基板的输送装置、成膜装置、控制方法、成膜方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供抑制输送中的基板的曲行的输送装置、成膜装置、控制方法、成膜方法。支承输送体的两侧并进行输送的输送装置具备：第1输送辊，其支承朝向输送方向的输送体的左侧，对输送体进行输送；第2输送辊，其支承朝向输送方向的输送体的右侧，对输送体进行输送；检测部件，其检测相对于基准的输送体的姿势的偏移；以及控制部件，其独立地控制第1输送辊和第2输送辊，以修正由检测部件检测出的偏移。以修正由检测部件检测出的偏移。以修正由检测部件检测出的偏移。

【技术实现步骤摘要】
基板的输送装置、成膜装置、控制方法、成膜方法


[0001]本专利技术涉及基板的输送装置、成膜装置、控制方法、成膜方法。

技术介绍

[0002]在有机EL显示器的制造中，在形成有TFT(薄膜晶体管)的基板上对有机材料进行成膜。作为有机材料的成膜方法，真空蒸镀成为主流，使用使形成有TFT的面朝下而从基板的下方朝上对蒸镀材料进行成膜的方法。有时在形成有TFT的基板上配置多个面板区域，可称为基样玻璃。近年来，基样玻璃的尺寸变大，因此，从以往的使玻璃基板静止的状态下的成膜方法开始研究一边使基板移动一边进行成膜的直列成膜方式(专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2014－141706号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]但是，在直列成膜方式的成膜装置中，难以在仅对玻璃基板进行输送的同时进行成膜，需要将玻璃基板装载在具有掩模功能的托盘上来进行输送。在直列成膜方式中，出于抑制输送中的曲行的目的而设置发挥导向功能的侧辊。存在由于与该侧辊接触而导致颗粒的产生、发生基板与托盘的偏移的课题。
[0008]鉴于上述课题，本专利技术的目的在于抑制输送中的基板的曲行。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]为了解决上述课题，根据本专利技术，输送装置支承输送体的两侧并进行输送，其中，具备：
[0011]第1输送辊，其支承朝向输送方向的所述输送体的左侧，对所述输送体进行输送；<br/>[0012]第2输送辊，其支承朝向所述输送方向的所述输送体的右侧，对所述输送体进行输送；
[0013]检测部件，其检测相对于基准的所述输送体的姿势的偏移；以及
[0014]控制部件，其独立地控制所述第1输送辊和第2输送辊，以修正由所述检测部件检测出的所述偏移。
[0015]另外，为了解决上述课题，根据本专利技术，控制方法是用于对输送体进行输送的输送装置的控制方法，其中，包括：
[0016]检测相对于基准的所述输送体的姿势的偏移的检测工序；以及
[0017]独立地控制在朝向输送体的输送方向的左侧对所述输送体进行输送的第1输送辊和在朝向所述输送方向的右侧对所述输送体进行输送的第2输送辊，以修正在所述检测工序中检测出的所述偏移的控制工序。
[0018]专利技术的效果
[0019]由此，能够抑制输送中的基板的曲行。
附图说明
[0020]图1是表示本实施方式的生产线的一例的概略图。
[0021]图2是表示由本实施方式的输送装置输送的基板的一例的图。
[0022]图3是表示由本实施方式的输送装置输送的基板的另一例的图。
[0023]图4是表示本实施方式的控制装置所执行的处理的一例的图。
[0024]图5是表示基于姿势检测传感器的基板的姿势的推定法的一例的图。
[0025]图6(A)、图6(B)是表示多个伺服马达的消耗电力的变化的一例的图。
[0026]图7是表示通过本实施方式的输送装置抑制基板的曲行的方法的图。
具体实施方式
[0027]以下，参照附图对实施方式进行详细说明。此外，以下的实施方式并不限定权利要求书涉及的专利技术。虽然在实施方式中记载了多个特征，但不一定这多个特征全部是专利技术所必需的，另外，多个特征也可以任意组合。并且，在附图中，对相同或同样的结构标注相同的附图标记，省略重复的说明。
[0028]＜第1实施方式＞
[0029]参照图1，说明本实施方式的生产线的一例。
[0030]在图1所示的生产线中，从基板投入部11投入玻璃基板7。玻璃基板7在投入时以下表面成为成膜面的方式投入到基板投入部11。投入到基板投入部11的玻璃基板7由与基板投入部11连接的未图示的真空泵减压至达到规定的压力以下。在本实施方式中，基板投入部11进行减压处理直至达到5.0
×
10
－4
Pa以下。因此，基板投入部11的腔室内容量较少的情况下，排气所花费的时间可以较少，因此，在本实施方式中，设为在基板投入部11中不进行玻璃基板的旋转。因此，玻璃基板7以使成膜面成为下表面的方式投入到基板投入部11。
[0031]本实施例中的玻璃基板7为称为第六代的基板尺寸，具体而言为1850mm
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1500mm
