【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法
相关申请
[0001]本申请享有以日本专利技术专利申请2021
‑
36542号(申请日：2021年3月8日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包括基础申请的全部内容。
[0002]本公开的实施方式涉及基板处理装置及基板处理方法。
技术介绍
[0003]在通过将含有金属元素的药液向基板供给而向基板供给金属元素的情况下，优选采用能够适当地向基板供给金属元素的方法。
技术实现思路
[0004]实施方式提供能够适当地向基板供给金属元素的基板处理装置及基板处理方法。
[0005]根据其中一个实施方式，基板处理装置具备混合部，其将含有金属元素的第1液体和表现出碱性的第2液体混合，生成含有所述金属元素且表现出碱性的第3液体。所述装置还具备将所述第3液体向基板供给的供给部。所述装置还具备第1流路，其将所述第3液体不经由过滤器而从所述混合部输送至所述供给部，其中，所述过滤器为从所述第3液体中去除颗粒的过滤器。
附图说明
[0006...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其具备：混合部，将含有金属元素的第1液体和表现出碱性的第2液体混合，生成含有所述金属元素且表现出碱性的第3液体；供给部，将所述第3液体向基板供给；以及第1流路，将所述第3液体不经由过滤器而从所述混合部输送至所述供给部，其中，所述过滤器为从所述第3液体中去除颗粒的过滤器。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，还具备控制部，其控制所述混合部中的所述第3液体的pH及金属浓度中的至少其中一者。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，还具备测量部，测量与所述混合部中的所述第3液体相关的值，所述控制部基于由所述测量部测量到的值，控制所述第3液体的pH及金属浓度中的至少其中一者。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，所述测量部含有测量所述第3液体的pH的pH计；以及测量所述第3液体的吸光度的吸光度仪，所述控制部基于由所述pH计测量到的pH，控制所述第3液体的pH，基于由所述吸光度仪测量到的吸光度，控制所述第3液体的金属浓度。5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述控制部控制所述第3液体的pH以使得所述第3液体的pH成为11以上。6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述控制部利用鼓泡或缓冲材料控制所述混合部中的所述第3液体的pH。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述缓冲材料包含硝酸铵、硫酸铵、氯化铵或氢氧化铵。8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述混合部含有对所述第3液体进行搅拌的搅拌机。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述金属元素为过渡金属元素或稀土类金属元素。10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述金属元素为镍(Ni)、钴(Co)、铜(Cu)、铁(Fe)、钨(W)、铝(Al)、钯(Pd)、铑(Rh)、铂(Pt)、金(Au)、银(Ag)、铅(Pb)、锰(Mn)、钌(Ru)、铬(Cr)、钛(Ti)、铌(Nb)、铱(Ir)或钽(Ta)。11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述第1液体为含有所述金属元素的离子的水溶液，所述第2液体为氨水，所述第3液体为含有具有所述金属元素的氨络合物的水溶液。12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，所述第1液体中的所述离子的浓度为1.0
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【专利技术属性】
技术研发人员：菅野裕理果，大口寿史，山本洋平，
申请(专利权)人：铠侠股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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