抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜技术

本发明专利技术提供一种抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜，形成于基材的表面的抗静电层具有优异的大气暴露性，因此对长期保存有效，在剥离粘合剂层时，并且，在低速的剥离速度以及高速的剥离速度下具有保持平衡的粘合力的同时，粘合剂层的抗静电性能和耐污染性能优异。在由具有透明性的树脂形成的基材膜1的一表面形成交联了含有丙烯酸类聚合物和交联剂的粘合剂组合物的粘合剂层2而形成抗静电表面保护膜10，其中，在基材膜1的另一表面形成含有作为第一抗静电剂(K1)的碳纳米管的抗静电层6，将在树脂膜3的单面层叠有含有第二抗静电剂(K2)的剥离剂层4的剥离膜5经由剥离剂层4贴合于粘合剂层2的表面。贴合于粘合剂层2的表面。贴合于粘合剂层2的表面。

【技术实现步骤摘要】
抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜


[0001]本专利技术涉及在构成液晶显示器(LCD)、有机EL显示装置等的光学部件的制造工序中使用的表面保护膜。更具体而言，本专利技术涉及通过贴附在构成液晶显示器等的例如偏振板、相位差片等的光学部件的表面上，用于保护偏振板、相位差片等的光学部件的表面的抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜。

技术介绍

[0002]一直以来，为了防止在光学部件的制造工序中的损伤或污渍附着，通常使用在基材膜的一面设置有粘合剂层的表面保护膜。表面保护膜通过微粘着力的粘合剂层贴附于诸如光学用膜等的光学部件。粘合剂层之所以要有微粘合力，是为了在从光学用膜的表面剥离而去除用完的表面保护膜时能够容易剥离，并且使得粘合剂不粘附并残留于作为被粘物的产品的光学用膜(所谓，防止残胶的发生)。
[0003]另外，作为以往技术，公开了在光学部件用表面保护膜的基材(聚酯膜)的表面层叠抗静电层，并使用导电性高分子作为抗静电层中含有的抗静电剂的技术(例如，专利文献1至3)。使用所述导电性高分子的技术的一部分目前仍在使用。
[0004]但是，若将抗静电层中含有导电性高分子的表面保护膜在大气环境中长期保存，则存在抗静电层的表面电阻率会经时变化而增加，从而使抗静电性能降低(所谓，大气暴露性差)的问题。
[0005]此外，近年来，作为光学部件的一种的偏振板的偏振子的保护层(有时也被称作保护膜)，除了以往所使用的三醋酸纤维素(TAC)以外，开始考虑使用在剥下偏振板的表面保护膜时容易产生剥离静电的材料，如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等的丙烯酸类树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等的聚酯类树脂、环状烯烃类聚合物、聚碳酸酯等(例如，专利文献4)，正在扩大使用。因此，偏振板的表面保护膜用的粘合剂层所要求的抗静电性能需要优于以往的抗静电性能。这里，TAC是三醋酸纤维素的缩写，PMMA是聚甲基丙烯酸甲酯的缩写，PET是聚对苯二甲酸乙二醇酯的缩写。
[0006]另外，在偏振板用表面保护膜的用途中，作为对成为被粘物的偏振板的偏振子的保护层的表面所实施的表面处理，实施有未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG
‑
LR处理、AG
‑
AR处理等的各种表面处理。在此，AG是指防眩光(Anti Glare)，LR是指低反射(Low Reflection)，AR是指防反射(Anti Reflection)。
[0007]如此，近年来的偏振板用表面保护膜需要应对成为被粘物的偏振板的偏振子的保护层使用各种各样的材料的状况。此外，作为光学部件用的表面保护膜的使用形式，在光学部件的各种制造工序中使用的机会越来越多的同时，在将表面保护膜贴附于光学部件的状态下长期移动保存的工序中使用的比例正在增加。另外，即使在光学部件的制造工序结束后，直到制造后的光学部件被装入液晶显示器(LCD)等设备为止之间，在将表面保护膜贴附于光学部件的状态长期保存的机会也在增加。
[0008][以往技术文件][0009][专利文献1]日本特开2006
‑
169455号公报
[0010][专利文献2]日本特开2004
‑
338379号公报
[0011][专利文献3]日本特开2004
‑
223923号公报
[0012][专利文献4]日本特开2017
‑
165086号公报

