一种远程等离子源解离腔体组件制造技术

本发明专利技术公开了一种远程等离子源解离腔体组件，涉及等离子源解离腔体技术领域。本发明专利技术中心包裹有圆环形管状的腔室，腔体组件包括金属外壳、磁罐结构、固定卡扣结构；金属外壳采用由若干弧形壳体拼接而成的圆环形，相邻两弧形壳体之间形成的夹缝之间安装有绝缘阻隔板；磁罐结构包括加持板、刮板、中心限位套；固定卡扣结构包括梯形板、上连接刮边、下连接刮边。本发明专利技术解决了远程等离子源腔体因矩形拐角弧度过小的不足及缺陷，减少了因磁场分布不均造成的运动螺旋等离子体源对腔体的冲击破坏；作为散热结构的金属外壳结构精巧，散热效率高，采用固定卡扣结构进行固定，便于拆卸及组装，节省了人工及时间成本。了人工及时间成本。了人工及时间成本。

【技术实现步骤摘要】
一种远程等离子源解离腔体组件


[0001]本专利技术属于等离子源解离腔体
，特别是涉及一种远程等离子源解离腔体组件。

技术介绍

[0002]在目前的半导体生产领域，远程等离子源利用等离子源在反应区之外合成等离子体，在气流、电场、磁场等作用下将等离子体引入反应区，常用于表面改性、腔室清洗、薄膜蚀刻以及等离子辅助沉积，具体是由腔室、进气口、出气口、磁芯、点火口组成的一个远程等离子源解离腔体。远程等离子源，其功能是用于泛半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用含氟的化合物当做氟的原材料气体进入腔室内，并在交变电场和磁场的作用下，原材料气体将会被解离，并释放出氟自由基，活性离子F
‑
进入工艺室内与工艺室内的污染材料，如氧化硅、氮化硅等发生反应，并将生成的气化新物质由真空泵抽出工艺室，从而保证工艺室的清洁。
[0003]现有的远程等离子源解离腔体具有如下缺点：(1)结构复杂，配件繁多，不易组装，并且较硬铝制材料的腔室外表面易遭到破坏，大大降低了腔室的使用寿命；(2)腔室外套的导磁磁芯多个分立，导致磁场分布不均匀，因此等离子体运动弧度较小，受到的磁场约束较弱，导致等离子体与腔室内壁发生过多接触，降低了腔体的使用寿命，使远程等离子源腔体产生粉尘颗粒污染降低清洁能力，导致芯片生产良率降低；(3)腔体采用多段拼接结构，使腔体气密性降低，无法保证内部清洁环境的无菌，故而降低了腔体对粉尘颗粒污染的清洁能力，腔体外部的矩形外壳，拐角由于拐角弧度过小，不利于等离子体的运动。因此，针对以上问题，提供一种远程等离子源解离腔体组件具有重要意义。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种远程等离子源解离腔体组件，解决了以上问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的：
[0006]本专利技术的一种远程等离子源解离腔体组件，中心包裹有圆环形管状的腔室，所述腔室两端分别设置有进气口及出气口；
[0007]所述腔体组件包括呈两瓣相贴合的形式包裹于腔室外周侧部的金属外壳、呈两瓣相贴合的形式包裹于贴合后金属外壳整体外部的两个对称布置的磁罐结构、安装于磁罐结构外部用于固定金属外壳以及磁罐结构使与腔室形成一体的若干固定卡扣结构；
[0008]所述金属外壳采用由若干弧形壳体拼接而成的圆环形，相邻两弧形壳体之间形成的夹缝之间安装有绝缘阻隔板；金属外壳一侧部设置有与腔室外周侧呈半容纳配合的容纳槽，所述容纳槽的两端开设有分别与进气口、出气口成半容纳配合的夹持限位缺口；
[0009]所述磁罐结构包括加持板、环绕设置于加持板一侧用于对金属外壳进行包裹的刮板、设置于加持板中心位置用于配合刮板一起对金属外壳进行包裹的中心限位套；所述加持板的另一侧开设有与固定卡扣结构相配合的限位槽，所述刮板位于相邻两限位槽之间开
设有缺口槽；
[0010]所述固定卡扣结构包括梯形板、设置于梯形板上底边的上连接刮边、设置于梯形板下底边的下连接刮边；相贴合后的两磁罐结构表面上两相对位置的限位槽上分别安装有一个固定卡扣结构，并通过连接螺栓分别穿过上连接刮边、下连接刮边上的连接孔后进行固定，实现卡扣相连。
[0011]进一步地，所述金属外壳上相对设置的两夹持限位缺口与刮板上一对相对设置的缺口槽相对应，使进气口、出气口穿过露出。
[0012]进一步地，一所述金属外壳的外表面设置有与中心孔同轴心设置的圆环形凹槽，所述圆环形凹槽内安装有同轴心设置的高压点火线圈以及高频磁场线圈；所述高压点火线圈上设置有两根点火端子；所述高频磁场线圈上设置有两个磁场线圈输出端子；所述点火端子及磁场线圈输出端子分别经金属外壳表面的引渡凹槽外露。
[0013]进一步地，所述高频磁场线圈、高压点火线圈由与圆环形凹槽相贴合的磁罐结构相贴合进行压紧。
[0014]进一步地，所述磁罐结构的加持板、刮板以及中心限位套形成压紧腔室对夹缝内的绝缘阻隔板及两侧的金属外壳进行压紧，并且限位槽上安装的固定卡扣结构正对夹缝。
