信息处理装置、信息处理方法和半导体制造系统制造方法及图纸

技术编号:34598361 阅读:15 留言:0更新日期:2022-08-20 09:00
本公开的一个观点的信息处理装置具有处理器和存储装置,处理器取得从光源装置和曝光装置各装置提供的每个参数的数据和与数据相关联的时刻数据,该光源装置生成脉冲光,该曝光装置通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光,根据取得的数据和时刻数据,按照与相同的时刻数据相关联的数据的每个记录,进行区分是脉冲光被照射到晶片的曝光时的数据、还是曝光时以外的非曝光时的数据的分类,将与分类对应的属性信息关联起来,使存储装置存储与属性信息相关联的数据和时刻数据,使用从存储装置读出的数据生成图表。置读出的数据生成图表。置读出的数据生成图表。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】信息处理装置、信息处理方法和半导体制造系统


[0001]本公开涉及信息处理装置、信息处理方法和半导体制造系统。

技术介绍

[0002]近年来,在半导体曝光装置中,随着半导体集成电路的微细化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。例如,作为曝光用的气体激光装置,使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。
[0003]KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽,大约为350~400pm。因此,在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时,有时产生色差。其结果,分辨率可能降低。因此,需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此,在气体激光装置的激光谐振器内,为了使谱线宽度窄带化,有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrow Module:LNM)。下面,将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2008

