一种单晶硅片清洗用快速干燥装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单晶硅片清洗用快速干燥装置，具体涉及单晶硅干燥装置技术领域，包括干燥台，所述干燥台顶部设置有支撑板，所述支撑板顶部设置有顶板，所述顶板底部设置有干燥防灼烧机构，所述干燥防灼烧机构包括螺纹杆，所述螺纹杆一端设置有电机，所述电机外侧设置有第一固定壳，所述螺纹杆外侧设置有螺纹套，所述螺纹套底部设置有移动板，所述移动板底部设置有出风管。本实用新型专利技术通过设置干燥防灼烧机构，防止热气流一直对着同一位置吹气导致单晶硅片表面温度过高融化，提高对单晶硅片干燥时的保护效果，防止干燥过程中单晶硅片局部温度过高而导致损坏，在快速干燥的同时，提供对单晶硅片的保护。提供对单晶硅片的保护。提供对单晶硅片的保护。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片清洗用快速干燥装置


[0001]本技术涉及单晶硅干燥装置
，更具体地说，本技术涉及一种单晶硅片清洗用快速干燥装置。

技术介绍

[0002]单晶硅片是硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等，在单晶硅片生产过程中需要对硅片进行物理和化学清洗，将单晶硅片放置在不同的溶剂中进行清洗。
[0003]目前在对清洗过后的单晶硅片进行干燥时，一般直接对单晶硅片表面吹热气流，从而使单晶硅片快速干燥，然而实际干燥过程中，由于热气流一直对着单晶硅表面吹出，可能会导致单晶硅片表面局部温度过高，从而导致单晶硅片发生损坏。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的上述缺陷，本技术的实施例提供一种单晶硅片清洗用快速干燥装置，通过设置干燥防灼烧机构，防止热气流一直对着同一位置吹气导致单晶硅片表面温度过高融化，提高对单晶硅片干燥时的保护效果，防止本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片清洗用快速干燥装置，包括干燥台(1)，其特征在于：所述干燥台(1)顶部设置有支撑板(2)，所述支撑板(2)顶部设置有顶板(3)，所述顶板(3)底部设置有干燥防灼烧机构；所述干燥防灼烧机构包括螺纹杆(4)，所述螺纹杆(4)一端设置有电机(5)，所述电机(5)外侧设置有第一固定壳(6)，所述螺纹杆(4)外侧设置有螺纹套(7)，所述螺纹套(7)底部设置有移动板(8)，所述移动板(8)底部设置有出风管(9)，所述出风管(9)内部设置有电加热丝(10)，所述出风管(9)顶部设置有伸缩管(11)，所述伸缩管(11)顶部设置有热风机(12)，所述出风管(9)底部设置有下网板(13)，所述下网板(13)顶部设置有上网板(14)，所述下网板(13)顶部表面和上网板(14)底部表面均开设有固定槽(15)，所述下网板(13)和上网板(14)内部均设置有固定杆(16)，所述固定杆(16)外侧套设有弹簧(17)，所述固定杆(16)顶部设置有固定板(18)。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗用快速干燥装置，其特征在于：所述螺纹杆(4)设置在支撑板(2)一侧，所述螺纹杆(4)一端贯穿支撑板(2)并延伸至支撑板(2)一侧，所述螺纹杆(4)设置在电机(5)输出端，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：光善如，程世显，熊文金，
申请(专利权)人：安徽晶瑞新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：