技术实现思路

[0013]如上所述，在以往技术中，若将抗静电层中含有导电性高分子的表面保护膜在大气环境中长期保存，则抗静电层的抗静电性能会经时变化而降低的问题已经明显，但目前也没有可以解决该问题的技术。
[0014]此外，在近年来的表面保护膜中，在贴合于由各种材料形成的被粘物后，从各个被粘物进行剥离的工序中，要求在高速的剥离速度下的粘合力以及低速的剥离速度下的粘合力均在预定的粘合力范围内，并且，要求粘合剂层的抗静电性能和对被粘物的耐污染性能优异。
[0015]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其技术问题在于提供一种抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜，其中，形成于基材的表面的抗静电层具有优异的大气暴露性，因此对长期保存有效，并且，在剥离粘合剂层时，在低速的剥离速度以及高速的剥离速度下具有保持平衡的粘合力的同时，粘合剂层的抗静电性能和耐污染性能优异。
[0016]本专利技术人为了解决这些问题进行了深入研究。首先，虽然若将抗静电层中含有导电性高分子的表面保护膜在大气环境中长期保存，则抗静电层的表面电阻率会经时变化而增加，从而抗静电性能降低(所谓，大气暴露性差)的现象的产生原因不清楚，但推测是因为导电性高分子被大气中的水分以及氧气氧化劣化。
[0017]于是，寻找不被大气中的水分以及氧气氧化劣化且总光线透过率以及导电率高的物质的结果，最终通过作为抗静电层的抗静电剂(K1)采用碳纳米管，解决了该技术问题。
[0018]进一步，针对另一技术问题，获得在剥离粘合剂层时，在低速的剥离速度以及高速的剥离速度下具有保持平衡的粘合力的同时，粘合剂层的抗静电性能和耐污染性能优异的抗静电表面保护膜的解决方案如下。
[0019]为了解决该技术问题，用于形成本专利技术的抗静电表面保护膜的粘合剂层的粘合剂组合物中，包含于所述粘合剂组合物的丙烯酸类聚合物是由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成。
[0020]进一步，涂布粘合剂组合物并使其干燥而层叠粘合剂层后，对该粘合剂层的表面赋予适量的在20℃下为液体的硅酮类化合物以及第二抗静电剂(K2)，由此将对被粘物的污染性抑制得低(具有耐污染性能)，并且将从作为被粘物的光学用膜剥离时的剥离静电压抑制得低，由此解决了该技术问题。
[0021]此外，为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以工序(1)～工序(4)的顺序进行制备：
[0022]工序(1)：制备粘合剂组合物的工序，所述粘合剂组合物含有丙烯酸类聚合物和交
联剂，所述丙烯酸类聚合物是由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，
[0023]所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡化合物以外的交联促进剂；
[0024]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述抗静电表面保护膜的制造方法以工序(1)～工序(4)的顺序进行制备：工序(1)：制备粘合剂组合物的工序，所述粘合剂组合物含有丙烯酸类聚合物和交联剂，所述丙烯酸类聚合物是由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡化合物以外的交联促进剂；工序(2)：在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一表面形成交联了所述粘合剂组合物的粘合剂层的工序；工序(3)：在所述基材膜的作为与所述一表面相反侧的表面的另一表面形成含有作为第一抗静电剂(K1)的碳纳米管的抗静电层的工序；以及工序(4)：将在树脂膜的单面层叠有含有第二抗静电剂(K2)的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层贴合于所述粘合剂层的表面，并使所述剥离剂层的所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面的工序，所述剥离剂层通过树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物以及所述第二抗静电剂(K2)。2.根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，将交联所述粘合剂组合物的粘合剂层以15μm的厚度层叠于厚度为38μm的聚酯膜的单面并使所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面而形成的抗静电表面保护膜被贴合于偏振板表面后，从所述偏振板剥离所述抗静电表面保护膜时，在低速的剥离速度0.3m/min下的粘合力为0.01N/25mm～0.1N/25mm，在高速的剥离速度30m/min下的粘合力为1.0N/25mm以下。3.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述基材膜的表面的所述抗静电层的初始表面电阻率为1.0
×
10
+10
Ω/
□
以下，并在23℃
×
50％RH的环境中暴露于大气的状态下保存90天后的抗静电层的表面电阻率为1.0
×
10
+10
Ω/
□
以下。4.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述粘合剂组合物或者所述丙烯酸类聚合物中的至少一个包含(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体。5.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述第二抗静电剂(K2)为碱金属盐。6.一种抗静电表面保护膜，所述抗静电表面保护膜通过在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一表面形成粘合剂层而形成，所述粘合剂层通过交联含有丙烯酸类聚合物和交联剂的粘合剂组合物而形成，其特征在于，所述丙烯酸类聚合物为由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，
所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡合化物...

【专利技术属性】
技术研发人员：长仓毅，
申请(专利权)人：藤森工业株式会社，
类型：发明
国别省市：