用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于无掩膜光刻机的曝光镜头，包括激光照明模组、连接基体、第一反射镜、DMD组件及投影模组；连接基体具有和无掩膜光刻机的扫描方向平行的宽度方向、与宽度方向垂直的长度方向、及和宽度方向以及长度方向均垂直的第一方向，连接基体沿其长度方向的一端和激光照明模组连接，连接基体沿其第一方向的一端和投影模组连接，第一反射镜和DMD组件均设在连接基体内；激光照明模组用于将激光射出至第一反射镜，第一反射镜用于将激光射出至DMD组件，投影模组用于将DMD组件的出射光投影出去；其中，连接基体沿其宽度方向的宽度为d，d＝65mm。其结构更紧凑。本实用新型专利技术还公开了一种无掩膜光刻机。一种无掩膜光刻机。一种无掩膜光刻机。

【技术实现步骤摘要】
用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机


[0001]本技术涉及曝光镜头
，尤其涉及一种用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机。

技术介绍

[0002]无掩膜光刻机是印刷线路板制作工艺中的重要设备，为基于数字微镜器件(DMD组件)的无掩膜光刻设备。
[0003]由于DMD单场曝光的图形大小有限，一般DMD光刻需要将多个曝光镜头沿无掩膜光刻机的扫描方向进行阵列使用，采用工作台运动和DMD图像同步滚动的方式对大面积图形进行逐场多图像曝光扫描。
[0004]然而，市面上的无掩膜光刻机因受限于其本身有限的空间及曝光镜头的结构布局而无法沿扫描方向同时安装更多的曝光镜头，导致图形曝光扫描场数较多，影响扫描效率，为此，需要进行结构改进。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种用于无掩膜光刻机的曝光镜头，其结构更紧凑，能够使无掩膜光刻机沿扫描方向同时阵列安装更多的曝光镜头，继而能够提高扫描效率，本技术还提供一种无掩膜光刻机，其能够沿扫描方向同时阵列安装更多的曝光镜头，利于提高扫描效率。
[0006]本技术的目的采用如下技术方案实现：
[0007]用于无掩膜光刻机的曝光镜头，包括激光照明模组、连接基体、第一反射镜、DMD组件及投影模组；
[0008]所述连接基体具有和无掩膜光刻机的扫描方向平行的宽度方向、与所述宽度方向垂直的长度方向、及和所述宽度方向以及长度方向均垂直的第一方向，所述连接基体沿其长度方向的一端和所述激光照明模组连接，所述连接基体沿其第一方向的一端和所述投影模组连接，所述第一反射镜和所述DMD组件均设在所述连接基体内；
[0009]所述激光照明模组用于将激光射出至所述第一反射镜，所述第一反射镜用于将激光射出至所述DMD组件，所述投影模组用于将所述DMD组件的出射光投影出去；
[0010]其中，所述连接基体沿其宽度方向的宽度为d，d＝65mm。
[0011]进一步地，所述激光照明模组沿第一方向布设；
[0012]还包括：光路切换模组，所述光路切换模组具有沿第一方向布设的第一端和沿第二方向布设的第二端，所述第二方向和所述第一方向垂直，所述第一端和所述激光照明模组连接，所述第二端和所述连接基体沿其长度方向的一端连接，所述光路切换模组用于接收自所述激光照明模组沿第一方向射出的激光并将激光沿第二方向射出至所述第一反射镜。
[0013]进一步地，所述第二端和所述连接基体沿其长度方向的一端的中部连接。
[0014]进一步地，所述第二方向和所述长度方向之间呈锐角夹角，所述锐角夹角为A，5
°
≤A≤35
°
。
[0015]进一步地，A＝15
°
。
[0016]进一步地，所述连接基体沿其长度方向的一端设有安装孔，所述安装孔的长度延伸方向和所述长度方向呈所述锐角夹角，所述第二端插设在所述安装孔中。
[0017]进一步地，所述光路切换模组包括光路切换基体和第二反射镜，所述光路切换基体设有所述第一端、所述第二端及连接所述第一端和第二端的转接部，所述第二反射镜设在所述转接部内，所述第二反射镜用于接收自所述激光照明模组沿第一方向射出的激光并将激光沿第二方向射出至所述第一反射镜。
[0018]进一步地，所述光路切换模组还包括汇聚透镜，所述汇聚透镜设在所述第二端内并位于所述第一反射镜和所述第二反射镜之间，所述汇聚透镜用于对自所述第二反射镜射出的激光进行汇聚并将激光射出至所述第二反射镜。
[0019]进一步地，所述第一反射镜可活动设在所述连接基体内，所述第二反射镜可活动设在所述转接部内，以使所述第一反射镜和第二反射镜两者的位置可调。
[0020]无掩膜光刻机，包括上述的用于无掩膜光刻机的曝光镜头。
