【技术实现步骤摘要】
一种GPP芯片沟槽蚀刻机构
[0001]本技术涉及芯片蚀刻
,特别是涉及一种GPP芯片沟槽蚀刻机构。
技术介绍
[0002]蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,也指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻类。蚀刻技术最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
[0003]蚀刻技术在芯片加工领域有着广泛的应用,目前市场上有多种不同类型的蚀刻装置,但现有蚀刻装置的蚀刻机构设计存在一定的缺陷,由于GPP芯片的整体体积较小,质量较轻,蚀刻过程大多采取静态蚀刻,静态蚀刻不仅降低了加工效率,同时也降低了加工质量。
[0004]因此亟需提供一种GPP芯片沟槽蚀刻机构来解决上述问题。 >
技术实现思路
本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种GPP芯片沟槽蚀刻机构,其特征在于:包括多功能定位机构(1),所述多功能定位机构(1)的顶部转动连接有不锈钢限位网(2),所述多功能定位机构(1)顶部后端的两侧分别设置有与不锈钢限位网(2)相对应的第一转动支架(3)和第二转动支架(4);所述不锈钢限位网(2)顶部的前端固定连接有开合板(5),所述多功能定位机构(1)顶部前端的两侧均设置有与不锈钢限位网(2)相对应的转锁紧机构(6);所述多功能定位机构(1)的顶部固定连接有连接固定机构(7)。2.根据权利要求1所述的一种GPP芯片沟槽蚀刻机构,其特征在于:所述多功能定位机构(1)包括定位板(101),所述定位板(101)的顶部开设有多个矩形定位槽(102),多个所述矩形定位槽(102)底部中心均开设有圆形定位槽(103)。3.根据权利要求2所述的一种GPP芯片沟槽蚀刻机构,其特征在于:所述圆形定位槽(103)为阶梯槽。4.根据权利要求1所述的一种GPP芯片沟槽蚀刻机构,其特征在于:所述锁紧机构(6)包括固定转轴(601)和限...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭城,吕明,李充,王永超,弭帅,张绍猛,韩仲涛,任云,
申请(专利权)人:济南科盛电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。