防护组件及形成倍缩光罩组件及增加防护薄膜寿命的方法技术

一种防护组件及形成倍缩光罩组件和增加防护薄膜寿命的方法，防护组件包括防护薄膜及在防护薄膜的外表面上的保形涂层。防护薄膜可由多个层形成且具有高透射率、低偏转及小微孔尺寸的组合。保形涂层旨在保护防护薄膜免受可能由于EUV曝光期间所产生的热量及氢电浆而发生的损坏。生的损坏。生的损坏。

【技术实现步骤摘要】
防护组件及形成倍缩光罩组件及增加防护薄膜寿命的方法


[0001]本公开是关于防护组件，以及形成倍缩光罩组件和增加防护薄膜寿命的方法。

技术介绍

[0002]光微影图案化制程使用包括期望遮罩图案的倍缩光罩(reticle)(亦即光罩)。倍缩光罩可为反射遮罩或透射遮罩。在制程中，紫外线光自倍缩光罩的表面反射(对于反射遮罩而言)或透射穿过倍缩光罩(对于透射遮罩而言)，以将图案转印至半导体晶圆上的光阻剂。以光化学方式改质光阻剂的已曝光部分。在曝光之后，使阻剂显影以限定阻剂中的开口，且针对晶圆表面由阻剂中的开口暴露的彼些区域执行一或多个半导体处理步骤(例如，蚀刻、磊晶层沉积、金属化等)。在此半导体处理之后，通过适当的阻剂剥离剂或其类似者去除阻剂。
[0003]图案的最小特征尺寸受光波长限制。深紫外线(ultraviolet，UV)微影(例如，在一些标准深UV平台中使用193nm或248nm的波长)通常采用透射遮罩，且和更长波长下的微影相比可提供更小的最小特征尺寸。目前使用自124纳米(nm)小至10nm的波长的极紫外光(extreme ultra本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防护组件，其特征在于，包括：一防护薄膜，具有一外表面及一内表面；以及一保形涂层，至少在该防护薄膜的该外表面上。2.根据权利要求1所述的防护组件，其特征在于，该防护薄膜包括至少一个纳米管薄膜层。3.根据权利要求2所述的防护组件，其特征在于，该至少一个纳米管薄膜层具有10nm至100nm的一厚度。4.根据权利要求2所述的防护组件，其特征在于，该至少一个纳米管薄膜层包括随机定向的纳米管或方向定向的纳米管。5.根据权利要求1所述的防护组件，其特征在于，该防护薄膜包括至少一个石墨烯薄膜层。6.根据权利要求1所述的防护组件，其特征在于，进一步包括一安装框架附接至一边框，该边框接触该防护薄膜的该内表面。7.根据权利要求6所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：许倍诚，连大成，李信昌，高蔡胜，林进祥，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：