[0021]相比现有技术，本技术的有益效果在于：
[0022]本技术的用于无掩膜光刻机的曝光镜头，通过激光照明模组将激光经第一反射镜射出至DMD组件而对DMD组件进行照亮，DMD组件经激光照亮后将其上的图像通过投影模组而投影至位于投影模组下方的带有光敏表面的电路板上，使得电路板直接曝光成像，此曝光镜头在确保成像质量的前提下，通过合理布设激光照明模组、第一反射镜、连接基体和投影模组四者的位置关系，使得连接基体沿其宽度方向的宽度可以做到更小，也即使连接基体沿其宽度方向的宽度为65mm，而能够使连接基体整体结构更紧凑，在将此曝光镜头应用在无掩膜光刻机上时，能够使无掩膜光刻机沿扫描方向同时阵列安装更多的曝光镜头，使得无掩膜光刻机单场所曝光的图像信息更多，以减少曝光场数，继而能够提高扫描效率。
[0023]本技术的无掩膜光刻机，因采用了上述的曝光镜头，能够沿扫描方向同时阵列安装更多的曝光镜头，使得单场所曝光的图像信息更多，以减少曝光场数，继而能够提高扫描效率。
附图说明
[0024]图1为本技术的用于无掩膜光刻机的曝光镜头处于第一视角下的结构示意图；
[0025]图2为图1所示的用于无掩膜光刻机的曝光镜头的内部结构示意图；
[0026]图3为图1所示的用于无掩膜光刻机的曝光镜头的俯视图；
[0027]图4为图3所示的用于无掩膜光刻机的曝光镜头中B
‑
B方向的剖视图；
[0028]图5为图1所示的用于无掩膜光刻机的曝光镜头中的连接基体的结构示意图；
[0029]图6为本技术的曝光镜头安装在无掩膜光刻机上的俯视图。
[0030]图中：10、激光照明模组；11、激光器；12、匀光棒；13、准直透镜组；20、光路切换模组；21、光路切换基体；211、第一端；212、第二端；213、转接部；22、第二反射镜；23、汇聚透
镜；30、连接基体；31、安装孔；40、第一反射镜；50、DMD组件；60、投影模组。
具体实施方式
[0031]下面，结合附图以及具体实施方式，对本技术做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
[0032]参见图1
‑
图4，示出了本技术一较佳实施例的一种用于无掩膜光刻机的曝光镜头，包括激光照明模组10、连接基体30、第一反射镜40、DMD组件50及投影模组60；连接基体30具有和无掩膜光刻机的扫描方向平行的宽度方向、与宽度方向垂直的长度方向、及和宽度方向以及长度方向均垂直的第一方向，连接基体30沿其长度方向的一端和激光照明模组10连接，连接基体30沿其第一方向的一端和投影模组60连接，第一反射镜40和DMD组件50均设在连接基体30内；激光照明模组10用于将激光射出至第一反射镜40，第一反射镜40用于将激光射出至DMD组件50，投影模组60用于将DMD组件50的出射光投影出去；其中，连接基体30沿其宽度方向的宽度为d，d＝65mm。
[0033]本技术的用于无掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于无掩膜光刻机的曝光镜头，其特征在于，包括激光照明模组、连接基体、第一反射镜、DMD组件及投影模组；所述连接基体具有和无掩膜光刻机的扫描方向平行的宽度方向、与所述宽度方向垂直的长度方向、及和所述宽度方向以及长度方向均垂直的第一方向，所述连接基体沿其长度方向的一端和所述激光照明模组连接，所述连接基体沿其第一方向的一端和所述投影模组连接，所述第一反射镜和所述DMD组件均设在所述连接基体内；所述激光照明模组用于将激光射出至所述第一反射镜，所述第一反射镜用于将激光射出至所述DMD组件，所述投影模组用于将所述DMD组件的出射光投影出去；其中，所述连接基体沿其宽度方向的宽度为d，d＝65mm。2.如权利要求1所述的用于无掩膜光刻机的曝光镜头，其特征在于，所述激光照明模组沿第一方向布设；还包括：光路切换模组，所述光路切换模组具有沿第一方向布设的第一端和沿第二方向布设的第二端，所述第二方向和所述第一方向垂直，所述第一端和所述激光照明模组连接，所述第二端和所述连接基体沿其长度方向的一端连接，所述光路切换模组用于接收自所述激光照明模组沿第一方向射出的激光并将激光沿第二方向射出至所述第一反射镜。3.如权利要求2所述的用于无掩膜光刻机的曝光镜头，其特征在于，所述第二端和所述连接基体沿其长度方向的一端的中部连接。4.如权利要求3所述的用于无掩膜光刻机的曝光镜头，其特征在于，所述第二方向和所述长度方向之间呈锐角夹角，所述锐角夹角为A，5

【专利技术属性】
技术研发人员：桂立，陆永杰，
申请(专利权)人：苏州赛源光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：