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0.5t的无碱玻璃。玻璃基板7装载于掩模8之上，掩模8的尺寸为2050mm
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1700mm
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50mm。若是有机EL显示器，则在玻璃基板7形成有TFT电路。若是有机EL照明，则在玻璃基板7形成有电极。
[0032]通过未图示的真空泵进行排气直至在基板投入部11中达到规定的压力以下后，通过设置在基板输送部12内的真空输送用机器人24对玻璃基板7进行输送。具体而言，打开位于基板投入部11与基板输送部12之间的称为闸阀的能够开闭的板状的阀，真空输送用机器人24接收位于基板投入部11的玻璃基板7，从而进行输送。此时，基板输送部12内的压力为比基板投入部11低的1.0
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10
－4
Pa以下。接收到玻璃基板7的真空输送用机器人24将玻璃基板7向基板输送部12内引入。将玻璃基板7引入到基板输送部12并到达规定的位置后，关闭设置于基板投入部11与基板输送部12之间的能够开闭的板状的阀。也可以根据需要而在基板输送部12设置储存玻璃基板7的缓冲部、使玻璃基板7的成膜面活化的预处理部，但在本实施方式中省略。
[0033]然后，将引入到基板输送部12的玻璃基板7向基板掩模合体部13移交。首先，从掩模返回部21或者掩模投入部20向基板掩模合体部13投入掩模8。接下来，打开设置于基板输
送部12与基板掩模合体部13之间的能够开闭的板状的阀，真空输送用机器人24将玻璃基板7向基板玻璃合体部13的未图示的基板承接件交接。玻璃基板7的交接完成后，真空输送用机器人24返回到基板输送部12内的规定位置，关闭设置于基板输送部12与基板掩模合体部13之间的能够开闭的板状的阀。接下来，玻璃基板合体部13将配置于基板承接件的玻璃基板7移动到掩模8上。
[0034]在将玻璃基板7向掩模8上配置时，玻璃基板合体部13通过对玻璃基板7和掩模8进行位置对齐的未图示的对准机构来执行位置对齐处理。在位置对齐处理中，能够采用使玻璃基板7和掩模8在基板掩模合体部13内分别进行对中后合体的方法、或在玻璃基板7和掩模8上设置位置对齐用的标记并基于图像处理进行对准动作的方法。
[0035]接下来，在放置于掩模8上的玻璃基板7之上，放置用于使掩模8与玻璃基板7紧贴的构件。具体而言，是利用了磁铁的构件或具有调整玻璃基板的形状的机构的构件。以下，将使掩模8和玻璃基板7合体后的结构称为掩模基板100。掩模8具有开口，由此，通过从掩模基板100的下方从后述的蒸镀部放出有机材料(以下，也称为蒸镀材料)，能够在后述的成膜部15中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种输送装置，所述输送装置支承输送体的两侧并进行输送，其特征在于，具备：第1输送辊，其支承朝向输送方向的所述输送体的左侧，对所述输送体进行输送；第2输送辊，其支承朝向所述输送方向的所述输送体的右侧，对所述输送体进行输送；检测部件，其检测相对于基准的所述输送体的姿势的偏移；以及控制部件，其独立地控制所述第1输送辊和第2输送辊，以修正由所述检测部件检测出的所述偏移。2.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，所述控制部件基于所述检测部件的检测结果，分别计算所述第1输送辊和第2输送辊的旋转速度的目标值，并设定对所述第1输送辊和第2输送辊的控制值以达到所述目标值。3.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，所述检测部件包括多个测距传感器，所述多个测距传感器配置在朝向所述输送方向的左右的至少任一方，所述控制部件基于所述多个测距传感器分别测定出的到所述输送体的端部的距离，检测相对于基准的所述输送体的姿势的偏移。4.根据权利要求3所述的输送装置，其特征在于，所述控制部件设定对所述第1输送辊和第2输送辊的控制值，以消除配置在朝向所述输送方向的左右的所述多个测距传感器分别测定出的到所述输送体的端部的距离之差。5.根据权利要求3所述的输送装置，其特征在于，所述控制部件基于所述多个测距传感器分别测定出的到所述输送体的端部的距离来判定所述输送体的倾斜，设定对所述第1输送辊和第2输送辊的控制值以消除所述输送体的倾斜。6.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，所述检测部件监测所述第1输送辊和所述第2输送辊的伺服马达的消耗电力，所述控制部件基于所述消耗电力来判定相对于基...

【专利技术属性】
技术研发人员：须志原友和，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：