[0015]进一步地，所述绝缘阻隔板采用两个拼接式板体构成，所述绝缘阻隔板整体中心位置开设有圆形通孔，两侧位于每个拼接式板体上对称开设有供高压点火线圈、高频磁场线圈环绕穿过的矩形开口。
[0016]进一步地，所述圆形通孔直径与腔室外直径一致，且绝缘阻隔板由磁罐结构的压紧腔室进行压紧。
[0017]进一步地，所述绝缘阻隔板与金属外壳的弧形壳体数量一致。
[0018]本专利技术相对于现有技术包括有以下有益效果：
[0019]1、本专利技术采用圆形的磁罐结构包裹于圆环形管状腔室的外部，磁罐结构与腔室布置有高压点火线圈以及高频磁场线圈，使磁场分布均匀，采用包裹式磁罐结构来制造磁场控制等离子体在腔体内壁做螺旋运动，包裹式磁罐磁场均匀分布，解决了远程等离子源腔体因矩形拐角弧度过小的不足及缺陷，减少了因磁场分布不均造成的运动螺旋等离子体源对腔体的冲击破坏；
[0020]2、本专利技术的金属外壳及腔室均采用为圆环形结构，并且腔室的分割部分较少，有利于等离子体在交变磁场中运动；圆环形的金属外壳减少了等离子体在腔体内部运动时与腔壁的接触几率，解决了解离腔体在损耗、清洁度、解离率等方面的不好影响；腔室为圆环形管状结构有利于等离子体在交变磁场中运动，作为散热结构的金属外壳结构精巧，散热效率高
[0021]3、本专利技术的磁罐结构及金属外壳具体是采用固定卡扣结构进行固定，便于拆卸及组装，节省了人工及时间成本。
[0022]当然，实施本专利技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领
域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1为本专利技术一种远程等离子源解离腔体组件与腔室安装结合后的结构示意图；
[0025]图2为图1中A视角的结构示意图；
[0026]图3为图1的结构主视图；
[0027]图4为图1的结构俯视图；
[0028]图5为图4中的B
‑
B剖面视图；
[0029]图6为图5的结构主视图；
[0030]图7为腔室的结构示意图；
[0031]图8为两个磁罐结构相贴合后形成的结构示意图；
[0032]图9为图8的结构主视图；
[0033]图10为单个磁罐结构的结构示意图；
[0034]图11为图1中去掉磁罐结构、固定卡扣结构后的结构示意图；
[0035]图12为图11中去掉腔室后的结构俯视图；
[0036]图13为图12中去掉高压点火线圈、高频磁场线圈以及一个弧形壳体后的结构示意图；
[0037]图14为图13中C视角的结构示意图；
[0038]图15为图13中去掉一个金属外壳后的结构示意图；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种远程等离子源解离腔体组件，中心包裹有圆环形管状的腔室(1)，所述腔室(1)两端分别设置有进气口(101)及出气口(102)，其特征在于：所述腔体组件包括呈两瓣相贴合的形式包裹于腔室(1)外周侧部的金属外壳(3)、呈两瓣相贴合的形式包裹于贴合后金属外壳(3)整体外部的两个对称布置的磁罐结构(2)、安装于磁罐结构(2)外部用于固定金属外壳(3)以及磁罐结构(2)使与腔室(1)形成一体的若干固定卡扣结构(4)；所述金属外壳(3)采用由若干弧形壳体拼接而成的圆环形，相邻两弧形壳体之间形成的夹缝(304)之间安装有绝缘阻隔板(5)；金属外壳(3)一侧部设置有与腔室(1)外周侧呈半容纳配合的容纳槽(303)，所述容纳槽(303)的两端开设有分别与进气口(101)、出气口(102)成半容纳配合的夹持限位缺口(301)；所述磁罐结构(2)包括加持板(201)、环绕设置于加持板(201)一侧用于对金属外壳(3)进行包裹的刮板(202)、设置于加持板(201)中心位置用于配合刮板(202)一起对金属外壳(3)进行包裹的中心限位套(204)；所述加持板(201)的另一侧开设有与固定卡扣结构(4)相配合的限位槽(205)，所述刮板(202)位于相邻两限位槽(205)之间开设有缺口槽(203)；所述固定卡扣结构(4)包括梯形板(401)、设置于梯形板(401)上底边的上连接刮边(402)、设置于梯形板(401)下底边的下连接刮边(404)；相贴合后的两磁罐结构(2)表面上两相对位置的限位槽(205)上分别安装有一个固定卡扣结构(4)，并通过连接螺栓分别穿过上连接刮边(402)、下连接刮边(404)上的连接孔(403)后进行固定，实现卡扣相连。2.根据权利要求1所述的一种远程等离子源解离腔体组件，其特征在于，所述金属外壳(3)上相对设置的两夹持限位缺口(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：张德才，洪靖为，
申请(专利权)人：上海财盈半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：