所述的承载固定部分通过连接杆与握柄相连；所述的承载固定部分的上表面设有两组左、右对称分布的凹槽；两个左、右对称分布的所述凹槽的连接处的槽底部位设有真空孔；所述的连接杆和握柄中心部位设置有真空气路。设置的真空吸笔底座内设有真空吸笔放置腔，圆弧状的承载固定部分将晶圆牢牢吸附固定晶圆边缘，避免在转移过程中发生位移。圆弧装设计的承载固定部分避免与顶针发生位置冲突。通过导电线与晶圆接触后，导电线下一端接地将静电导出，消除晶圆在转移和其他工艺过程中产生的静电，避免静电污染，提高纳米压印的良率。提高纳米压印的良率。提高纳米压印的良率。

【技术实现步骤摘要】
一种消除静电污染的真空吸笔


[0001]本技术涉及纳米压印
，具体为一种消除静电污染的真空吸笔。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。随着技术的不断发展，纳米压印技术在多个领域得到了极大的应用，同时也对产品也提出了新的需求。
[0003]纳米压印包括多道工艺，主要分为工作模具的复制和纳米压印胶的压印两大步骤。
[0004]工作模具的复制主要分为工作模具材料的旋涂，工作模具的压印，曝光和脱模等过程，在复制工作模具的过程中，母版需在旋涂设备和压印设备之间转移。
[0005]工作模具复制完毕后，开始使用工作模具压印纳米压印胶。压印基底需先经过清洗处理和增粘处理，然后旋涂纳米压印胶，纳米压印胶软烘。压印基底旋涂完毕后，转移至压印设备中压印，曝光和脱模等。在压印的工艺中，压印基底需在清洗，旋涂，压印等工位之间转移。
[0006]在工作模具的复制和纳米压印胶的压印两大步骤中，晶圆在多个工位之间的转移。随着纳米压印技术的飞速发展，纳米压印产品尺寸越来越大，但元件的临界尺寸越来越小，一旦有晶圆存在颗粒(Particle)污染，将会损失相对颗粒直径较大的面积。在对晶圆进行转移和其他工艺过程中，晶圆可能带有静电，吸附环境中颗粒造成静电污染，为此我们提出一种消除静电污染的真空吸笔。

