立管盖改良结构制造技术

一种立管盖改良结构，包括一座体、一螺栓、一上盖、一第一磁吸件及一第二磁吸件，其中该座体的周边向上凸设有一周壁，使内侧围成一嵌槽，中央凹设有一容槽，该容槽中设有一穿孔，该螺栓包含一螺柱穿过该穿孔及一头部容纳于该容槽之中，该上盖供嵌设于该嵌槽之中，该第一磁吸件的中央具有一内孔且结合于该容槽中央并使该内孔可供该螺栓的头部穿过，该第二磁吸件结合于该上盖的底面中央，且使该第二磁吸件可供与该第一磁吸件相对吸附；由此可使其具有美观、易于改变造形、不易脱落及防尘与防水渗入等的功效。入等的功效。入等的功效。

【技术实现步骤摘要】
立管盖改良结构


[0001]本技术涉及一种立管盖的结构方面的
，尤其涉及一种具有美观、易于改变造形、不易脱落及防尘与防水渗入等的功效的立管盖改良结构。

技术介绍

[0002]一般公知的立管盖结构，如图1所示，主要是于一盖体12的周面形成有阶级状的一环缘13供压抵于该竖管10及该立管11的顶面，以及于中央设有贯通的一穿孔14供一螺合件15穿过后与该立管11中的一星形螺帽16相互螺锁固定，其中该穿孔14的形状可配合该螺合件15的头部的形状而设成阶级状或锥状。如此，当旋紧该螺合件15时，便可使该星形螺帽16的周边咬合于该立管11的内管壁上，以使该盖体12的阶级状环缘13能够往下迫紧该竖管10，进而将该竖管10牢固地迫紧限位于该立管11上，以确保骑乘的安全性。
[0003]然而，由于该螺合件15从上向下穿过该盖体12的穿孔14中，而且由外侧可清楚看到该螺合件15的头部，因此不但较为不美观，而且整体造形单调呆板而无变化。再者，外部的灰尘或水很容易由该穿孔14侵入，进而导致该螺合件15生锈卡死的情形。
[0004]有鉴于此，本专利技术人乃针对上述的问题，而深入构思，且积极研究改良试做而开发设计出本技术。

