【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】信息处理装置、信息处理方法和半导体制造系统
[0001]本公开涉及信息处理装置、信息处理方法和半导体制造系统。
技术介绍
[0002]近年来,在半导体曝光装置中,随着半导体集成电路的微细化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。例如,作为曝光用的气体激光装置,使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。
[0003]KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽,大约为350~400pm。因此,在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时,有时产生色差。其结果,分辨率可能降低。因此,需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此,在气体激光装置的激光谐振器内,为了使谱线宽度窄带化,有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrow Module:LNM)。下面,将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2008
‑
98282号公报
[0007]专利文献2:国际公开第2019/043780号
[0008]专利文献3:日本特开2006
‑
237052号公报
技术实现思路
[0009]本公开的1个观点的信息处理装置具有处理器和存储装置, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种信息处理装置,其具有处理器和存储装置,其中,所述处理器取得从光源装置和曝光装置各装置提供的每个参数的数据和与所述数据相关联的时刻数据,该光源装置生成脉冲光,该曝光装置通过从所述光源装置输出的所述脉冲光对晶片进行曝光,所述处理器根据取得的所述数据和所述时刻数据,按照与相同的时刻数据相关联的所述数据的每个记录,进行区分是所述脉冲光被照射到所述晶片的曝光时的数据、还是所述曝光时以外的非曝光时的数据的分类,将表示与所述分类对应的属性的属性信息与所述记录分别关联起来,所述处理器使所述存储装置存储与所述属性信息相关联的所述数据和所述时刻数据,所述处理器使用从所述存储装置读出的数据生成图表。2.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述信息处理装置还具有显示器,所述处理器使所述图表显示于所述显示器。3.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述处理器根据所述时刻数据生成按照时间序列排列有所述记录的表。4.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述处理器根据所述时刻数据生成汇总了与多个参数有关的数据的所述记录。5.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述属性信息包含表示是所述曝光时的数据的曝光信息和表示是所述非曝光时的数据的非曝光信息,所述处理器按照每个所述记录将所述曝光信息或所述非曝光信息关联起来。6.根据权利要求5所述的信息处理装置,其中,从所述曝光装置提供的数据包含确定曝光对象的所述晶片的晶片识别信息、确定所述晶片内的扫描区域的位置的扫描编号、每个晶片的曝光开始时刻和曝光结束时刻、以及与曝光条件有关的数据,所述处理器使用作为所述晶片识别信息的晶片编号和所述扫描编号中的至少一个数据作为所述曝光信息。7.根据权利要求5所述的信息处理装置,其中,所述非曝光信息包含表示是调整振荡时的数据的信息。8.根据权利要求1所述的信息处理装置,其中,所述图表是时间线形式的图表。9.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述时间线形式的图表包含区分地表示是所述曝光时的期间、还是所述非曝光时的期间的高亮显示。10.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述处理器在所述时间线形式的图表中的与所述曝光时的期间对应的区域重叠显示确定曝光对象的所述晶片的晶片识别信息。11.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述处理器按照曝光对象的每个所述晶片,使用所述曝光时的数据生成晶片状的映射
化图像,在所述时间线形式的图表的与所述曝光时的期间对应的区域重叠显示所述映射化图像。12.根据权利要求8所述的信息处理装置,其中,所述处理器在所述时间线形式的图表的与所述非曝光时的期间对应的区域重叠显示表示是所述非曝光时的字符...
【专利技术属性】
技术研发人员:五十岚豊,菊池悟,阿部邦彦,峰岸裕司,
申请(专利权)人:极光先进雷射株式会社,
类型:发明
国别省市:
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