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一种掩模框架支撑单元，包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述突出主体包括渐缩区域和圆柱形区域。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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