一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统技术方案

本实用新型专利技术涉及生产系统，为了减少氯硅烷生产过程中的铜粉浪费，提供了一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，包括铜粉储存罐，与铜粉储存罐连接的铜粉流化床，与铜粉流化床连接的反应流化床，以及氯甲烷供应装置；铜粉流化床和反应流化床同时与氯甲烷供应装置连通。本实用新型专利技术的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，能够显著减小氯硅烷生产过程中的铜粉使用量。中的铜粉使用量。中的铜粉使用量。

【技术实现步骤摘要】
一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统


[0001]本技术涉及生产系统的
，具体而言，涉及一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统。

技术介绍

[0002]直接法合成甲基氯硅烷是以硅粉和氯甲烷为原料，在铜催化剂作用下，高温加热进行反应，生成甲基氯硅烷混合单体。
[0003]氯甲烷经气化和预热后，从气体分布器进入流化床内，以一定气速维持稳定的循环，硅粉和铜粉按一定比例从流化床下部进料口补入床内，在一定的反应温度下，催化剂铜粉在硅粉颗粒表面与Si元素结合为Si
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Cu触体后再与氯甲烷反应生成甲基氯硅烷，并随着反应的进行硅粉颗粒逐步减小，当减小到一定粒径以下时被带出。
[0004]因硅铜结合从硅粉表面进行，则铜粉粒径必须远小于硅粉才能增大接触面积并很好与硅粉结合，且流化床气速控制要优先满足托起硅粉，相对硅粉粒径小得多的铜粉就会被流化气速带出，则必须使补入的铜粉在被带出之前就与硅粉结合，依附于硅粉颗粒之上就不会被带出，而开始参与催化反应。
[0005]现目前为了提高反应效率，就需要使硅粉表面结合足够量的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，其特征在于，包括铜粉储存罐，与所述铜粉储存罐连接的铜粉流化床，与所述铜粉流化床连接的反应流化床，以及氯甲烷供应装置；所述铜粉流化床和所述反应流化床同时与所述氯甲烷供应装置连通；还包括设于所述铜粉储存罐和所述铜粉流化床之间的铜粉缓冲罐；所述铜粉流化床包括罐体，设于所述罐体内的环形的铜粉管，与所述铜粉管其中一端端部导通连接的连接管，多个开设于所述铜粉管侧壁的铜粉孔，以及设于所述罐体下端的进气管；所述连接管设于所述罐体外的一端与所述铜粉缓冲罐导通连接；所述进气管远离所述罐体的一端与所述氯甲烷供应装置导通连接。2.根据权利要求1所述的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕强，刘成彬，汪令杰，唐年华，李新欣，高帅，
申请(专利权)人：合盛硅业泸州有限公司，
类型：新型
国别省市：