98282号公报
[0007]专利文献2:国际公开第2019/043780号
[0008]专利文献3:日本特开2006

237052号公报

技术实现思路

[0009]本公开的1个观点的信息处理装置具有处理器和存储装置,其中,处理器取得光源装置和曝光装置各装置提供的每个参数的数据和与数据相关联的时刻数据,该光源装置生成脉冲光,该曝光装置通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光,处理器根据取得的数据和时刻数据,按照与相同的时刻数据相关联的数据的每个记录,进行区分是脉冲光被照射到晶片的曝光时的数据、还是曝光时以外的非曝光时的数据的分类,将表示与分类对应的属性的属性信息与记录分别关联起来,处理器使存储装置存储与属性信息相关联的数据和时刻数据,处理器使用从存储装置读出的数据生成图表。
[0010]本公开的另1个观点的信息处理方法由处理器执行,其中,信息处理方法包含以下步骤:处理器取得从光源装置和曝光装置各装置提供的每个参数的数据和与数据相关联的时刻数据,该光源装置生成脉冲光,该曝光装置通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光;处理器根据取得的数据和时刻数据,按照与相同的时刻数据相关联的数据的每个记录,进行区分是脉冲光被照射到晶片的曝光时的数据、还是曝光时以外的非曝光时的数据的分类,将表示与分类对应的属性的属性信息与记录分别关联起来;处理器使存储装置存储与属性信息相关联的数据和时刻数据;以及处理器使用从存储装置读出的数据生成图表。
[0011]本公开的另1个观点的半导体制造系统具有:光源装置,其生成脉冲光;曝光装置,其通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光;以及信息处理装置,其中,信息处理装置具有处理器和存储装置,处理器取得从光源装置和曝光装置各装置提供的每个参数的数据和与数据相关联的时刻数据,该光源装置生成脉冲光,该曝光装置通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光,处理器根据取得的数据和时刻数据,按照与相同的时刻数据相关联的数据的每个记录,进行区分是脉冲光被照射到晶片的曝光时的数据、还是曝光时以外的非曝光时的数据的分类,将表示与分类对应的属性的属性信息与记录分别关联起来,处理器使存储装置存储与属性信息相关联的数据和时刻数据,处理器使用从存储装置读出的数据生成图表。
附图说明
[0012]下面,参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。
[0013]图1概略地示出比较例的激光装置管理系统的结构例。
[0014]图2示意地示出激光装置通过突发运转而输出的脉冲激光的输出时机的一例。
[0015]图3示意地示出扫描曝光的概要。
[0016]图4是示出晶片数据收集控制部进行的针对信息处理装置的存储部的数据的写入控制的流程的一例的流程图。
[0017]图5概略地示出信息处理装置的存储部中存储的数据的一例。
[0018]图6概略地示出信息处理装置的存储部中存储的数据的一例。
[0019]图7概略地示出比较例的半导体制造系统的结构例。
[0020]图8是示出信息处理装置进行的处理的主流程的一例的流程图。
[0021]图9是示出被应用于图8的流程图中的步骤S202的处理的子流程的一例的流程图。
[0022]图10是示出被应用于图8的流程图中的步骤S203的处理的子流程的一例的流程图。
[0023]图11概略地示出映射化图像的一例。
[0024]图12是示出信息处理装置进行的处理的主流程的另一例的流程图。
[0025]图13示出由信息处理装置得到的激光装置的参数的时间线图表的显示例。
[0026]图14概略地示出实施方式1的包含图表显示装置的半导体制造系统的结构例。
[0027]图15是概略地示出图表显示装置的功能的框图。
[0028]图16是示出图表显示装置进行的处理的主流程的一例的流程图。
[0029]图17是示出被应用于图16的流程图中的步骤S302的处理的子流程的一例的流程图。
[0030]图18是示出被应用于图16的流程图中的步骤S304的处理的子流程的一例的流程图。
[0031]图19是示出被应用于图16的流程图中的步骤S305的处理的子流程的一例的流程图。
[0032]图20示出由图表显示装置生成的包含曝光/非曝光信息的表的一例。
[0033]图21概略地示出实施方式2的包含时间线图表显示装置的半导体制造系统的结构例。
[0034]图22是概略地示出时间线图表显示装置的功能的框图。
[0035]图23是示出时间线图表显示装置进行的处理的主流程的一例的流程图。
[0036]图24是示出被应用于图23的流程图中的步骤S306的处理的子流程的一例的流程图。
[0037]图25是示出被应用于图23的流程图中的步骤S308的处理的子流程的一例的流程图。
[0038]图26示出时间线图表的显示例。
[0039]图27示出分别单独对曝光时的脉冲数和非曝光时的脉冲数进行合计而得到的日线图表的一例。
[0040]图28示出分别单独对曝光时的脉冲数和非曝光时的脉冲数进行合计而得到的日线图表的另一例。
[0041]图29是概略地示出实施方式5的时间线图表显示装置的功能的框图。
[0042]图30是示出实施方式5的时间线图表显示装置的主流程的一例的流程图。
[0043]图31是由实施方式5的时间线图表显示装置显示的图表的显示例。
[0044]图32是根据仅非曝光时的数据生成的图表的显示例。
[0045]图33是同时显示将非曝光时和曝光时合起来的数据的图表以及仅非曝光时的数据的图表的显示本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种信息处理装置,其具有处理器和存储装置,其中,所述处理器取得从光源装置和曝光装置各装置提供的每个参数的数据和与所述数据相关联的时刻数据,该光源装置生成脉冲光,该曝光装置通过从所述光源装置输出的所述脉冲光对晶片进行曝光,所述处理器根据取得的所述数据和所述时刻数据,按照与相同的时刻数据相关联的所述数据的每个记录,进行区分是所述脉冲光被照射到所述晶片的曝光时的数据、还是所述曝光时以外的非曝光时的数据的分类,将表示与所述分类对应的属性的属性信息与所述记录分别关联起来,所述处理器使所述存储装置存储与所述属性信息相关联的所述数据和所述时刻数据,所述处理器使用从所述存储装置读出的数据生成图表。2.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述信息处理装置还具有显示器,所述处理器使所述图表显示于所述显示器。3.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述处理器根据所述时刻数据生成按照时间序列排列有所述记录的表。4.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述处理器根据所述时刻数据生成汇总了与多个参数有关的数据的所述记录。5.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述属性信息包含表示是所述曝光时的数据的曝光信息和表示是所述非曝光时的数据的非曝光信息,所述处理器按照每个所述记录将所述曝光信息或所述非曝光信息关联起来。6.根据权利要求5所述的信息处理装置,其中,从所述曝光装置提供的数据包含确定曝光对象的所述晶片的晶片识别信息、确定所述晶片内的扫描区域的位置的扫描编号、每个晶片的曝光开始时刻和曝光结束时刻、以及与曝光条件有关的数据,所述处理器使用作为所述晶片识别信息的晶片编号和所述扫描编号中的至少一个数据作为所述曝光信息。7.根据权利要求5所述的信息处理装置,其中,所述非曝光信息包含表示是调整振荡时的数据的信息。8.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述图表是时间线形式的图表。9.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述时间线形式的图表包含区分地表示是所述曝光时的期间、还是所述非曝光时的期间的高亮显示。10.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述处理器在所述时间线形式的图表中的与所述曝光时的期间对应的区域重叠显示确定曝光对象的所述晶片的晶片识别信息。11.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述处理器按照曝光对象的每个所述晶片,使用所述曝光时的数据生成晶片状的映射
化图像,在所述时间线形式的图表的与所述曝光时的期间对应的区域重叠显示所述映射化图像。12.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述处理器在所述时间线形式的图表的与所述非曝光时的期间对应的区域重叠显示表示是所述非曝光时的字符...

【专利技术属性】
技术研发人员:五十岚豊菊池悟阿部邦彦峰岸裕司
申请(专利权)人:极光先进雷射株式会社
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1