成像系统及其操作方法技术方案

本文公开了一种方法，其包括：对于i＝1，

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】成像系统及其操作方法


[0001]本文的公开涉及辐射检测器。

技术介绍

[0002]辐射检测器是一种测量辐射的特性的装置。所述特性的示例可包括辐射的强度、相位和偏振的空间分布。所述辐射可以是与物体相互作用的辐射。例如，由辐射检测器测量的辐射可以是已经从物体穿透或从物体反射的辐射。所述辐射可以是电磁辐射，比如红外光、可见光、紫外光、X射线或γ射线。所述辐射可以是其他类型，比如α射线和β射线。辐射可包括辐射粒子，例如光子(电磁波)和亚原子粒子。

技术实现思路

[0003]本文公开一种方法，其包括：对于i＝1，
…
，N，将同一辐射检测器的像素(i)暴露于辐射(1，i)，从而在所述像素(i)中引起表观信号(1，i)，其中在所述像素(i)暴露于所述辐射(1，i)时，所述像素(i)处于温度(1，i)；对于i＝1，
…
，N，确定所述像素(i)的所述温度(1，i)；并且对于i＝1，
…
，N，根据所述表观信号(1，i)和所述温度(1，i)确定所述辐射(1，i)的实际强度(1，i)，其中N为正整数。
[0004]根据实施例，N大于1。
[0005]根据实施例，所述方法进一步包括：对于i＝1，
…
，N，将所述像素(i)暴露于辐射(2，i)，从而在所述像素(i)中引起表观信号(2，i)，其中当所述像素(i)暴露于所述辐射(2，i)时，所述像素(i)处于温度(2，i)；对于i＝1，
…
，N，确定所述像素(i)的所述温度(2，i)；并且对于i＝1，
…
，N，根据所述表观信号(2，i)和所述温度(2，i)确定所述辐射(2，i)的实际强度(2，i)。
[0006]根据实施例，所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，包括使用遍布所述辐射检测器的Q个温度计测量所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，并且Q是正整数。
[0007]根据实施例，Q＝N，并且所述Q个温度计被一对一放置在所述像素(i)，i＝1，
…
，N，处。
[0008]根据实施例，Q<N，并且所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，涉及插值。
[0009]根据实施例，所述方法进一步包括，对于i＝1，
…
，N，确定(A)入射在所述像素(i)上的辐射(i)的实际强度(i)，(B)由所述像素(i)中的所述辐射(i)引起的表观信号(i)，和(C)所述辐射(i)入射到所述像素(i)时所述像素(i)的温度(i)之间的关系式(i)，其中对于i＝1，
…
，N，所述的确定所述实际强度(1，i)是使用所述关系式(i)执行的。
[0010]根据实施例，所述的确定所述关系式(i)，i＝1，
…
，N，包括：对于i＝1，
…
，N，用所述表观信号(i)和所述温度(i)表示所述实际强度(i)的通用公式(i)，每个所述通用公式(i)，i＝1，
…
，N，具有M个系数，因此得到MxN个系数，其中M为正整数；对于i＝1，
…
，N，获取所述实际强度(i)、所述表观信号(i)和所述温度(i)的实验数据；将所述实验数据代入所述通用公式(i)，i＝1，
…
，N，因此得到MxN个系数的MxN个方程式；求解所述MxN个系数的MxN个
方程式；并且将所述MxN个系数的值代入到所述通用公式(i)，i＝1，
…
，N，中，得到分别以所述表观信号(i)，i＝1，
…
，N，和所述温度(i)，i＝1，
…
，N，表示的所述实际强度(i)，i＝1，...，N，的特定公式(i)，i＝1，...，N，并且其中对于i＝1，
…
，N，所述的使用所述关系式(i)包括使用特定公式(i)。
[0011]根据实施例，所述的确定所述关系式(i)，i＝1，
…
，N，包括通过将所述像素(i)，i＝1，
…
，N，暴露在M个已知强度的辐射中，从而获取对于i＝1，
…
，N，的所述实际强度(i)、所述表观信号(i)和所述温度(i)的实验数据。
[0012]根据实施例，所述M个辐射中的每个辐射在整个所述像素(i)，i＝1，
…
，N，中具有均匀的强度。
[0013]根据实施例，所述M个辐射中的辐射在整个所述像素(i)，i＝1，
…
，N，上具有零强度。
[0014]根据实施例，所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，包括：对于i＝1，...，N，将所述像素(i)暴露在已知实际强度(3，i)的辐射(3，i)下，从而在所述像素(i)中产生表观信号(3，i)；对于i＝1，
…
，N，利用所述关系式(i)，确定根据所述实际强度(3，i)和所述表观信号(3，i)的所述像素(i)的温度(3，i)；并且对于i＝1，
…
，N，使用所述温度(3，i)作为所述温度(1，i)的值。
[0015]根据实施例，所述的将所述像素(i)暴露于所述辐射(3，i)基本上在将所述像素(i)暴露于所述辐射(1，i)的之前或之后进行。
[0016]本文公开一种方法，其包括：对于i＝1，
…
，N，将同一辐射检测器的像素(i)暴露于辐射(1，i)，从而在所述像素(i)中引起表观信号(1，i)，其中在所述像素(i)暴露于所述辐射(1，i)时，所述像素(i)处于温度(1，i)；对于i＝1，
…
，N，确定所述像素(i)的所述温度(1，i)；并且对于i＝1，
…
，N，根据所述表观信号(1，i)和所述温度(1，i)确定所述辐射(1，i)的相同辐射特性的实际值(1，i)，其中N为正整数。
[0017]根据实施例，所述辐射特性是辐射强度、辐射相位或辐射极化。
[0018]根据实施例，N大于1。