技术实现思路

[0007]本技术的目的在于消除晶圆在转移和其他工艺过程中产生的静电，避免静电污染，提高纳米压印的良率，为此我们提出一种消除静电污染的真空吸笔。
[0008]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种消除静电污染的真空吸笔，包括承载固定部分、连接杆和握柄；
[0009]所述的承载固定部分为圆环状，且承载固定部分相对于连接杆呈左、右对称分布，所述的承载固定部分通过连接杆与握柄相连；
[0010]所述的承载固定部分的上表面设有两组左、右对称分布的凹槽；
[0011]两个左、右对称分布的所述凹槽的连接处的槽底部位设有真空孔；
[0012]所述的连接杆和握柄中心部位设置有真空气路，所述的真空孔通过所述的真空气路与外界真空泵连接。
[0013]优选的，所述的握柄远离所述的承载固定部分的一端设有真空接口和导电线接口。
[0014]优选的，所述的握柄靠近所述连接杆的一端设有真空开关。
[0015]优选的，所述的承载固定部分中设置有导电线，所述的导电线经过连接杆和握柄连接到导电线接口。
[0016]优选的，还包括放置在外界纳米压印设备上的真空吸笔底座。
[0017]优选的，所述的真空吸笔底座设置有真空吸笔放置腔。
[0018]优选的，所述的真空吸笔放置腔的一侧包括由上至下设置的平滑曲面的真空吸笔滑入腔和真空开关关闭腔。
[0019]优选的，所述的开关关闭腔的底部为直角槽。
[0020]优选的，所述的导电线接口接地。
[0021]优选的，所述的握柄的外侧壁设置有用于防滑绝缘的橡胶涂层。
[0022]与现有技术相比，本技术的有益效果是：构造简单，制造成本低。圆弧状的承载固定部分将晶圆牢牢吸附固定晶圆边缘，避免在转移过程中发生位移。圆弧装设计的承载固定部分避免与顶针发生位置冲突。通过导电线与晶圆接触后，导电线下一端接地将静电导出，消除晶圆在转移和其他工艺过程中产生的静电，避免静电污染，提高纳米压印的良率。
附图说明
[0023]图1为真空吸笔放置在纳米压印设备上时的状态示意图；
[0024]图2为真空吸笔和真空吸笔底座的连接示意图；
[0025]图3为真空吸笔结构示意图；
[0026]图4为真空吸笔内部结构示意图；
[0027]图5为真空吸笔局部示意图；
[0028]图6为真空吸笔局部正视图；
[0029]图7为真空吸笔吸附晶圆的俯视图；
[0030]图8为真空吸笔吸附晶圆的正视图；
[0031]图9为真空吸笔真空开关打开状态示意图；
[0032]图10为真空吸笔放入真空吸笔底座内真空开关关闭状态示意图；
[0033]图11为真空吸笔底座的结构示意图。
[0034]图中：真空孔1，凹槽2，导电线3，承载固定部分4，连接杆5，真空开关6，握柄7，真空气路8，真空接口9，导电线接口10，真空吸笔底座11，真空吸笔放置腔12，真空吸笔滑入腔121，真空开关关闭腔122。
具体实施方式
[0035]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0036]请参阅图1
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11，本技术提供一种技术方案：一种消除静电污染的真空吸笔，包括承载固定部分4、连接杆5和握柄7；
[0037]所述的承载固定部分4为圆环状，且承载固定部分4相对于连接杆5呈左、右对称分
布，所述的承载固定部分4通过连接杆5与握柄7相连；
[0038]所述的承载固定部分4的上表面设有两组左、右对称分布的凹槽2；
[0039]两个左、右对称分布的所述凹槽2的连接处的槽底部位设有真空孔1；
[0040]所述的连接杆5和握柄7中心部位设置有真空气路8，所述的真空孔1通过所述的真空气路8与外界真空泵连接。
[0041]具体而言，所述的握柄7远离所述的承载固定部分4的一端设有真空接口9和导电线接口10。
[0042]具体而言，所述的握柄7靠近所述连接杆5的一端设有真空开关6。
[0043]具体而言，所述的承载固定部分4中设置有导电线3，所述的导电线3经过连接杆5和握柄7连接到导电线接口10。
[0044]具体而言，还包括放置在外界纳米压印设备上的真空吸笔底座11，真空吸笔底座11由螺钉固定在纳米压印设备上料口附近，用于放置真空吸笔。
[0045]具体而言，所述的真空吸笔底座11设置有真空吸笔放置腔12。
[0046]具体而言，所述的真空吸笔放置腔12的一侧包括由上至下设置的平滑曲面的真空吸笔滑入腔121和真空开关关闭腔122，便于真空吸笔的滑入以及卡住，并关闭真空开关6。
[0047]具体而言，所述的开关关闭腔122的底部为直角槽，可以更好的卡住真空开关6并且另真空开关6关闭。
[0048]具体而言，所述的导电线接口10接地。
[0049]具体而言，所述的握柄7的外侧壁设置有用于防滑绝缘的橡胶涂层，可以防止使用时滑落并且进一步起到防静电的效果。
[0050]使用过程：
[0051]S1：将真空吸笔从真空吸笔底座11取下，真空开本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种消除静电污染的真空吸笔，包括承载固定部分(4)、连接杆(5)和握柄(7)，其特征在于；所述的承载固定部分(4)为圆环状，且承载固定部分(4)相对于连接杆(5)呈左、右对称分布，所述的承载固定部分(4)通过连接杆(5)与握柄(7)相连；所述的承载固定部分(4)的上表面设有两组左、右对称分布的凹槽(2)；两个左、右对称分布的所述凹槽(2)的连接处的槽底部位设有真空孔(1)；所述的连接杆(5)和握柄(7)中心部位设置有真空气路(8)，所述的真空孔(1)通过所述的真空气路(8)与外界真空泵连接。2.根据权利要求1所述的一种消除静电污染的真空吸笔，其特征在于：所述的握柄(7)远离所述的承载固定部分(4)的一端设有真空接口(9)和导电线接口(10)。3.根据权利要求1所述的一种消除静电污染的真空吸笔，其特征在于：所述的握柄(7)靠近所述连接杆(5)的一端设有真空开关(6)。4.根据权利要求2所述的一种消除静电污染的真空吸笔，其特征在于：所述的承载固...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：