用于重负载对准的平坦头部单元制造技术

一种掩模框架支撑单元，包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述突出主体包括渐缩区域和圆柱形区域。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部。所述第二直径小于所述第一直径，并且所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域。所述壳体容纳多个部件，包括与所述工作站接触的上接收板、设置在所述上接收板下方的下接收板、设置在所述下接收板与所述主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。支撑机构、和对中部件。支撑机构、和对中部件。

Flat head unit for heavy load alignment

【技术实现步骤摘要】
用于重负载对准的平坦头部单元


[0001]本说明书总体涉及电子器件制造。更具体地，本说明书涉及用于重负载对准的平坦头部单元。

技术介绍

[0002]电子器件制造设备可包括多个腔室，诸如工艺腔室和装载锁定腔室。这样的电子器件制造设备可在传送腔室中采用机器人设备，该机器人设备被配置为在多个腔室之间运输基板。在一些情况下，一起传送多个基板

技术实现思路

[0003]以下是本公开内容的简化概述，以便提供对本公开内容的一些方面的基本理解。该概述并非是本公开内容的广泛综述。该概述既不旨在标识本公开内容的关键或重要要素，也不旨在界定本公开内容的特定实现方式的任何范围或权利要求的任何范围。该概述的唯一目的是以简化形式呈现本公开内容的一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的前序。
[0004]根据一个实施方式，提供一种掩模框架支撑单元。所述掩模框架支撑单元包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸；和工作站(station)，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述突出主体包括渐缩区域(tapered region)和圆柱形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模框架支撑单元，包含：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸，所述突出主体包含渐缩区域和圆柱形区域，所述渐缩区域包含耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部，其中所述第二直径小于所述第一直径，并且其中所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部；其中所述壳体容纳多个部件，所述多个部件包含：上接收板，所述上接收板与所述工作站接触；下接收板，所述下接收板设置在所述上接收板下方；平坦头部单元移动支撑机构，所述平坦头部单元移动支撑机构设置在所述下接收板与所述突出主体之间；和对中部件。2.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述平坦头部移动支撑机构包含设置在滚珠保持器中的一组滚珠。3.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述对中部件包含一组拉伸弹簧，每个拉伸弹簧具有附接到所述壳体的第一端部和附接到对中环的第二端部。4.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述壳体是圆形壳体，并且所述平坦头部是圆形平坦头部。5.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述对中部件响应于设置在所述工作站上的负载的移除而将所述工作站对中到中间位置。6.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中：所述突出主体具有在约30mm与约50mm之间的高度和在约31.2mm与约41.2mm之间的长度；所述壳体具有在约34mm与约36mm之间的高度和在约65mm与约75mm之间的长度；并且所述工作站具有在约10mm与约16mm之间的高度和在约52mm与约60mm之间的长度。7.如权利要求6所述的掩模框架支撑单元，其中：所述突出主体具有约40.1mm的高度和约36.2mm的长度；所述壳体具有约34.75mm的高度和约70mm的长度；并且所述工作站具有约13mm的高度和约56mm的长度。8.一种系统，所述系统包含：掩模框架；对准轴，所述对准轴包含具有开口的中空圆柱体；和多个掩模框架支撑单元，所述多个掩模框架支撑单元包含平坦头部单元，所述平坦头部单元包含：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸并且经由所述开口整合在所述对准轴中；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部；
其中所述壳体容纳多个部件，所述多个部件包含：上接收板，所述上接收板与所述工作站接触；下接收板，所述下接收板设置在所述上接收板下方；平坦头部单元移动支撑机构，所述平坦头部单元移动支撑机构设置在所述下接收板与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：哈桑，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：