使用半导体辐射检测器的成像方法技术

本文公开了一种方法，所述方法包括：从辐射源

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用半导体辐射检测器的成像方法

技术介绍

[0001]辐射检测器可以是用于测量辐射的通量
、
空间分布
、
光谱或其他性质的设备
。
[0002]辐射检测器可用于许多应用
。
一个重要的应用是成像
。
辐射成像是一种射线照相技术，并可用于揭示非均匀组成的不透明对象
(
如人体
)
的内部结构
。
[0003]用于成像的早期辐射检测器包括照相底板和照相胶片
。
照相底板可以是具有光敏乳剂涂层的玻璃板
。
虽然照相底板被照相胶片取代了，但是由于它们提供的优质品质及其极端稳定性，它们仍可用于特殊情况
。
照相胶片可以是具有光敏乳剂涂层的塑料膜
(
例如，条或片
)。
[0004]在
20
世纪
80
年代，可光激励的磷光体板
(PSP
板
)
变得可用
。PSP
板可以包含在其晶格中具有色本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种方法，包括：从辐射源上的第一位置向场景发射辐射粒子；通过图像传感器使用仅来自所述第一位置的辐射粒子捕获所述场景的第一局部图像；从所述辐射源上的第二位置向所述场景发射所述辐射粒子，所述第二位置相对于所述场景不同于所述第一位置；通过所述图像传感器使用仅来自所述第二位置的辐射粒子捕获所述场景的第二局部图像；通过拼接所述局部图像来形成所述场景的图像；其中，所述图像传感器包括布置成条的辐射检测器；其中，所述图像传感器在所述条当中具有死区；其中，所述第一局部图像中的部分场景由落在所述图像传感器的所述死区上的仅来自所述第一位置的辐射粒子形成；其中，所述第二局部图像中的所述部分场景由落在所述图像传感器的有效区域上的仅来自所述第二位置的辐射粒子形成
。2.
根据权利要求1所述的方法，其中，所述图像传感器相对于所述场景保持静止
。3.
根据权利要求1所述的方法，其中，所述场景中的每个点都被捕获在由来自所述辐射源上的不同位置的辐射粒子形成的至少两个局部图像中
。4.
根据权利要求1所述的方法，其中，所述辐射源相对于所述场景保持静止
。5.
根据权利要求1所述的方法，其中，所述辐射源包括电子枪和电子轰击靶
。6.
根据权利要求5所述的方法，其中，所述辐射源被配置为使得来自所述电子枪的电子轰击在所述第一位置或所述第二位置处的所述电子轰击靶
。7.
根据权利要求5所述的方法，其中，所述辐射源被配置为通过相对于所述电子枪移动所述电子轰击靶来使得来自所述电子枪的电子轰击在所述第一位置或所述第二位置处的所述电子轰击靶
。8.
根据权利要求5所述的方法，其中，所述电子轰击靶被配置为倾斜
、
平移或既倾斜又平移
。9.
根据权利要求5所述的方法，其中，所述电子枪被配置为产生电子束并然后偏转所述电子束
。10.
根据权利要求5所述的方法，其中，所述电子轰击靶包括钨
。11.
根据权利要求1所述的方法，其中，所述图像传感器包括多个像素；其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹培炎，刘雨润，
申请(专利权)人：深圳帧观德芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：