一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术硅片清理技术领域，尤其是一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法，包括箱体，所述箱体的底部固定安装有支撑腿，所述箱体的内部滑动设置有第一平板和第二平板，还包括：橡胶垫，所述橡胶垫固定套设于所述第一平板和所述第二平板的边缘；驱动装置，所述驱动装置安装于所述弧形块与所述箱体之间；换气干燥装置，所述换气干燥装置安装于所述箱体的侧壁上。此装置换气干燥装置的设置，使得硅片在上料过程中能够保持硅片附近的相对独立空间，硅片在进行高温干燥之前，自动对硅片周围的气体进行置换，随后再通过通入高温的氮气对硅片进行干燥，有利于避免通过高温气流对硅片进行干燥时与硅片的表面发生氧化反应。燥时与硅片的表面发生氧化反应。燥时与硅片的表面发生氧化反应。

A drying treatment device for silicon wafer cleaning and its treatment method

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法


[0001]本专利技术硅片清理领域，尤其涉及一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法。

技术介绍

[0002]地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言，会使用具有储量优势的硅元素来制备硅片以供使用，在硅片的制造过程中，需要对制备的硅片进行清洁，在清洁后又需要对硅片进行干燥处理。
[0003]现有技术公开了部分硅片清洗方面的专利技术专利，申请号为CN202011368754.4的中国专利，公开了一种硅片干燥装置及其方法，该种硅片干燥装置及其方法包括制绒花篮传送装置、第一缓冲腔、第一低压腔、干燥腔、第二低压腔和第二缓冲腔，制绒花篮传送装置用于输送等距排放的装载硅片的制绒花篮，所述制绒花篮传送装置沿传送方向依次设置有第一缓冲腔、第一低压腔、干燥腔、第二低压腔和第二缓冲腔，各腔室之间有双侧门隔开成封闭空间，缓冲腔和低压腔分别与真空系统相连，干燥腔内置有气体过滤还原系统、加热温控系统、气体吹扫系统和水汽冷凝循环系统。
[0004]现有技术中在对硅片进行干燥处理时，经常会通过热风来进行干燥，通过高温气流带走硅片上以及硅片缝隙里的液体，然而刚制备完毕的硅片外侧不够稳定，使得硅片在高温环境中容易与空气中的氧气发生氧化反应，从而影响硅片的下一步制备，而对硅片进行干燥时需要不断的进行硅片的上下料，使得硅片难以处于封闭的环境中，从而难以避免硅片与空气中氧气的反应。为此，本专利技术提出一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法用于解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法。
[0006]为达到以上目的，本专利技术采用的技术方案为：一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法，包括箱体，所述箱体的底部固定安装有支撑腿，所述箱体的内部滑动设置有第一平板和第二平板，所述第一平板位于所述第二平板的上方，还包括：
[0007]橡胶层，所述橡胶层固定于所述箱体的内壁上；
[0008]支撑架，所述支撑架固定连接于所述第一平板和所述第二平板之间；
[0009]弧形块，两个所述弧形块对称固定于所述第一平板和所述第二平板之间的两侧；
[0010]橡胶垫，所述橡胶垫固定套设于所述第一平板和所述第二平板的边缘；
[0011]把手，两个所述把手对称固定于所述第一平板的顶部；
[0012]驱动装置，所述驱动装置安装于所述弧形块与所述箱体之间；
[0013]换气干燥装置，所述换气干燥装置安装于所述箱体的侧壁上；
[0014]其中，所述驱动装置用于驱动所述弧形块由所述箱体的顶部向所述箱体的底部移
动，所述换气干燥装置用于在所述第一平板和所述第二平板放置在所述箱体的内部后，对所述第一平板和所述第二平板之间的空气进行置换，并且在空气置换后对硅片进行干燥处理。
