高透可钢双银LOW-E玻璃、中空玻璃及夹层玻璃制造技术

技术编号:34733672 阅读:90 留言:0更新日期:2022-08-31 18:23
本实用新型专利技术公开了一种高透可钢双银LOW

【技术实现步骤摘要】
高透可钢双银LOW

E玻璃、中空玻璃及夹层玻璃


[0001]本技术涉及玻璃
,尤其涉及一种高透可钢双银LOW

E玻璃、中空玻璃及夹层玻璃。

技术介绍

[0002]玻璃由于其良好的通透性,具有透光,防紫外线及防风雪的功能,成为一种优良的建筑材料被广泛用于建筑上。其中LOW

E玻璃以其美观大方的颜色、较好的质感以及优良的节能特性,在建筑幕墙领域已受到广泛应用。其中可钢LOW

E玻璃由于适用于大面积生产,具备目前最高效的生产流程,可以进行后续切、磨、钢、夹等工艺的加工,因此广受关注,成为未来LOW

E玻璃发展的大趋势。但目前的可钢LOW

E玻璃还有透过率不足的问题。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的在于提供一种高透可钢双银LOW

E玻璃、中空玻璃及夹层玻璃,旨在解决现有的可钢LOW

E玻璃透过率不足的问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提供一种高透可钢本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高透可钢双银LOW

E玻璃,其特征在于,包括层叠设置的玻璃基片层和镀膜层,所述镀膜层包括依次层叠设置的两层复合层和第三电介质层,所述复合层包括依次层叠设置的第一电介质层、第二电介质层、低辐射功能层、阻挡保护层和晶床介质层;其中,远离所述第三电介质层的所述复合层中,所述第一电介质层与所述玻璃基片层相邻设置;靠近所述第三电介质层的所述复合层中,所述晶床介质层与所述第三电介质层相邻设置,其中,所述第一电介质层为SiNx层,所述第二电介质层为ZnAlOx层,靠近所述玻璃基片层的复合层中,所述第一电介质层的厚度为10nm~20nm,靠近所述第三电介质层的复合层中,所述第一电介质层的厚度为65nm~70nm。2.如权利要求1所述的高透可钢双银LOW

E玻璃,其特征在于,所述低辐射功能层为Ag层,所述阻挡保护层为NiCr层,所述晶床介质层为AZO层。3.如权利要求2所述的高透可钢双银LOW

E玻璃,其特征在于,两层所述复合层分别为第一复合层和第二复合层,所述第一复合层与所述玻璃基片层相邻设置,所述第二复合层与所述第三电介质层相邻设置,所述第二复合层的厚度大于所述第一复合层的厚度。4.如权利要求3所述的高透可钢双银LOW

E玻璃,其特征在于,所述第三电介质层为Si...

【专利技术属性】
技术研发人员:欧阳斌刘自乾李佐鹏
申请(专利权)人:湖南旗滨节能玻璃有限公司
类型:新型
国别省市:

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