一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统技术方案

本实用新型专利技术涉及生产系统，为了减少氯硅烷生产过程中的铜粉浪费，提供了一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，包括铜粉储存罐，与铜粉储存罐连接的铜粉流化床，与铜粉流化床连接的反应流化床，以及氯甲烷供应装置；铜粉流化床和反应流化床同时与氯甲烷供应装置连通。本实用新型专利技术的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，能够显著减小氯硅烷生产过程中的铜粉使用量。中的铜粉使用量。中的铜粉使用量。

【技术实现步骤摘要】
一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统


[0001]本技术涉及生产系统的
，具体而言，涉及一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统。

技术介绍

[0002]直接法合成甲基氯硅烷是以硅粉和氯甲烷为原料，在铜催化剂作用下，高温加热进行反应，生成甲基氯硅烷混合单体。
[0003]氯甲烷经气化和预热后，从气体分布器进入流化床内，以一定气速维持稳定的循环，硅粉和铜粉按一定比例从流化床下部进料口补入床内，在一定的反应温度下，催化剂铜粉在硅粉颗粒表面与Si元素结合为Si
‑
Cu触体后再与氯甲烷反应生成甲基氯硅烷，并随着反应的进行硅粉颗粒逐步减小，当减小到一定粒径以下时被带出。
[0004]因硅铜结合从硅粉表面进行，则铜粉粒径必须远小于硅粉才能增大接触面积并很好与硅粉结合，且流化床气速控制要优先满足托起硅粉，相对硅粉粒径小得多的铜粉就会被流化气速带出，则必须使补入的铜粉在被带出之前就与硅粉结合，依附于硅粉颗粒之上就不会被带出，而开始参与催化反应。
[0005]现目前为了提高反应效率，就需要使硅粉表面结合足够量的铜粉，而这样就必须加大铜粉的供给量，这样就会导致大量的铜粉浪费，不仅提高了原料成本，也提高了铜粉的回收成本。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于提供一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，其能够显著减小氯硅烷生产过程中的铜粉使用量。
[0007]本技术的实施例通过以下技术方案实现：本技术的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，包括铜粉储存罐，与所述铜粉储存罐连接的铜粉流化床，与所述铜粉流化床连接的反应流化床，以及氯甲烷供应装置；所述铜粉流化床和所述反应流化床同时与所述氯甲烷供应装置连通。
[0008]进一步地，还包括设于所述铜粉储存罐和所述铜粉流化床之间的铜粉缓冲罐。
[0009]进一步地，所述铜粉流化床包括罐体，设于所述罐体内的环形的铜粉管，与所述铜粉管其中一端端部导通连接的连接管，多个开设于所述铜粉管侧壁的铜粉孔，以及设于所述罐体下端的进气管；所述连接管设于所述罐体外的一端与所述铜粉缓冲罐导通连接；所述进气管远离所述罐体的一端与所述氯甲烷供应装置导通连接。
[0010]进一步地，所述铜粉管为螺旋形。
[0011]进一步地，所述铜粉孔开设于所述铜粉管内侧壁。
[0012]进一步地，所述铜粉孔的开口朝下设置。
[0013]进一步地，所述铜粉流化床还包括设于所述罐体内底部的导流块，以及多件连接杆；所述导流块与所述罐体内侧壁和内底壁之间均设有间隙；所述铜粉管靠近所述罐体的
内侧壁设置；所述连接杆用以连接所述导流块和所述罐体。
[0014]进一步地，所述导流块为双锥形。
[0015]本技术实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果：本技术的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，在铜粉进入反应流化床之前使其先进入铜粉流化床，然后使用氯甲烷先将铜粉流化床内的铜粉流化均匀，再进入到反应流化床中，这样不仅能够使补加铜粉的均匀度更高，而且还能够显著减少铜粉的用量，提高反应效率，降低资源浪费。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0017]图1为本技术实施例提供的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统的结构示意图；
[0018]图2为本技术实施例提供的罐体部分的结构示意图；
[0019]图3为本技术实施例提供的罐体内部的结构示意图；
[0020]图4为本技术实施例提供的铜粉管部分的结构示意图；
[0021]图5为本技术实施例提供的导流块部分的结构示意图。
[0022]图标：10
‑
铜粉储存罐，20
‑
铜粉缓冲罐，30
‑
铜粉流化床，31
‑
罐体，32
‑ꢀ
铜粉管，33
‑
连接管，34
‑
铜粉孔，35
‑
导流块，36
‑
连接杆，40
‑
反应流化床， 50
‑
氯甲烷供应装置。
具体实施方式
[0023]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0024]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，若出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0027]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术
语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0028]实施例1
[0029]以下结合具体实施例进一步说明，如附图1
‑
附图5所示，本实施例提供了氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，包括铜粉储存罐10，与铜粉储存罐10连接的铜粉流化床30，与铜粉流化床30连接的反应流化床40，以及氯甲烷供应装置50；铜粉流化床30和反应流化床40同时与氯甲烷供应装置50连通。还包括设于铜粉储存罐10和铜粉流化床之间的铜粉缓冲罐20。具体的，铜粉储存罐10内的铜粉经过铜粉缓冲罐20后进入到铜粉流化床30中，并被铜粉流化床30中的氯甲烷充分地分散后进入到反应流化床40中，由于铜粉在进入反应流化床40之前间本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统，其特征在于，包括铜粉储存罐，与所述铜粉储存罐连接的铜粉流化床，与所述铜粉流化床连接的反应流化床，以及氯甲烷供应装置；所述铜粉流化床和所述反应流化床同时与所述氯甲烷供应装置连通；还包括设于所述铜粉储存罐和所述铜粉流化床之间的铜粉缓冲罐；所述铜粉流化床包括罐体，设于所述罐体内的环形的铜粉管，与所述铜粉管其中一端端部导通连接的连接管，多个开设于所述铜粉管侧壁的铜粉孔，以及设于所述罐体下端的进气管；所述连接管设于所述罐体外的一端与所述铜粉缓冲罐导通连接；所述进气管远离所述罐体的一端与所述氯甲烷供应装置导通连接。2.根据权利要求1所述的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕强，刘成彬，汪令杰，唐年华，李新欣，高帅，
申请(专利权)人：合盛硅业泸州有限公司，
类型：新型
国别省市：