[0015]优选的，所述驱动装置包括两个半圆槽、两个第一安装架和两个第二安装架，两个所述半圆槽对称开设于所述箱体的两侧内壁上，两个所述第二安装架对称固定于所述箱体外壁的上方，两个所述第二安装架的底部均通过螺钉固定有电机，两个所述电机的输出轴分别贯穿两个所述第二安装架后固定有第一齿轮，两个所述第一安装架对称固定于所述箱体的顶部，两个所述第一安装架的底部均转动安装有第二齿轮，所述第二齿轮与相邻的所述第一齿轮相啮合，两个所述第二齿轮的底部均同轴固定有转轴，所述转轴位于所述半圆槽的内部，所述转轴的底部固定有第一螺杆，所述第一螺杆的底部固定有第二螺杆，所述第二螺杆的螺距小于于所述第一螺杆的螺距，两个所述弧形块的内壁上均阵列固定有与所述第一螺杆和所述第二螺杆的螺纹面适配的滑块，所述滑块滑动接触在所述第一螺杆的螺纹面上。
[0016]优选的，所述换气干燥装置包括多个通气管道、通风口、第一位置、第二位置和第三位置，所述第一位置、第二位置和第三位置分别分布在所述箱体的两侧，所述第二位置和第三位置分别对称位于所述箱体的两侧，所述箱体的第二位置和第三位置均与多个线性阵列分布的所述通气管道固定连通，所述箱体的第一位置与一个所述通气管道固定连通，所述第一位置位于所述第二位置的上方，全部所述通气管道背向所述箱体的一侧均固定连通有多个第一连通管，所述通风口贯穿开设于所述箱体的侧壁上，所述通风口与所述第一位置的所述第一连通管位于同一水平高度，所述通风口与所述第一位置的所述第一连通管之间安装有换气机构，所述换气机构用于对所述第一平板和所述第二平板安装至所述箱体内部时携带的空气进行更换，所述第二位置和所述第三位置相对的所述第一连通管位于同一水平高度，所述第二位置和所述第三位置的所述第一连通管之间安装有干燥机构，所述干燥机构用于通过高温气流对硅片进行干燥。
[0017]优选的，所述换气机构包括安装架，所述安装架固定于所述箱体的侧壁上并且位于所述通风口外圈，所述安装架的内部固定有固定板，所述固定板上阵列固定有多个第二电机，所述第二电机的输出轴贯穿所述固定板后同轴固定有风扇，所述风扇位于所述安装架的内部，所述第一位置的所述第一连通管连通外部管道输入氮气，所述通气管道的内部与所述第一平板、所述第二平板之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板移动通过所述通气管道时连通所述通气管道，在所述第一平板移动通过所述通气管道时关闭所述通气管道。
[0018]优选的，所述干燥机构包括第二连通管，所述第二连通管包括第三连接段和第四连接段，所述第三连接段与所述第三位置的所述第一连通管固定连通，所述第四连接段与所述第二位置的所述第一连通管固定连通，所述第三连接段与所述第四连接段之间共同固定连通有氮气箱，所述氮气箱的内部固定安装有热风机，所述热风机的输出端与所述第四连接段相连通，所述热风机的进气端位于所述氮气箱的内部，所述第四连接段的中部固定连通有框体，所述框体的顶部活动插设安装有干燥剂箱，所述干燥剂箱与全部所述第四连接段相连通，所述第三连接段的中部安装有冷凝机构，所述冷凝机构用于对通过所述箱体内部后湿度增加的氮气进行冷凝除水，所述通气管道的内部与所述第一平板、所述第二平
板之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板移动通过所述通气管道时连通所述通气管道，在所述第一平板移动通过所述通气管道时关闭所述通气管道。
[0019]优选的，所述冷凝机构包括多个冷凝管，全部所述冷凝管分别固定套设于所述第三连接段的外部，相邻所述冷凝管之间以及最下方所述冷凝管的底部固定连通有连接通道，所述连接通道贯穿所述第三连接段的外壁后与所述第三连接段固定连通，最下方所述连接通道的底部密封插设连通有集水箱。
[0020]优选的，所述自连通机构包括两个固定框架和四个支撑台，两个所述固定框架固定于所述通气管道的内部，两个所述固定框架之间滑动连接有移动框架，所述移动框架朝向所述箱体内部的一侧对称固定有两个连接条，与所述连接条接触的所述固定框架侧壁上贯本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗用干燥处理装置，包括箱体(1)，所述箱体(1)的底部固定安装有支撑腿(2)，所述箱体(1)的内部滑动设置有第一平板(12)和第二平板(13)，所述第一平板(12)位于所述第二平板(13)的上方，其特征在于，还包括：橡胶层(48)，所述橡胶层(48)固定于所述箱体(1)的内壁上；支撑架(15)，所述支撑架(15)固定连接于所述第一平板(12)和所述第二平板(13)之间；弧形块(57)，两个所述弧形块(57)对称固定于所述第一平板(12)和所述第二平板(13)之间的两侧；橡胶垫(14)，所述橡胶垫(14)固定套设于所述第一平板(12)和所述第二平板(13)的边缘；把手(16)，两个所述把手(16)对称固定于所述第一平板(12)的顶部；驱动装置，所述驱动装置安装于所述弧形块(57)与所述箱体(1)之间；换气干燥装置，所述换气干燥装置安装于所述箱体(1)的侧壁上；其中，所述驱动装置用于驱动所述弧形块(57)由所述箱体(1)的顶部向所述箱体(1)的底部移动，所述换气干燥装置用于在所述第一平板(12)和所述第二平板(13)放置在所述箱体(1)的内部后，对所述第一平板(12)和所述第二平板(13)之间的空气进行置换，并且在空气置换后对硅片进行干燥处理。