[0019]根据实施例，所述方法进一步包括：对于i＝1，
…
，N，将所述像素(i)暴露于辐射(2，i)，从而在所述像素(i)中引起表观信号(2，i)，其中当所述像素(i)暴露于所述辐射(2，i)时，所述像素(i)处于温度(2，i)；对于i＝1，
…
，N，确定所述像素(i)的所述温度(2，i)；并且对于i＝1，
…
，N，根据所述表观信号(2，i)和所述温度(2，i)确定所述辐射(2，i)的所述辐射特性的实际值(2，i)。
[0020]根据实施例，所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，包括使用遍布所述辐射检测器的Q个温度计测量所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，并且Q是正整数。
[0021]根据实施例，Q＝N，并且其中所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，其包括：对于i＝1，
…
，N，将同一辐射检测器的像素(i)暴露于辐射(1，i)，从而在所述像素(i)中引起表观信号(1，i)，其中在所述像素(i)暴露于所述辐射(1，i)时，所述像素(i)处于温度(1，i)；对于i＝1，
…
，N，确定所述像素(i)的所述温度(1，i)；并且对于i＝1，
…
，N，根据所述表观信号(1，i)和所述温度(1，i)确定所述辐射(1，i)的实际强度(1，i)，其中N为正整数。2.如权利要求1所述的方法，其中N大于1。3.如权利要求1所述的方法，其进一步包括：对于i＝1，
…
，N，将所述像素(i)暴露于辐射(2，i)，从而在所述像素(i)中引起表观信号(2，i)，其中在所述像素(i)暴露于所述辐射(2，i)时，所述像素(i)处于温度(2，i)；对于i＝1，
…
，N，确定所述像素(i)的所述温度(2，i)；并且对于i＝1，
…
，N，根据所述表观信号(2，i)和所述温度(2，i)确定所述辐射(2，i)的实际强度(2，i)。4.如权利要求1所述的方法，其中所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，包括使用遍布所述辐射检测器的Q个温度计测量所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，并且其中Q是正整数。5.如权利要求4所述的方法，其中Q＝N，并且其中所述Q个温度计被一对一放置在所述像素(i)，i＝1，
…
，N，处。6.如权利要求4所述的方法，其中Q<N，并且其中所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，涉及插值。7.如权利要求1所述的方法，其进一步包括，对于i＝1，
…
，N，确定(A)入射在所述像素(i)上的辐射(i)的实际强度(i)，(B)由所述像素(i)中的所述辐射(i)引起的表观信号(i)，和(C)在所述辐射(i)入射到所述像素(i)时所述像素(i)的温度(i)之间的关系式(i)，其中对于i＝1，
…
，N，所述的确定所述实际强度(1，i)是使用所述关系式(i)执行的。8.如权利要求7所述的方法，其中所述的确定所述关系式(i)，i＝1，
…
，N，包括：对于i＝1，
…
，N，用所述表观信号(i)和所述温度(i)表示的所述实际强度(i)的通用公式(i)，每个所述通用公式(i)，i＝1，
…
，N，有M个系数，因此得到MxN个系数，其中M为正整数；对于i＝1，
…
，N，获取所述实际强度(i)、所述表观信号(i)和所述温度(i)的实验数据；将所述实验数据代入所述公式(i)，i＝1，
…
，N，因此得到MxN个系数的MxN个方程式；求解所述MxN个系数的MxN个方程式；并且将所述MxN个系数的值代入到所述公式(i)，i＝1，
…
，N，中，得到分别以所述表观信号(i)，i＝1，
…
，N，和所述温度(i)，i＝1，
…
，N，表示的所述实际强度(i)，i＝1，...，N，的特定
公式(i)，i＝1，...，N，并且其中对于i＝1，
…
，N，所述的使用所述关系式(i)包括使用特定公式(i)。9.如权利要求7所述的方法，其中所述的确定所述关系式(i)，i＝1，
…
，N，包括通过将所述像素(i)，i＝1，
…
，N，暴露在M个已知强度的辐射中，从而获取对于i＝1，
…
，N，的所述实际强度(i)、所述表观信号(i)和所述温度(i)的实验数据。10.如权利要求9所述的方法，其中所述M个辐射中的每个辐射在整个所述像素(i)，i＝1，
…
，N，中具有均匀的强度。11.如权利要求10所述的方法，其中所述M个辐射中的一个辐射在整个所述像素(i)，i＝1，
…
，N，上具有零强度。12.如权利要求7所述的方法，其中所述的确定所述温度(1，i)，i＝1，
…
，N，包括：对于i＝1，...，N，将所述像素(i)暴露在已知实际强度(3，i)的辐射(3，i)下，从而在所述像素(i)中产生表观信号(3，i)；对于i＝1，
…
，N，利用所述关系式(i)，确定根据所述实际强度(3，i)和所述表观信号(3，i)的所述像素(i)的温度(3，i)；并且对于i＝1，
…
，N，使用所述温度(3，i)作为所述温度(1，i)的值。13.如权利要求12所述的方法，其中所述的将所述像素(i)暴露于所述辐射(3，i)基本上在将所述像素(i)暴露于所述辐射(1，i)的之前或之后进行。14.一种方法，其包括：对于i＝1，
…
，N，将同一辐射检测器的像素(...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹培炎，
申请(专利权)人：深圳帧观德芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：