技术实现思路

[0005]本技术的主要目的在于解决公知立管盖结构所存在的不美观、造形呆板无变化及易被灰尘与水侵入而导致生锈等的诸多问题。
[0006]本技术所述的立管盖改良结构，包括一座体、一螺栓、一上盖、一第一磁吸件及一第二磁吸件。其中，该座体顶面的周边凸设有一周壁，使该周壁内侧围成一嵌槽，该嵌槽的中央凹设有一容槽，该容槽中设有贯穿的一穿孔。该螺栓包含一螺柱及一头部，该螺柱可由上向下的穿过该穿孔，该头部可完全被该容槽所容纳。该上盖可供嵌设于该嵌槽的中，且顶面可依需要设有各种颜色、图案及形状。该第一磁吸件中央具有一内孔以使其呈环状，且结合于该容槽中央并使该内孔可供该螺栓的头部穿过。该第二磁吸件结合于该上盖的底面中央，且外径大于该第一磁吸件的内孔的孔径，使该第二磁吸件可供与该第一磁吸件相对吸附。
[0007]作为本技术的进一步改进，该容槽的周围形成有一凹槽供容纳该第一磁吸件，该上盖的底面设有一结合槽供容纳该第二磁吸件。
[0008]作为本技术的进一步改进，该第一磁吸件的顶面高于该嵌槽的槽底面，该第二磁吸件的底面与该上盖的底面齐平。
[0009]作为本技术的进一步改进，该第一磁吸件的顶面与该嵌槽的槽底面齐平，该第二磁吸件的底面凸出该上盖的底面。
[0010]作为本技术的进一步改进，该第一磁吸件的顶面高于该嵌槽的槽底面，该第二磁吸件的底面凸出该上盖的底面。
[0011]作为本技术的进一步改进，该座体的周面具有阶级状的一环缘。
[0012]作为本技术的进一步改进，该第一磁吸件及该第二磁吸件中一个为铁材质另一个为磁铁。
[0013]作为本技术的进一步改进，该第一磁吸件及该第二磁吸件皆为磁铁。
[0014]作为本技术的进一步改进，该上盖的顶面可供与该周壁的顶面齐平。
[0015]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：
[0016]本技术所提供的立管盖改良结构，可通过该上盖嵌设于该座体的该嵌槽之中，以完全遮盖住该螺栓的头部，因此可使整体较为美观。尤其是，可利用该第一磁吸件与该第二磁吸件的相对磁吸作用，而使该上盖可易于拆换，因此可方便依个人需要轻易更换具有不同颜色、图案及形状
……
等造形的上盖，而使整体的造形具有较多变化。特别是，该上盖嵌设于该嵌槽之中后，周围被该周壁所围住，因此不易受到侧向力使第一磁吸件与该第二磁吸件发生轻易脱离的状态，所以可使该上盖不易脱落。而且，通过该上盖嵌设于该座体的该嵌槽之中，可防止外部的灰尘及水侵入该螺栓与该座体的结合处，因此可避免生锈卡死的情形发生。
附图说明
[0017]图1为公知立管盖的结构示意图；
[0018]图2为本技术的立体分解示意图；
[0019]图3为本技术的立体组合示意图；
[0020]图4为本技术的组合剖面示意图；
[0021]图5为本技术的上盖的分离动作示意图；
[0022]图6为本技术的使用状态示意图；
[0023]图7为本技术的另一实施例。
[0024][先前技术][0025]10竖管
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11立管
[0026]12盖体
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13环缘
[0027]14穿孔
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15螺合件
[0028]16星形螺帽
[0029][本技术][0030]20座体
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21周壁
[0031]22嵌槽
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23容槽
[0032]24穿孔
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25凹槽
[0033]26环缘
[0034]30螺栓
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31螺柱
[0035]32头部
[0036]40上盖
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41结合槽
[0037]50第一磁吸件
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51内孔
[0038]60第二磁吸件
[0039]A环形间隙
[0040]70立管
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71竖管
[0041]710套接部
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72星形螺帽
具体实施方式
[0042]如图2至图5所示，显示本技术所述的立管盖改良结构包括一座体20、一螺栓30、一上盖40、一第一磁吸件50及一第二磁吸件60，其中：
[0043]该座体20，其顶面的周边凸设有一周壁21，使该周壁21内侧围成一嵌槽22，该嵌槽22的中央凹设有一容槽23，该容槽23中设有贯穿的一穿孔24，于该容槽23的周围形成有一凹槽25。该座体20的周面具有阶级状的一环缘26。在本技术中，该容槽23可为圆锥状或圆柱状。
[0044]该螺栓30，其包含一螺柱31及一头部32，该螺柱31可由上向下的穿过该穿孔24，该头部32完全被该容槽23所容纳。
[0045]该上盖40，其可供嵌设于该嵌槽22之中，且底面设有一结合槽41。该上盖40的顶面可依需要设有各种颜色、图案及形状
……
等的造形。在本技术中，该上盖40的顶面可供与该周壁21的顶面齐平。
[0046]该第一磁吸件50，其中央具有一内孔51，使其呈环状，且结合于该凹槽25中，使该内孔51可供该螺栓30的头部32穿过。在本实施例中，该第一磁吸件50的顶面高于该嵌槽22的槽底面。
[0047]该第二磁吸件60，其结合于该结合槽41中，且外径大于该第一磁吸件50的内孔51的孔径，以使该第二磁吸件60可供与该第一磁吸件50相对吸附。在本实施例中，该第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种立管盖改良结构，其特征在于，包括：一座体，该座体顶面的周边凸设有一周壁，使该周壁内侧围成一嵌槽，该嵌槽的中央凹设有一容槽，该容槽中设有贯穿的一穿孔；一螺栓，该螺栓包含一螺柱及一头部，该螺柱可由上向下的穿过该穿孔，该头部可完全被该容槽所容纳；一上盖，该上盖可供嵌设于该嵌槽之中，且顶面可依需要设有各种颜色、图案及形状；一第一磁吸件，该第一磁吸件中央具有一内孔以使其呈环状，且结合于该容槽中央并使该内孔可供该螺栓的头部穿过；以及一第二磁吸件，该第二磁吸件结合于该上盖的底面中央，且外径大于该第一磁吸件的内孔的孔径，使该第二磁吸件可供与该第一磁吸件相对吸附。2.如权利要求1所述的立管盖改良结构，其特征在于，该容槽的周围形成有一凹槽供容纳该第一磁吸件，该上盖的底面设有一结合槽供容纳该第二磁吸件。3.如权利要求2所述的立...

【专利技术属性】
技术研发人员：温宜玲，
申请(专利权)人：温宜玲，
类型：新型
国别省市：