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述驱动装置包括两个半圆槽(3)、两个第一安装架(4)和两个第二安装架(5)，两个所述半圆槽(3)对称开设于所述箱体(1)的两侧内壁上，两个所述第二安装架(5)对称固定于所述箱体(1)外壁的上方，两个所述第二安装架(5)的底部均通过螺钉固定有电机(6)，两个所述电机(6)的输出轴分别贯穿两个所述第二安装架(5)后固定有第一齿轮(7)，两个所述第一安装架(4)对称固定于所述箱体(1)的顶部，两个所述第一安装架(4)的底部均转动安装有第二齿轮(8)，所述第二齿轮(8)与相邻的所述第一齿轮(7)相啮合，两个所述第二齿轮(8)的底部均同轴固定有转轴(9)，所述转轴(9)位于所述半圆槽(3)的内部，所述转轴(9)的底部固定有第一螺杆(10)，所述第一螺杆(10)的底部固定有第二螺杆(11)，所述第二螺杆(11)的螺距小于于所述第一螺杆(10)的螺距，两个所述弧形块(57)的内壁上均阵列固定有与所述第一螺杆(10)和所述第二螺杆(11)的螺纹面适配的滑块(56)，所述滑块(56)滑动接触在所述第一螺杆(10)的螺纹面上。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述换气干燥装置包括多个通气管道(32)、通风口(43)、第一位置(3301)、第二位置(3302)和第三位置(3303)，所述第一位置(3301)、第二位置(3302)和第三位置(3303)分别分布在所述箱体(1)的两侧，所述第二位置(3302)和第三位置(3303)分别对称位于所述箱体(1)的两侧，所述箱体(1)的第二位置(3302)和第三位置(3303)均与多个线性阵列分布的所述通气管道(32)固定连通，所述箱体(1)的第一位置(3301)与一个所述通气管道(32)固定连通，所述第一位置(3301)位于所述第二位置(3302)的上方，全部所述通气管道(32)背向所述箱体(1)的一侧均固定连通有多个第一连通管(33)，所述通风口(43)贯穿开设于所述箱体(1)的侧壁上，所述通风口(43)与所述第一位置(3301)的所述第一连通管(33)位于同一水平高度，所述通风口(43)与所述第一位置(3301)的所述第一连通管(33)之间安装有换气机构，所述换气机构
用于对所述第一平板(12)和所述第二平板(13)安装至所述箱体(1)内部时携带的空气进行更换，所述第二位置(3302)和所述第三位置(3303)相对的所述第一连通管(33)位于同一水平高度，所述第二位置(3302)和所述第三位置(3303)的所述第一连通管(33)之间安装有干燥机构，所述干燥机构用于通过高温气流对硅片进行干燥。4.根据权利要求3所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述换气机构包括安装架(44)，所述安装架(44)固定于所述箱体(1)的侧壁上并且位于所述通风口(43)外圈，所述安装架(44)的内部固定有固定板(45)，所述固定板(45)上阵列固定有多个第二电机(46)，所述第二电机(46)的输出轴贯穿所述固定板(45)后同轴固定有风扇(47)，所述风扇(47)位于所述安装架(44)的内部，所述第一位置(3301)的所述第一连通管(33)连通外部管道输入氮气，所述通气管道(32)的内部与所述第一平板(12)、所述第二平板(13)之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板(13)移动通过所述通气管道(32)时连通所述通气管道(32)，在所述第一平板(12)移动通过所述通气管道(32)时关闭所述通气管道(32)。5.根据权利要求3所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述干燥机构包括第二连通管(42)，所述第二连通管(42)包括第三连接段(4201)和第四连接段(4202)，所述第三连接段(4201...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵红武，崔志刚，范磊，
申请(专利权)人：武汉芯致半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：